Välkommen till Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Branschnyheter
-
AF tunnfilmsindunstning optisk PVD vakuumbeläggningsmaskin
AF Thin Film Evaporation Optical PVD vakuumbeläggningsmaskin är utformad för att applicera tunnfilmsbeläggningar på mobila enheter med hjälp av PVD-processen (Physical Vapor Deposition). Processen innebär att skapa en vakuummiljö i en beläggningskammare där fasta material avdunstas och sedan avsätts...Läs mer -
Maskin för tillverkning av spegel i aluminium och silver
Maskinen för vakuumbeläggning av spegeln med aluminium- och silverbeläggning har revolutionerat spegeltillverkningsindustrin med sin avancerade teknik och precisionsteknik. Denna toppmoderna maskin är utformad för att applicera ett tunt lager aluminium- och silverbeläggning på glasytan, vilket skapar högkvalitativa...Läs mer -
Optisk vakuumbeläggningsmaskin
Den optiska vakuummetallisatorn är en toppmodern teknik som har revolutionerat ytbeläggningsindustrin. Denna avancerade maskin använder en process som kallas optisk vakuummetallisering för att applicera ett tunt lager metall på en mängd olika underlag, vilket skapar en mycket reflekterande och hållbar yta...Läs mer -
Plasmaförstärkt kemisk ångdeponering Kapitel 2
De flesta kemiska element kan förångas genom att kombineras med kemiska grupper, t.ex. reagerar Si med H för att bilda SiH4, och Al kombineras med CH3 för att bilda Al(CH3). I den termiska CVD-processen absorberar ovanstående gaser en viss mängd termisk energi när de passerar genom det uppvärmda substratet och bildar åter...Läs mer -
Plasmaförstärkt kemisk ångdeponering Kapitel 1
Kemisk ångdeponering (CVD). Som namnet antyder är det en teknik som använder gasformiga prekursorreaktanter för att generera fasta filmer med hjälp av atomära och intermolekylära kemiska reaktioner. Till skillnad från PVD utförs CVD-processen mestadels i en miljö med högre tryck (lägre vakuum), med...Läs mer -
Processelement och verkningsmekanismer som påverkar kvaliteten på tunnfilmskomponenter (del 2)
3. Inverkan av substrattemperatur Substrattemperaturen är en av de viktiga förutsättningarna för membrantillväxt. Den ger ytterligare energitillskott till membranatomerna eller -molekylerna och påverkar främst membranstrukturen, agglutinationskoefficienten, expansionskoefficienten och aggregationskoefficienten...Läs mer -
Processfaktorer och mekanismer som påverkar kvaliteten på tunnfilmskomponenter (del 1)
Tillverkningen av optiska tunnfilmsanordningar utförs i en vakuumkammare, och tillväxten av filmskiktet är en mikroskopisk process. För närvarande är dock de makroskopiska processer som kan kontrolleras direkt några makroskopiska faktorer som har ett indirekt samband med kvaliteten...Läs mer -
Introduktion till avdunstningsteknikens utvecklingshistoria
Processen att värma fasta material i en högvakuummiljö för att sublimera eller avdunsta och avsätta dem på ett specifikt substrat för att erhålla en tunn film är känd som vakuumindunstningsbeläggning (kallad avdunstningsbeläggning). Historien om framställning av tunna filmer genom vakuumindunstning...Läs mer -
ITO-beläggning Introduktion
Indiumtennoxid (indiumtennoxid, kallad ITO) är ett brett bandgap, kraftigt dopat halvledarmaterial av n-typ, med hög synligt ljusgenomsläpplighet och låg resistivitet, och används därför ofta i solceller, platta bildskärmar, elektrokroma fönster, oorganiska och organiska material...Läs mer -
Lab vakuum spin beläggningsmaskin
Laboratorievakuumspinbeläggare är viktiga verktyg inom tunnfilmsdeponering och ytmodifiering. Denna avancerade utrustning är utformad för att noggrant och jämnt applicera tunna filmer av en mängd olika material på substrat. Processen innebär applicering av en flytande lösning eller suspension...Läs mer -
Jonstråleassisterad deponeringsläge och dess energival
Det finns två huvudsakliga metoder för jonstråleassisterad deponering, ett är dynamisk hybrid; det andra är statisk hybrid. Det förra hänvisar till att filmen under tillväxtprocessen alltid åtföljs av en viss energi och strålström av jonbombardemang och film; det senare är fördeponerat på ytan av ...Läs mer -
Jonstråledeponeringsteknik
① Jonstråleassisterad deponeringsteknik kännetecknas av stark vidhäftning mellan filmen och substratet, och filmskiktet är mycket starkt. Experiment har visat att: jonstråleassisterad deponering har en vidhäftning som ökar flera gånger, till hundratals gånger, jämfört med termisk ångdeponering.Läs mer -
Vakuumjonbeläggning
Vakuumjonbeläggning (kallad jonplätering) är ett förslag som företaget DM Mattox i Somdia föreslog i USA år 1963. Under 1970-talet utvecklades en ny ytbehandlingsteknik snabbt. Det hänvisar till användningen av en avdunstningskälla eller sputteringsmål i en vakuumatmosfär så att filmen...Läs mer -
Filmlagret i belagt glas avlägsnas på ett sätt
Belagt glas delas in i evaporativt belagt, magnetronsputtringsbelagt och in-line ångdeponerat glas. Eftersom metoden för att framställa filmen är olika, är metoden för att ta bort filmen också olika. Förslag 1, Använd saltsyra och zinkpulver för polering och gnuggning...Läs mer -
Skärverktygsbeläggningarnas roll - Kapitel 2
Även vid mycket höga skärtemperaturer kan skärverktygets livslängd förlängas med beläggning, vilket avsevärt minskar bearbetningskostnaderna. Dessutom kan beläggning av skärverktyg minska behovet av smörjvätskor. Det minskar inte bara materialkostnaderna, utan bidrar också till att skydda miljön...Läs mer
