Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Novinky z odvetvia
-
AF tenkovrstvové odparovanie optické PVD vákuové nanášacie zariadenie
Vákuový nanášací stroj AF Thin Film Evaporation Optical PVD je určený na nanášanie tenkých vrstiev na mobilné zariadenia pomocou procesu fyzikálneho nanášania z pár (PVD). Proces zahŕňa vytvorenie vákuového prostredia v nanášacej komore, kde sa pevné materiály odparujú a potom ukladajú...Čítať ďalej -
Stroj na výrobu hliníkových strieborných zrkadiel s vákuovým povlakom
Stroj na vákuové nanášanie hliníkovo-strieborného povlaku na zrkadlá spôsobil revolúciu v odvetví výroby zrkadiel vďaka svojej pokročilej technológii a presnému inžinierstvu. Tento najmodernejší stroj je navrhnutý tak, aby nanášal tenkú vrstvu hliníkovo-strieborného povlaku na povrch skla, čím vytvára vysoko kvalitné...Čítať ďalej -
Optický vákuový nanášací stroj
Optický vákuový metalizátor je najmodernejšia technológia, ktorá spôsobila revolúciu v odvetví povrchových úprav. Tento pokročilý stroj využíva proces nazývaný optická vákuová metalizácia na nanášanie tenkej vrstvy kovu na rôzne substráty, čím vytvára vysoko reflexný a odolný povrch...Čítať ďalej -
Plazmou vylepšená chemická depozícia z pár, kapitola 2
Väčšinu chemických prvkov je možné odpariť ich spojením s chemickými skupinami, napr. Si reaguje s H za vzniku SiH4 a Al sa spája s CH3 za vzniku Al(CH3). V tepelnom procese CVD vyššie uvedené plyny absorbujú určité množstvo tepelnej energie pri prechode cez zahriaty substrát a tvoria re...Čítať ďalej -
Plazmou vylepšená chemická depozícia z pár, Kapitola 1
Chemická depozícia z pár (CVD). Ako už názov napovedá, ide o techniku, ktorá využíva plynné prekurzorové reaktanty na vytvorenie pevných filmov pomocou atómových a intermolekulárnych chemických reakcií. Na rozdiel od PVD sa proces CVD väčšinou vykonáva v prostredí s vyšším tlakom (nižším vákuom), pričom...Čítať ďalej -
Prvky procesu a akčné mechanizmy ovplyvňujúce kvalitu tenkovrstvových zariadení (časť 2)
3. Vplyv teploty substrátu Teplota substrátu je jednou z dôležitých podmienok pre rast membrány. Poskytuje dodatočný energetický doplnok k atómom alebo molekulám membrány a ovplyvňuje hlavne štruktúru membrány, aglutinačný koeficient, expanzný koeficient a agregát...Čítať ďalej -
Procesné faktory a mechanizmy ovplyvňujúce kvalitu tenkovrstvových zariadení (1. časť)
Výroba optických tenkovrstvových zariadení sa vykonáva vo vákuovej komore a rast filmovej vrstvy je mikroskopický proces. V súčasnosti sú však makroskopické procesy, ktoré možno priamo kontrolovať, niektoré makroskopické faktory, ktoré majú nepriamy vzťah ku kvalite...Čítať ďalej -
Úvod do histórie vývoja technológie odparovania
Proces zahrievania pevných materiálov vo vysokom vákuu za účelom sublimácie alebo odparovania a ich nanesenia na špecifický substrát za účelom získania tenkej vrstvy je známy ako vákuové odparovanie (označované ako odparovací náter). História prípravy tenkých vrstiev vákuovým odparovaním...Čítať ďalej -
Úvod do ITO povlakov
Oxid india a cínu (Indium Tin Oxide, označovaný ako ITO) je silne dopovaný polovodičový materiál typu n so širokou medzerou pásma, vysokou priepustnosťou viditeľného svetla a nízkym odporom, a preto sa široko používa v solárnych článkoch, plochých displejoch, elektrochromatických oknách, anorganických a organických...Čítať ďalej -
Laboratórny vákuový rotačný nanášací stroj
Laboratórne vákuové rotačné nanášače sú dôležitými nástrojmi v oblasti nanášania tenkých vrstiev a modifikácie povrchov. Toto pokročilé zariadenie je navrhnuté na presné a rovnomerné nanášanie tenkých vrstiev z rôznych materiálov na substráty. Proces zahŕňa nanášanie kvapalného roztoku alebo suspenzie...Čítať ďalej -
Režim depozície s asistenciou iónového lúča a jeho výber energie
Existujú dva hlavné spôsoby nanášania pomocou iónového lúča: dynamický hybridný a statický hybridný. Prvý sa vzťahuje na proces rastu filmu, ktorý je vždy sprevádzaný určitou energiou a prúdom lúča pri bombardovaní iónmi a filmu; druhý je vopred nanesený na povrch...Čítať ďalej -
Technológia nanášania iónovým lúčom
① Technológia nanášania s asistenciou iónového lúča sa vyznačuje silnou adhéziou medzi filmom a substrátom, pričom vrstva filmu je veľmi pevná. Experimenty ukázali, že: nanášanie s asistenciou iónového lúča má niekoľkonásobne až stonásobne vyššiu adhéziu ako tepelné nanášanie z pár...Čítať ďalej -
Vákuové iónové povlakovanie
Vákuové iónové pokovovanie (označované ako iónové pokovovanie) navrhla v Spojených štátoch v roku 1963 spoločnosť DM Mattox zo Somdia. V 70. rokoch 20. storočia došlo k rýchlemu vývoju novej technológie povrchovej úpravy. Ide o použitie zdroja odparovania alebo rozprašovacieho terča vo vákuovej atmosfére, aby sa film...Čítať ďalej -
Filmová vrstva v potiahnutom skle sa odstráni
Potiahnuté sklo sa delí na sklo s odparovacím povlakom, sklo s povlakom nanášaným magnetrónovým naprašovaním a sklo s povlakom nanášaným naparovaním priamo v potrubí. Keďže sa spôsob prípravy filmu líši, líši sa aj spôsob jeho odstraňovania. Návrh 1: Použitie kyseliny chlorovodíkovej a zinkového prášku na leštenie a brúsenie...Čítať ďalej -
Úloha povlakov rezných nástrojov – kapitola 2
Aj pri veľmi vysokých teplotách rezania je možné predĺžiť životnosť rezného nástroja povlakom, čím sa výrazne znížia náklady na obrábanie. Okrem toho môže povlak rezného nástroja znížiť potrebu mazacích kvapalín. Nielenže znižuje náklady na materiál, ale tiež pomáha chrániť životné prostredie...Čítať ďalej
