Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
vexillo_paginae

Nuntii

  • Introductio Systematis Obductionis Vacui

    Systema obductionis vacui est technologia adhibita ad pelliculam tenuem vel obductionem superficiei in ambitu vacuo applicandam. Hic processus obductionem altae qualitatis, uniformem et durabilem praestat, quae in variis industriis, ut electronicis, opticis, autocineticis et aëronauticis, maximi momenti est. Sunt variae...
    Plura lege
  • Quid est systemata pulverisationis opticarum in linea per vacuum obducendi?

    Systema obductionis vacui in linea per magnetron sputtering optica sunt technologia provecta ad deponendas pelliculas tenues in varia substrata, quae vulgo in industriis ut optica, electronica et scientia materialium adhibentur. Sequitur conspectus accuratus: Componentes et proprietates: 1...
    Plura lege
  • Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput II

    Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput II

    (3) Depositio vaporis plasmatis radiofrequentialis (CVD plasmatis radiofrequentialis) RF ad plasmam generandum duabus methodis diversis adhiberi potest, methodo copulationis capacitivae et methodo copulationis inductivae. CVD plasmatis radiofrequentialis frequentiam 13.56 MHz utitur. Commodum plasmatis radiofrequentialis est quod per aream multo maiorem diffunditur quam plasma microfluctualis...
    Plura lege
  • Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput I

    Technologia pellicularum tenuium adamantinarum - caput I

    Depositio vaporum fermentationis (CVD) filamento calido est prima et popularissima methodus crescendi adamantes sub pressione humili. Anno 1982 Matsumoto et al. filamentum metallicum refractarium ad plus quam 2000°C calefecerunt, qua temperatura gas H2 per filamentum transiens facile atomos hydrogenii producit. Productio hydrogenii atomici per...
    Plura lege
  • Quae sunt classificationes apparatuum ad obducendum in vacuo?

    Technologia obductionis vacui est technologia quae materiam tenuem pelliculae in superficiem materiae substrati sub ambitu vacuo deponit, quae late in electronicis, opticis, involucris, ornatu aliisque campis adhibetur. Apparatus obductionis vacui praecipue in sequentia genera dividi potest...
    Plura lege
  • Quomodo bonam notam instrumentorum ad obductionem in vacuo addendam eligas?

    Apparatus ad superficies obducendas vacuo aptus est genus apparatus ad superficies modificandas utens technologia vacuo, qui praecipue cameram vacuo, systema vacuo, systema fontis caloris, materiam obducendam et cetera comprehendit. In praesenti, apparatus ad superficies obducendas vacuo late in autocinetis, telephoniis mobilibus, opticis, et se...
    Plura lege
  • Introductio Technologiae Obductionis Ionum Vacui

    1. Principium technologiae obductionis ionum vacui Technologia arcus electrici exonerandi in camera vacui adhibita, lux arcus electrici in superficie materiae cathodicae generatur, quae atomos et iones in materia cathodica formare facit. Sub actione campi electrici, fasciculi atomorum et ionum...
    Plura lege
  • Proprietates Technicae Machinae Sputtering Coating

    Pulverizatio magnetronica vacui aptissima est ad obductiones depositionis reactivae. Re vera, hoc processus potest deponere pelliculas tenues cuiuslibet materiae oxidi, carburi, et nitridi. Praeterea, processus etiam aptissimus est ad depositionem structurarum pellicularum multistratarum, inter quas opticae...
    Plura lege
  • Introductio Technologiae DLC

    "DLC est abbreviatio vocabuli 'DIAMOND-LIKE CARBON', substantia ex elementis carbonis composita, natura similis adamante, et structuram atomorum graphiti habens. Carbonium Diamond-Like (DLC) est pellicula amorpha quae attentionem communitatis tribologicae attraxit..."
    Plura lege
  • Proprietates et usus pellicularum adamantinarum, caput II

    Proprietates et usus pellicularum adamantinarum, caput II

    Proprietates electricae et usus pellicularum adamantinarum Adamantina etiam habet latitudinem reticulatam, mobilitatem vectorum magnam, conductivitatem thermalem bonam, ratem translationis electronicae saturationis magnam, constantem dielectricam parvam, tensionem disruptivam magnam et mobilitatem foraminum electronicorum magnam, etc. Tensio disruptiva eius est duo vel...
    Plura lege
  • Proprietates et usus pellicularum adamantinarum, caput primum

    Proprietates et usus pellicularum adamantinarum, caput primum

    Adamas, firmis vinculis chemicis formatus, proprietates mechanicas et elasticas speciales habet. Durities, densitas, et conductivitas thermalis adamantis inter materias notas altissimae sunt. Adamas etiam modulum elasticitatis altissimum omnium materiarum habet. Coefficiens frictionis adamantis...
    Plura lege
  • Genera cellularum solarium, caput 2

    Genera cellularum solarium, caput 2

    Gallii arsenidi (GaAs) Ⅲ ~ V compositi efficientiam conversionis accumulatoris usque ad 28% habet. Materia composita GaAs hiatus zonae opticae optimus est, necnon efficientiam absorptionis magnam, resistentiam fortem irradiationi, insensibilitatem calori, apta ad fabricationem accumulatorum singularium iuncturarum altae efficientiae...
    Plura lege
  • Genus cellularum solarium, caput primum

    Genus cellularum solarium, caput primum

    Cellulae solares ad tertiam generationem evolutae sunt, quarum prima generatio est cellulae solares silicii monocrystallini, secunda generatio est cellulae solares silicii amorphi et silicii polycrystallini, et tertia generatio est cupri-chalybis-gallium-selenidum (CIGS) ut repraesentativum...
    Plura lege
  • Modi Processuales ad Robur Mechanicam Strati Pelliculae Augendum

    Modi Processuales ad Robur Mechanicam Strati Pelliculae Augendum

    Proprietates mechanicae membranae afficiuntur ab adhaesione, tensione, densitate aggregationis, et cetera. Ex relatione inter materiam membranae et factores processus, videri potest, si velimus firmitatem mechanicam membranae emendare, nos intendere debere...
    Plura lege
  • Depositio Vaporis Chemici

    Depositio Vaporis Chemici

    Incrementum epitaxiale, saepe etiam epitaxia appellatum, est unus e processibus gravissimis in fabricatione materiarum et instrumentorum semiconductorum. Hoc quod dicitur incrementum epitaxiale fit sub certis condicionibus in substrato monocrystallino, dum fit stratum pelliculae monoproductae, quod...
    Plura lege