Välkommen till Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nyheter
-
Vakuumbeläggare för metall med anti-fingeravtryck
Användningen av vakuumbeläggningsmaskiner för metall mot fingeravtryck representerar ett stort framsteg inom ytskyddsteknik. Genom att kombinera vakuumteknik och specialbeläggningar skapar dessa maskiner ett tunt, slitstarkt lager på metallytor som skyddar mot fingeravtryck och andra påverkningar...Läs mer -
Praktisk vakuumbeläggningsmaskin
Inom avancerad tillverkning och industriell produktion ökar efterfrågan på praktiska vakuumbeläggningsmaskiner. Dessa banbrytande maskiner revolutionerar hur en mängd olika material beläggs, vilket ger förbättrad hållbarhet, prestanda och estetik. I den här blogginlägget...Läs mer -
Princip för val av målmaterial och klassificering
Med den ökande utvecklingen av sputterbeläggningsteknik, särskilt magnetronsputtringsbeläggningsteknik, kan för närvarande alla material framställas med jonbombardemangsmålfilm, eftersom målet sputtras i processen att belägga det till någon form av substrat, kvaliteten på...Läs mer -
RF-sputterbeläggningens huvudfunktioner
A. Hög sputterhastighet. Till exempel, vid sputtering av SiO2 kan avsättningshastigheten vara upp till 200 nm/min, vanligtvis upp till 10~100 nm/min. Och filmbildningshastigheten är direkt proportionell mot högfrekvenseffekten. B. Vidhäftningen mellan filmen och substratet är större än vakuumångans...Läs mer -
Produktionslinjer för beläggning av billampfilm
Produktionslinjer för billampfilm är en viktig del av bilindustrin. Dessa produktionslinjer ansvarar för beläggning och produktion av billampfilmer, vilka spelar en avgörande roll för att förbättra estetiken och funktionaliteten hos billampor. I takt med att efterfrågan på högkvalitativa...Läs mer -
Magnetfältets roll i magnetronsputtring
Magnetronsputtring omfattar huvudsakligen transport av urladdningsplasma, måletsning, tunnfilmsdeponering och andra processer, magnetfältet på magnetronsputtringsprocessen kommer att ha en inverkan. I magnetronsputtringsystemet plus ortogonalt magnetfält utsätts elektronerna för ...Läs mer -
Krav för vakuumbeläggningsmaskin för pumpsystemet
Vakuumbeläggningsmaskinen på pumpsystemet har följande grundläggande krav: (1) Beläggningsvakuumsystemet bör ha en tillräckligt stor pumphastighet, vilket inte bara snabbt ska pumpa ut de gaser som frigörs från substratet och avdunstade material och komponenterna i vakuumch ...Läs mer -
Smycken PVD-beläggningsmaskin
PVD-beläggningsmaskinen för smycken använder en process som kallas fysisk ångdeponering (PVD) för att applicera en tunn men hållbar beläggning på smycken. Denna process innebär användning av högrena, fasta metallmål, som avdunstas i vakuummiljö. Den resulterande metallångan kondenseras sedan...Läs mer -
Liten flexibel Pvd-vakuumbeläggningsmaskin
En av de största fördelarna med små flexibla PVD-vakuumbeläggningsmaskiner är deras mångsidighet. Dessa maskiner är utformade för att hantera en mängd olika substratstorlekar och former, vilket gör dem idealiska för småskaliga eller anpassade tillverkningsprocesser. Dessutom är dess kompakta storlek och flexibla konfidens...Läs mer -
Skärverktyg Vakuumbeläggningsmaskin
I den ständigt föränderliga tillverkningsindustrin spelar skärverktyg en viktig roll i att forma de produkter vi använder varje dag. Från precisionsskärning inom flygindustrin till komplexa konstruktioner inom medicinområdet fortsätter efterfrågan på högkvalitativa skärverktyg att öka. För att möta denna efterfrågan har USA...Läs mer -
Effekt av jonbombardemang på gränssnittet mellan filmskikt och substrat
När avsättningen av membranatomer börjar har jonbombardemang följande effekter på gränssnittet mellan membran och substrat. (1) Fysisk blandning. På grund av högenergijoninjektion, sputtering av de avsatta atomerna och rekylinjektion av ytatomer och kaskadkollisionsfenomen, ...Läs mer -
Vakuumsputtringsbeläggningens återupplivande och utveckling
Sputtering är ett fenomen där energirika partiklar (vanligtvis positiva joner av gaser) träffar ytan av ett fast ämne (nedan kallat målmaterialet), vilket får atomer (eller molekyler) på målmaterialets yta att släppas ut från det. Detta fenomen upptäcktes av Grove år 1842 när...Läs mer -
Egenskaper hos magnetronsputtringsbeläggning Kapitel 2
Egenskaper hos magnetronsputtringsbeläggning (3) Lågenergetisk sputtring. På grund av den låga katodspänningen som appliceras på målet binds plasmat av magnetfältet i utrymmet nära katoden, vilket hämmar de högenergiladdade partiklarna på sidan av substratet som människor skjuter på. ...Läs mer -
Egenskaper hos magnetronsputtringsbeläggning Kapitel 1
Jämfört med andra beläggningstekniker kännetecknas magnetronsputterbeläggning av följande egenskaper: arbetsparametrarna har ett stort dynamiskt justeringsområde för beläggningshastighet och tjocklek (tillståndet för det belagda området) som enkelt kan kontrolleras, och det finns ingen design...Läs mer -
Jonstråleassisterad deponeringsteknik
Jonstråleassisterad deponeringsteknik är jonstråleinjektions- och ångdeponeringsbeläggningsteknik kombinerad med jonytkompositbearbetningsteknik. Vid ytmodifiering av joninjicerade material, oavsett om det är halvledarmaterial eller tekniska material, är det av...Läs mer
