Καλώς ορίσατε στην Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Νέα του Κλάδου
-
Σημασία της άντλησης κενού
Η δημιουργία κενού είναι επίσης γνωστή ως «άντληση κενού», η οποία αναφέρεται στη χρήση διαφορετικών αντλιών κενού για την απομάκρυνση του αέρα μέσα στο δοχείο, έτσι ώστε η πίεση μέσα στον χώρο να πέσει κάτω από μία ατμόσφαιρα. Προς το παρόν, για να επιτευχθεί το κενό, χρησιμοποιούνται συνήθως συσκευές, συμπεριλαμβανομένων των περιστροφικών πτερυγίων...Διαβάστε περισσότερα -
Η διαδικασία εναπόθεσης ατμών κενού
Η διαδικασία εναπόθεσης ατμών κενού περιλαμβάνει γενικά βήματα όπως καθαρισμός της επιφάνειας του υποστρώματος, προετοιμασία πριν από την επικάλυψη, εναπόθεση ατμών, συλλογή τεμαχίων, επεξεργασία μετά την επιμετάλλωση, δοκιμές και τελικά προϊόντα. (1) Καθαρισμός επιφάνειας υποστρώματος. Τοιχώματα θαλάμου κενού, πλαίσιο υποστρώματος και άλλα...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή στην επίστρωση κενού
Γιατί να χρησιμοποιήσετε ηλεκτρική σκούπα; Πρόληψη μόλυνσης: Σε ηλεκτρική σκούπα, η απουσία αέρα και άλλων αερίων εμποδίζει το υλικό εναπόθεσης να αντιδράσει με τα ατμοσφαιρικά αέρια, τα οποία θα μπορούσαν να μολύνουν την μεμβράνη. Βελτιωμένη πρόσφυση: Η έλλειψη αέρα σημαίνει ότι η μεμβράνη προσκολλάται απευθείας στο υπόστρωμα χωρίς αέρα...Διαβάστε περισσότερα -
Τεχνολογία εναπόθεσης λεπτής μεμβράνης
Η εναπόθεση λεπτών υμενίων είναι μια θεμελιώδης διαδικασία που χρησιμοποιείται στη βιομηχανία ημιαγωγών, καθώς και σε πολλούς άλλους τομείς της επιστήμης και της μηχανικής υλικών. Περιλαμβάνει τη δημιουργία ενός λεπτού στρώματος υλικού σε ένα υπόστρωμα. Οι εναποτιθέμενες υμενίες μπορούν να έχουν ένα ευρύ φάσμα πάχους, από λίγα μόνο άτομα...Διαβάστε περισσότερα -
Διάφορες οπτικές μεμβράνες που χρησιμοποιούνται στη βιομηχανία οπτικών
Στον τομέα της οπτικής, στην οπτική επιφάνεια γυαλιού ή χαλαζία, επικαλύπτοντας ένα ή περισσότερα στρώματα διαφορετικών ουσιών μετά την μεμβράνη, μπορείτε να έχετε υψηλή ανάκλαση ή μη ανακλαστική (δηλαδή, να αυξήσετε τη διαπερατότητα της μεμβράνης) ή ένα ορισμένο ποσοστό της ανάκλασης ή μετάδοσης του...Διαβάστε περισσότερα -
Εξαρτήματα εξοπλισμού επικάλυψης κενού
Ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού είναι ένα είδος τεχνολογίας εναπόθεσης λεπτών φιλμ σε περιβάλλον κενού, το οποίο χρησιμοποιείται ευρέως στην ηλεκτρονική, την οπτική, την επιστήμη των υλικών, την ενέργεια και ούτω καθεξής. Ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού αποτελείται κυρίως από τα ακόλουθα μέρη: Θάλαμος κενού: Αυτό είναι το βασικό μέρος του κενού...Διαβάστε περισσότερα -
Εφαρμογή εξοπλισμού επικάλυψης κενού
Ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών, καλύπτοντας μια σειρά από βιομηχανίες και τομείς. Οι κύριοι τομείς εφαρμογής περιλαμβάνουν: Ηλεκτρονικά είδη ευρείας κατανάλωσης και ολοκληρωμένα κυκλώματα: Η τεχνολογία επίστρωσης κενού έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών στα ηλεκτρονικά είδη ευρείας κατανάλωσης, όπως σε μεταλλικές κατασκευές...Διαβάστε περισσότερα -
Εφαρμογή επεξεργασίας επιφανειών της αυτοκινητοβιομηχανίας Zhenhua για λάμπες αυτοκινήτων
Η λάμπα είναι ένα από τα σημαντικά μέρη του αυτοκινήτου και η επεξεργασία επιφάνειας του ανακλαστήρα λάμπας μπορεί να βελτιώσει τη λειτουργικότητά της και τη διακοσμητικότητά της. Η κοινή διαδικασία επεξεργασίας επιφάνειας κυπέλλου λάμπας περιλαμβάνει χημική επιμετάλλωση, βαφή, επίστρωση κενού. Η διαδικασία ψεκασμού βαφής και η χημική επιμετάλλωση είναι η πιο παραδοσιακή...Διαβάστε περισσότερα -
Εξαρτήματα εξοπλισμού επικάλυψης κενού
Ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού αποτελείται συνήθως από πολλά βασικά εξαρτήματα, καθένα με τη δική του συγκεκριμένη λειτουργία, τα οποία συνεργάζονται για να επιτύχουν αποτελεσματική, ομοιόμορφη εναπόθεση φιλμ. Παρακάτω περιγράφεται η κύρια εξαρτήματα και οι λειτουργίες τους: Κύρια εξαρτήματα Θάλαμος κενού: Λειτουργία: Παρέχει...Διαβάστε περισσότερα -
Αρχή λειτουργίας συστήματος θερμικής εξάτμισης
Ο εξοπλισμός εξάτμισης επίστρωσης είναι ένα είδος εξοπλισμού που χρησιμοποιείται για την εναπόθεση υλικών λεπτής μεμβράνης στην επιφάνεια του υποστρώματος, το οποίο χρησιμοποιείται ευρέως στους τομείς των οπτικών συσκευών, των ηλεκτρονικών συσκευών, των διακοσμητικών επιστρώσεων και ούτω καθεξής. Η εξάτμιση επίστρωσης χρησιμοποιεί κυρίως υψηλή θερμοκρασία για τη μετατροπή στερεών...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή σε σειρά επιστρωτήρα
Μια συσκευή επίστρωσης κενού σε σειρά είναι ένας προηγμένος τύπος συστήματος επίστρωσης σχεδιασμένος για συνεχή περιβάλλοντα παραγωγής υψηλής απόδοσης. Σε αντίθεση με τις συσκευές επίστρωσης κατά παρτίδες, οι οποίες επεξεργάζονται υποστρώματα σε διακριτές ομάδες, οι συσκευές επίστρωσης σε σειρά επιτρέπουν στα υποστρώματα να κινούνται συνεχώς σε διάφορα στάδια της διαδικασίας επίστρωσης. Η...Διαβάστε περισσότερα -
Επικάλυψη κενού με ψεκασμό
Μια συσκευή επίστρωσης κενού με ψεκασμό είναι μια συσκευή που χρησιμοποιείται για την εναπόθεση λεπτών μεμβρανών υλικού σε ένα υπόστρωμα. Αυτή η διαδικασία χρησιμοποιείται συνήθως στην παραγωγή ημιαγωγών, ηλιακών κυψελών και διαφόρων τύπων επιστρώσεων για οπτικές και ηλεκτρονικές εφαρμογές. Ακολουθεί μια βασική επισκόπηση του τρόπου λειτουργίας της: 1.V...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή συστήματος επικάλυψης κενού
Ένα σύστημα επίστρωσης κενού είναι μια τεχνολογία που χρησιμοποιείται για την εφαρμογή μιας λεπτής μεμβράνης ή επίστρωσης σε μια επιφάνεια σε περιβάλλον κενού. Αυτή η διαδικασία εξασφαλίζει μια υψηλής ποιότητας, ομοιόμορφη και ανθεκτική επίστρωση, η οποία είναι κρίσιμη σε διάφορες βιομηχανίες όπως η ηλεκτρονική, η οπτική, η αυτοκινητοβιομηχανία και η αεροδιαστημική. Υπάρχουν διαφορετικές...Διαβάστε περισσότερα -
Τι είναι τα οπτικά συστήματα επίστρωσης κενού σε σειρά με ψεκασμό;
Τα οπτικά συστήματα επίστρωσης κενού εν σειρά με μαγνητρονικό ψεκασμό είναι μια προηγμένη τεχνολογία που χρησιμοποιείται για την εναπόθεση λεπτών μεμβρανών σε μια ποικιλία υποστρωμάτων, τα οποία χρησιμοποιούνται συνήθως σε βιομηχανίες όπως η οπτική, η ηλεκτρονική και η επιστήμη υλικών. Ακολουθεί μια λεπτομερής επισκόπηση: Στοιχεία και χαρακτηριστικά: 1...Διαβάστε περισσότερα -
Τεχνολογία λεπτών μεμβρανών διαμαντιών - κεφάλαιο 2
(3) Η RF CVD με πλάσμα ραδιοσυχνοτήτων (RFCVD) μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την παραγωγή πλάσματος με δύο διαφορετικές μεθόδους, τη μέθοδο χωρητικής σύζευξης και τη μέθοδο επαγωγικής σύζευξης. Η RF CVD με πλάσμα χρησιμοποιεί συχνότητα 13,56 MHz. Το πλεονέκτημα του πλάσματος RF είναι ότι διαχέεται σε πολύ μεγαλύτερη περιοχή από το RF plasma...Διαβάστε περισσότερα
