به شرکت فناوری گوانگدونگ ژنهوا خوش آمدید.
بنر_صفحه

اخبار

  • معرفی سیستم پوشش‌دهی در خلاء

    سیستم پوشش‌دهی در خلاء، فناوری‌ای است که برای اعمال یک لایه نازک یا پوشش روی سطح در محیط خلاء استفاده می‌شود. این فرآیند، پوششی با کیفیت بالا، یکنواخت و بادوام را تضمین می‌کند که در صنایع مختلفی مانند الکترونیک، اپتیک، خودرو و هوافضا بسیار مهم است. روش‌های مختلفی برای ... وجود دارد.
    ادامه مطلب
  • سیستم‌های لایه نشانی در خلاء نوری اسپاترینگ چیست؟

    سیستم‌های لایه‌نشانی نوری درون خطی با روش کندوپاش مگنترون، فناوری پیشرفته‌ای هستند که برای لایه نشانی لایه‌های نازک روی انواع زیرلایه‌ها استفاده می‌شوند و معمولاً در صنایعی مانند اپتیک، الکترونیک و علوم مواد مورد استفاده قرار می‌گیرند. در ادامه، مروری دقیق بر اجزا و ویژگی‌ها آمده است: ۱...
    ادامه مطلب
  • فناوری لایه‌های نازک الماس - فصل دوم

    فناوری لایه‌های نازک الماس - فصل دوم

    (3) CVD پلاسمای فرکانس رادیویی (RFCVD) از RF می‌توان برای تولید پلاسما با دو روش مختلف، روش کوپلینگ خازنی و روش کوپلینگ القایی، استفاده کرد. CVD پلاسمای RF از فرکانس 13.56 مگاهرتز استفاده می‌کند. مزیت پلاسمای RF این است که در مقایسه با پلاسمای مایکروویو، در ناحیه بسیار بزرگتری پخش می‌شود...
    ادامه مطلب
  • فناوری لایه‌های نازک الماس - فصل ۱

    فناوری لایه‌های نازک الماس - فصل ۱

    CVD رشته داغ، قدیمی‌ترین و محبوب‌ترین روش رشد الماس در فشار پایین است. در سال ۱۹۸۲، ماتسوموتو و همکارانش یک رشته فلزی نسوز را تا دمای بیش از ۲۰۰۰ درجه سانتیگراد گرم کردند، در این دما گاز H2 که از رشته عبور می‌کند، به راحتی اتم‌های هیدروژن تولید می‌کند. تولید هیدروژن اتمی در طول...
    ادامه مطلب
  • طبقه بندی تجهیزات پوشش خلاء چیست؟

    فناوری پوشش‌دهی در خلاء، فناوری‌ای است که مواد لایه نازک را در محیط خلاء روی سطح مواد زیرلایه رسوب می‌دهد و به طور گسترده در الکترونیک، اپتیک، بسته‌بندی، دکوراسیون و سایر زمینه‌ها مورد استفاده قرار می‌گیرد. تجهیزات پوشش‌دهی در خلاء را می‌توان عمدتاً به انواع زیر تقسیم کرد...
    ادامه مطلب
  • چگونه یک برند خوب برای تجهیزات پوشش خلاء انتخاب کنیم؟

    تجهیزات پوشش‌دهی خلاء نوعی تجهیزات برای اصلاح سطح با استفاده از فناوری خلاء است که عمدتاً شامل محفظه خلاء، سیستم خلاء، سیستم منبع گرما، مواد پوشش‌دهنده و غیره می‌شود. در حال حاضر، تجهیزات پوشش‌دهی خلاء به طور گسترده در خودرو، تلفن‌های همراه، اپتیک، ... مورد استفاده قرار گرفته است.
    ادامه مطلب
  • مقدمه‌ای بر فناوری پوشش یونی در خلاء

    1. اصل فناوری پوشش یونی خلاء با استفاده از فناوری تخلیه قوس خلاء در یک محفظه خلاء، نور قوس روی سطح ماده کاتدی ایجاد می‌شود و باعث می‌شود اتم‌ها و یون‌ها روی ماده کاتدی تشکیل شوند. تحت تأثیر میدان الکتریکی، پرتوهای اتم و یون سطح را بمباران می‌کنند...
    ادامه مطلب
  • ویژگی‌های فنی دستگاه پوشش‌دهی پاششی

    کندوپاش مگنترون خلاء به ویژه برای پوشش‌های رسوب واکنشی مناسب است. در واقع، این فرآیند می‌تواند لایه‌های نازکی از هر ماده اکسیدی، کاربیدی و نیتریدی را رسوب دهد. علاوه بر این، این فرآیند به ویژه برای رسوب ساختارهای لایه‌ای چند لایه، از جمله اپتیک... مناسب است.
    ادامه مطلب
  • مقدمه‌ای بر فناوری DLC

    «DLC مخفف کلمه «کربن شبه الماس» است، ماده‌ای متشکل از عناصر کربن، با ماهیتی مشابه الماس و دارای ساختار اتم‌های گرافیت. کربن شبه الماس (DLC) یک لایه آمورف است که توجه جامعه تریبولوژیکی را به خود جلب کرده است...»
    ادامه مطلب
  • خواص و کاربردهای لایه‌های نازک الماس، فصل ۲

    خواص و کاربردهای لایه‌های نازک الماس، فصل ۲

    خواص الکتریکی و کاربردهای لایه‌های الماس الماس همچنین دارای پهنای باند ممنوعه، تحرک‌پذیری بالای حامل‌ها، رسانایی حرارتی خوب، نرخ رانش الکترون اشباع بالا، ثابت دی‌الکتریک کوچک، ولتاژ شکست بالا و تحرک‌پذیری حفره الکترون و غیره است. ولتاژ شکست آن دو یا ...
    ادامه مطلب
  • خواص و کاربردهای لایه‌های نازک الماس، فصل ۱

    خواص و کاربردهای لایه‌های نازک الماس، فصل ۱

    الماسی که با پیوند شیمیایی قوی تشکیل شده باشد، خواص مکانیکی و الاستیک ویژه‌ای دارد. سختی، چگالی و رسانایی حرارتی الماس در بین مواد شناخته شده بالاترین است. الماس همچنین بالاترین مدول الاستیسیته را در بین هر ماده‌ای دارد. ضریب اصطکاک الماس ...
    ادامه مطلب
  • فصل دوم انواع سلول‌های خورشیدی

    فصل دوم انواع سلول‌های خورشیدی

    باتری ترکیبی گالیوم آرسنید (GaAs) Ⅲ ~ V با راندمان تبدیل تا 28٪، ماده ترکیبی GaAs دارای شکاف باند نوری بسیار ایده‌آل و همچنین راندمان جذب بالا، مقاومت قوی در برابر تابش، غیر حساس به گرما، مناسب برای ساخت باتری‌های تک اتصالی با راندمان بالا ...
    ادامه مطلب
  • فصل اول انواع سلول‌های خورشیدی

    فصل اول انواع سلول‌های خورشیدی

    سلول‌های خورشیدی به نسل سوم توسعه یافته‌اند که نسل اول سلول‌های خورشیدی سیلیکونی تک‌بلوری، نسل دوم سلول‌های خورشیدی سیلیکون آمورف و سیلیکونی چندبلوری و نسل سوم سلول‌های خورشیدی مس-فولاد-گالیوم-سلنید (CIGS) به عنوان نماینده...
    ادامه مطلب
  • روش‌های فرآیندی برای بهبود مقاومت مکانیکی لایه فیلم

    روش‌های فرآیندی برای بهبود مقاومت مکانیکی لایه فیلم

    خواص مکانیکی لایه غشاء تحت تأثیر چسبندگی، تنش، چگالی تجمع و غیره قرار دارد. از رابطه بین جنس لایه غشاء و عوامل فرآیندی، می‌توان دریافت که اگر بخواهیم استحکام مکانیکی لایه غشاء را بهبود بخشیم، باید روی ... تمرکز کنیم.
    ادامه مطلب
  • رسوب شیمیایی بخار

    رسوب شیمیایی بخار

    رشد اپیتاکسیال، که اغلب به عنوان اپیتاکسی نیز شناخته می‌شود، یکی از مهمترین فرآیندها در ساخت مواد و دستگاه‌های نیمه‌هادی است. به اصطلاح رشد اپیتاکسیال در شرایط خاصی در بستر تک کریستالی بر روی رشد یک لایه از فرآیند فیلم تک محصولی است، ...
    ادامه مطلب