Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Správy
-
Typy CVD technológie
Všeobecne povedané, CVD možno zhruba rozdeliť na dva typy: jeden je pri nanášaní pár z monokryštálovej epitaxnej vrstvy na substrát, čo je úzko CVD; druhý je nanášanie tenkých vrstiev na substrát, vrátane viacproduktových a amorfných vrstiev. Podľa...Čítať ďalej -
Spektrá prenosu a odrazivosti a farba optických tenkých vrstiev Kapitola 2
Z toho sa chystáme objasniť: (1) tenkovrstvové zariadenia, priepustnosť, odrazivosť spektier a farba zodpovedajúceho vzťahu medzi, teda spektrom farby; naopak, tento vzťah „nie je jedinečný“, prejavuje sa ako farebné multispektrum. Preto film...Čítať ďalej -
Spektrá prenosu a odrazivosti a farba optických tenkých vrstiev Kapitola 1
Spektrá prenosu a odrazu a farby optických tenkých vrstiev sú dve charakteristiky tenkovrstvových zariadení, ktoré existujú súčasne. 1. Spektrum prenosu a odrazu je vzťah medzi odrazivosťou a priepustnosťou optických tenkovrstvových zariadení s vlnovou dĺžkou. Je to c...Čítať ďalej -
AF tenkovrstvové odparovanie optické PVD vákuové nanášacie zariadenie
Vákuový nanášací stroj AF Thin Film Evaporation Optical PVD je určený na nanášanie tenkých vrstiev na mobilné zariadenia pomocou procesu fyzikálneho nanášania z pár (PVD). Proces zahŕňa vytvorenie vákuového prostredia v nanášacej komore, kde sa pevné materiály odparujú a potom ukladajú...Čítať ďalej -
Stroj na výrobu hliníkových strieborných zrkadiel s vákuovým povlakom
Stroj na vákuové nanášanie hliníkovo-strieborného povlaku na zrkadlá spôsobil revolúciu v odvetví výroby zrkadiel vďaka svojej pokročilej technológii a presnému inžinierstvu. Tento najmodernejší stroj je navrhnutý tak, aby nanášal tenkú vrstvu hliníkovo-strieborného povlaku na povrch skla, čím vytvára vysoko kvalitné...Čítať ďalej -
Optický vákuový nanášací stroj
Optický vákuový metalizátor je najmodernejšia technológia, ktorá spôsobila revolúciu v odvetví povrchových úprav. Tento pokročilý stroj využíva proces nazývaný optická vákuová metalizácia na nanášanie tenkej vrstvy kovu na rôzne substráty, čím vytvára vysoko reflexný a odolný povrch...Čítať ďalej -
Plazmou vylepšená chemická depozícia z pár, kapitola 2
Väčšinu chemických prvkov je možné odpariť ich spojením s chemickými skupinami, napr. Si reaguje s H za vzniku SiH4 a Al sa spája s CH3 za vzniku Al(CH3). V tepelnom procese CVD vyššie uvedené plyny absorbujú určité množstvo tepelnej energie pri prechode cez zahriaty substrát a tvoria re...Čítať ďalej -
Plazmou vylepšená chemická depozícia z pár, Kapitola 1
Chemická depozícia z pár (CVD). Ako už názov napovedá, ide o techniku, ktorá využíva plynné prekurzorové reaktanty na vytvorenie pevných filmov pomocou atómových a intermolekulárnych chemických reakcií. Na rozdiel od PVD sa proces CVD väčšinou vykonáva v prostredí s vyšším tlakom (nižším vákuom), pričom...Čítať ďalej -
Prvky procesu a akčné mechanizmy ovplyvňujúce kvalitu tenkovrstvových zariadení (časť 2)
3. Vplyv teploty substrátu Teplota substrátu je jednou z dôležitých podmienok pre rast membrány. Poskytuje dodatočný energetický doplnok k atómom alebo molekulám membrány a ovplyvňuje hlavne štruktúru membrány, aglutinačný koeficient, expanzný koeficient a agregát...Čítať ďalej -
Procesné faktory a mechanizmy ovplyvňujúce kvalitu tenkovrstvových zariadení (1. časť)
Výroba optických tenkovrstvových zariadení sa vykonáva vo vákuovej komore a rast filmovej vrstvy je mikroskopický proces. V súčasnosti sú však makroskopické procesy, ktoré možno priamo kontrolovať, niektoré makroskopické faktory, ktoré majú nepriamy vzťah ku kvalite...Čítať ďalej -
Úvod do histórie vývoja technológie odparovania
Proces zahrievania pevných materiálov vo vysokom vákuu za účelom sublimácie alebo odparovania a ich nanesenia na špecifický substrát za účelom získania tenkej vrstvy je známy ako vákuové odparovanie (označované ako odparovací náter). História prípravy tenkých vrstiev vákuovým odparovaním...Čítať ďalej -
Úvod do ITO povlakov
Oxid india a cínu (Indium Tin Oxide, označovaný ako ITO) je silne dopovaný polovodičový materiál typu n so širokou medzerou pásma, vysokou priepustnosťou viditeľného svetla a nízkym odporom, a preto sa široko používa v solárnych článkoch, plochých displejoch, elektrochromatických oknách, anorganických a organických...Čítať ďalej -
Laboratórny vákuový rotačný nanášací stroj
Laboratórne vákuové rotačné nanášače sú dôležitými nástrojmi v oblasti nanášania tenkých vrstiev a modifikácie povrchov. Toto pokročilé zariadenie je navrhnuté na presné a rovnomerné nanášanie tenkých vrstiev z rôznych materiálov na substráty. Proces zahŕňa nanášanie kvapalného roztoku alebo suspenzie...Čítať ďalej -
Režim depozície s asistenciou iónového lúča a jeho výber energie
Existujú dva hlavné spôsoby nanášania pomocou iónového lúča: dynamický hybridný a statický hybridný. Prvý sa vzťahuje na proces rastu filmu, ktorý je vždy sprevádzaný určitou energiou a prúdom lúča pri bombardovaní iónmi a filmu; druhý je vopred nanesený na povrch...Čítať ďalej -
Technológia nanášania iónovým lúčom
① Technológia nanášania s asistenciou iónového lúča sa vyznačuje silnou adhéziou medzi filmom a substrátom, pričom vrstva filmu je veľmi pevná. Experimenty ukázali, že: nanášanie s asistenciou iónového lúča má niekoľkonásobne až stonásobne vyššiu adhéziu ako tepelné nanášanie z pár...Čítať ďalej
