1. Η μεμβράνη της επίστρωσης κενού είναι πολύ λεπτή (κανονικά 0,01-0,1 μm) |
2. Η επίστρωση κενού μπορεί να χρησιμοποιηθεί για πολλά πλαστικά, όπως ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, κ.λπ.
3. Η θερμοκρασία σχηματισμού φιλμ είναι χαμηλή. Στη βιομηχανία σιδήρου και χάλυβα, η θερμοκρασία επίστρωσης του θερμού γαλβανισμού είναι γενικά μεταξύ 400 ℃ και 500 ℃ και η θερμοκρασία της χημικής επίστρωσης είναι πάνω από 1000 ℃. Αυτή η υψηλή θερμοκρασία είναι εύκολο να προκαλέσει παραμόρφωση και φθορά του τεμαχίου εργασίας, ενώ η θερμοκρασία επίστρωσης κενού είναι χαμηλή, η οποία μπορεί να μειωθεί σε κανονική θερμοκρασία, αποφεύγοντας τις αδυναμίες της παραδοσιακής διαδικασίας επίστρωσης.
4. Η επιλογή της πηγής εξάτμισης έχει μεγάλη ελευθερία. Υπάρχουν πολλά είδη υλικών, τα οποία δεν περιορίζονται από το σημείο τήξης των υλικών. Μπορούν να επικαλυφθούν με διάφορες μεμβράνες νιτριδίων μετάλλων, μεμβράνες οξειδίων μετάλλων, υλικά ενανθράκωσης μετάλλων και διάφορες σύνθετες μεμβράνες.
5. Ο εξοπλισμός κενού δεν χρησιμοποιεί επιβλαβή αέρια ή υγρά και δεν έχει αρνητικές επιπτώσεις στο περιβάλλον. Στην τρέχουσα τάση της όλο και μεγαλύτερης προσοχής στην προστασία του περιβάλλοντος, αυτό είναι εξαιρετικά πολύτιμο.
6. Η διαδικασία είναι ευέλικτη και η ποικιλία είναι εύκολη στην αλλαγή. Μπορεί να επικαλυφθεί στη μία πλευρά, στις δύο πλευρές, σε μία στρώση, σε πολλαπλές στρώσεις και σε μικτές στρώσεις. Το πάχος της μεμβράνης είναι εύκολο να ελεγχθεί.
Αυτό το άρθρο δημοσιεύεται απόκατασκευαστής μηχανών επικάλυψης με ψεκασμό μαγνητρονίου- Guangdong Zhenhua.
Ώρα δημοσίευσης: 13 Απριλίου 2023