1. Pellicula obductionis vacui tenuissima est (plerumque 0.01-0.1um).
2. Obductio vacuo adhiberi potest multis materiis plasticis, ut ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA, et cetera.
3. Temperatura formationis pelliculae humilis est. In industria ferri et chalybis, temperatura obductionis galvanizationis calidae plerumque inter 400°C et 500°C est, et temperatura obductionis chemicae supra 1000°C est. Tanta temperatura alta facile deformationem et deteriorationem materiae efficit, dum temperatura obductionis vacui humilis est, quae ad temperaturam normalem reduci potest, vitatis defectibus processus obductionis traditionalis.
4. Magna libertas in delectu fontis evaporationis est. Multae sunt materiae genera, quae non a puncto liquefactionis circumscribuntur. Variis pelliculis nitridi metallici, pelliculis oxidi metallici, materiis carbonizationis metallici, et variis pelliculis compositis tegi possunt.
5. Apparatus vacui gasibus vel liquoribus noxiis non utitur neque ullum adversum in ambitum effectum habet. In hodierna crescente attentione ad tutelam ambitus, hoc perutile est.
6. Processus flexibilis est et varietas facile mutatur. Obducere potest ex uno latere, ex duobus lateribus, ex uno strato, ex multis stratis et ex stratis mixtis. Crassitudo pelliculae facile moderatur.
Hic articulus aFabricator machinae ad magnetron sputtering applicandae- Guangdong Zhenhua.
Tempus publicationis: XIII Aprilis MMXXIII