Ласкаво просимо до компанії Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новини галузі
-
Машина для оптичного PVD-вакуумного покриття тонкою плівкою AF
Вакуумна машина для оптичного PVD-нанесення тонкоплівкових покриттів AF призначена для нанесення тонкоплівкових покриттів на мобільні пристрої за допомогою процесу фізичного осадження з парової фази (PVD). Процес включає створення вакуумного середовища в камері для нанесення покриття, де тверді матеріали випаровуються, а потім осаджуються...Читати далі -
Машина для виготовлення дзеркал з вакуумним покриттям з алюмінію та срібла
Машина для вакуумного покриття дзеркал алюмінієвим сріблом зробила революцію у виробництві дзеркал завдяки своїм передовим технологіям та точній інженерії. Ця сучасна машина призначена для нанесення тонкого шару алюмінієвого срібла на поверхню скла, створюючи високоякісний...Читати далі -
Оптична вакуумна машина для покриття
Оптичний вакуумний металізатор – це передова технологія, яка здійснила революцію в галузі нанесення покриттів на поверхні. Ця передова машина використовує процес, який називається оптичною вакуумною металізацією, для нанесення тонкого шару металу на різноманітні основи, створюючи високовідбивну та міцну поверхню...Читати далі -
Розділ 2: Хімічне осадження з парової фази з плазмовим посиленням
Більшість хімічних елементів можна випаровувати, поєднуючи їх з хімічними групами, наприклад, Si реагує з H, утворюючи SiH4, а Al поєднується з CH3, утворюючи Al(CH3). У процесі термічного CVD вищезгадані гази поглинають певну кількість теплової енергії, проходячи через нагріту підкладку, та утворюючи ре...Читати далі -
Плазмохімічне осадження з парової фази. Розділ 1.
Хімічне осадження з парової фази (ХОФ). Як випливає з назви, це метод, який використовує газоподібні реагенти-попередники для створення твердих плівок за допомогою атомних та міжмолекулярних хімічних реакцій. На відміну від PVD, процес ХОФ здебільшого здійснюється в середовищі вищого тиску (нижчого вакууму),...Читати далі -
Елементи процесу та механізми дії, що впливають на якість тонкоплівкових пристроїв (Частина 2)
3. Вплив температури субстрату Температура субстрату є однією з важливих умов для росту мембрани. Вона забезпечує додаткове надходження енергії до атомів або молекул мембрани та головним чином впливає на структуру мембрани, коефіцієнт аглютинації, коефіцієнт розширення та агрегат...Читати далі -
Фактори та механізми процесу, що впливають на якість тонкоплівкових пристроїв (Частина 1)
Виготовлення оптичних тонкоплівкових пристроїв здійснюється у вакуумній камері, а ріст плівкового шару є мікроскопічним процесом. Однак наразі макроскопічними процесами, які можна безпосередньо контролювати, є деякі макроскопічні фактори, що мають опосередкований зв'язок з якістю...Читати далі -
Вступ до історії розвитку технології випаровування
Процес нагрівання твердих матеріалів у середовищі високого вакууму для сублімації або випаровування та осадження їх на певній підкладці для отримання тонкої плівки відомий як вакуумне випаровування (так званий випаровувальний покриття). Історія отримання тонких плівок методом вакуумного випаровування...Читати далі -
Вступ до ITO-покриття
Оксид індію та олова (Indium Tin Oxide, що називається ITO) — це широкозонний, сильно легований напівпровідниковий матеріал n-типу, що характеризується високим коефіцієнтом пропускання видимого світла та низьким опором, тому широко використовується в сонячних елементах, плоских дисплеях, електрохромних вікнах, неорганічних та...Читати далі -
Лабораторна вакуумна машина для нанесення покриттів
Лабораторні вакуумні центрифугувальні установки є важливими інструментами в галузі нанесення тонких плівок та модифікації поверхні. Це сучасне обладнання призначене для точного та рівномірного нанесення тонких плівок з різних матеріалів на підкладки. Процес включає нанесення рідкого розчину або суспензії...Читати далі -
Режим осадження з використанням іонного пучка та вибір його енергії
Існує два основних режими іонно-променевого осадження: динамічний гібридний; інший — статичний гібридний. Перший стосується плівки в процесі росту, який завжди супроводжується певною енергією та струмом променя іонного бомбардування та плівки; другий попередньо осідає на поверхні...Читати далі -
Технологія іонно-променевого осадження
① Технологія іонно-променевого осадження характеризується міцною адгезією між плівкою та підкладкою, шар плівки дуже міцний. Експерименти показали, що: при іонно-променевому осадженні адгезія в кілька разів перевищує адгезію термічного осадження з парової фази...Читати далі -
Вакуумне іонне покриття
Вакуумне іонне покриття (яке називається іонним покриттям) було запропоновано компанією DM Mattox у Сполучених Штатах у 1963 році в Сомдії, у 1970-х роках спостерігався швидкий розвиток нової технології обробки поверхні. Це стосується використання джерела випаровування або розпилювальної мішені у вакуумній атмосфері, щоб плівка...Читати далі -
Плівковий шар у покритому склі видаляється способом
Скло з покриттям поділяється на скло з випарним покриттям, покриття магнетронним напиленням та покриття, нанесене методом парового осадження в потоку. Оскільки метод приготування плівки відрізняється, метод видалення плівки також відрізняється. Пропозиція 1: Використання соляної кислоти та цинкового порошку для полірування та полірування...Читати далі -
Роль покриттів ріжучого інструменту - Розділ 2
Навіть за дуже високих температур різання термін служби ріжучого інструменту можна подовжити за допомогою покриття, що значно знижує витрати на обробку. Крім того, покриття ріжучого інструменту може зменшити потребу в мастильних рідинах. Це не тільки знижує витрати на матеріали, але й допомагає захистити навколишнє середовище...Читати далі
