ගුවැන්ඩොං ෂෙන්හුවා ටෙක්නොලොජි සමාගම, සීමාසහිත වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු.
පුවත්
-
ලෝහ ඇඟිලි සලකුණු විරෝධී රික්ත ආලේපන
ලෝහ ඇඟිලි සලකුණු විරෝධී රික්ත ආලේපන යන්ත්ර භාවිතය මතුපිට ආරක්ෂණ තාක්ෂණයේ ප්රධාන දියුණුවක් නියෝජනය කරයි. රික්ත තාක්ෂණය සහ විශේෂිත ආලේපන ඒකාබද්ධ කිරීමෙන්, මෙම යන්ත්ර ඇඟිලි සලකුණු සහ අනෙකුත් බලපෑම් වලින් ආරක්ෂා වන ලෝහ මතුපිට තුනී, ඇඳීමට ඔරොත්තු දෙන තට්ටුවක් නිර්මාණය කරයි...තවත් කියවන්න -
ප්රායෝගික රික්තක ආලේපන යන්ත්රය
දියුණු නිෂ්පාදන සහ කාර්මික නිෂ්පාදන ක්ෂේත්රවල, ප්රායෝගික රික්ත ආලේපන යන්ත්ර සඳහා ඇති ඉල්ලුම වැඩි වෙමින් පවතී. මෙම අති නවීන යන්ත්ර විවිධ ද්රව්ය ආලේප කරන ආකාරය විප්ලවීය ලෙස වෙනස් කරමින්, වැඩිදියුණු කළ කල්පැවැත්ම, කාර්ය සාධනය සහ සෞන්දර්යය ලබා දෙයි. මෙම බ්ලොග් සටහනේ...තවත් කියවන්න -
ඉලක්ක ද්රව්ය තෝරා ගැනීමේ මූලධර්මය සහ වර්ගීකරණය
ස්පුටරින් ආලේපන තාක්ෂණයේ වැඩිවන දියුණුවත් සමඟ, විශේෂයෙන් මැග්නට්රෝන ස්පුටරින් ආලේපන තාක්ෂණය, වර්තමානයේ, ඕනෑම ද්රව්යයක් සඳහා අයන බෝම්බ හෙලීමේ ඉලක්ක පටලය මගින් සකස් කළ හැකිය, යම් ආකාරයක උපස්ථරයකට ආලේප කිරීමේ ක්රියාවලියේදී ඉලක්කය ඉසිනු ලැබේ, ගුණාත්මකභාවය...තවත් කියවන්න -
RF ඉසින ආලේපනයේ ප්රධාන ලක්ෂණ
A. ඉහළ ඉසින අනුපාතය. උදාහරණයක් ලෙස, SiO2 ඉසින විට, තැන්පත් වීමේ අනුපාතය 200nm/min දක්වා විය හැකිය, සාමාන්යයෙන් 10~100nm/min දක්වා. තවද පටල සෑදීමේ වේගය ඉහළ සංඛ්යාත බලයට සෘජුවම සමානුපාතික වේ. B. පටලය සහ උපස්ථරය අතර ඇලීම රික්ත වාෂ්පයට වඩා වැඩිය...තවත් කියවන්න -
කාර් ලාම්පු චිත්රපට නිෂ්පාදන ආලේපන රේඛා
මෝටර් රථ ලාම්පු පටල නිෂ්පාදන රේඛා මෝටර් රථ නිෂ්පාදන කර්මාන්තයේ අත්යවශ්ය අංගයකි. මෙම නිෂ්පාදන රේඛා මෝටර් රථ ලාම්පු පටලවල ආලේපනය සහ නිෂ්පාදනය සඳහා වගකිව යුතු අතර, එය මෝටර් රථ ලාම්පු වල සෞන්දර්යය සහ ක්රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කිරීමේදී තීරණාත්මක කාර්යභාරයක් ඉටු කරයි. ඉහළ ගුණාත්මක... සඳහා ඇති ඉල්ලුම ලෙස.තවත් කියවන්න -
චුම්භක ක්ෂේත්රයේ කාර්යභාරය මැග්නට්රෝන ඉසීමේදී
චුම්බක ස්පුටරින් වලට ප්රධාන වශයෙන් විසර්ජන ප්ලාස්මා ප්රවාහනය, ඉලක්ක කැටයම් කිරීම, තුනී පටල තැන්පත් කිරීම සහ අනෙකුත් ක්රියාවලීන් ඇතුළත් වන අතර, චුම්බක ස්පුටරින් ක්රියාවලියේ චුම්බක ක්ෂේත්රය බලපෑමක් ඇති කරයි. චුම්බක ස්පුටරින් පද්ධතියේ සහ විකලාංග චුම්බක ක්ෂේත්රයේ, ඉලෙක්ට්රෝන th... වලට යටත් වේ.තවත් කියවන්න -
පොම්ප කිරීමේ පද්ධතියේ රික්තක ආලේපන යන්ත්ර අවශ්යතා
පොම්ප පද්ධතියේ රික්ත ආලේපන යන්ත්රයට පහත මූලික අවශ්යතා ඇත: (1) ආලේපන රික්ත පද්ධතියට ප්රමාණවත් තරම් විශාල පොම්ප කිරීමේ අනුපාතයක් තිබිය යුතු අතර, එමඟින් උපස්ථරයෙන් සහ වාෂ්පීකරණය වූ ද්රව්යවලින් මුදා හරින වායූන් සහ රික්ත ch හි ඇති සංරචක වේගයෙන් පොම්ප කිරීම පමණක් නොව...තවත් කියවන්න -
ආභරණ PVD ආලේපන යන්ත්රය
ආභරණ PVD ආලේපන යන්ත්රය, ආභරණ කැබලි මත තුනී නමුත් කල් පවතින ආලේපනයක් යෙදීම සඳහා භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (PVD) ලෙස හඳුන්වන ක්රියාවලියක් භාවිතා කරයි. මෙම ක්රියාවලියට රික්තක පරිසරයක වාෂ්පීකරණය වන ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් ඝන ලෝහ ඉලක්ක භාවිතා කිරීම ඇතුළත් වේ. එහි ප්රතිඵලයක් ලෙස ලැබෙන ලෝහ වාෂ්ප පසුව...තවත් කියවන්න -
කුඩා නම්යශීලී Pvd රික්තක ආලේපන යන්ත්රය
කුඩා නම්යශීලී PVD රික්ත ආලේපන යන්ත්රවල ප්රධාන වාසියක් වන්නේ ඒවායේ බහුකාර්යතාවයි. මෙම යන්ත්ර විවිධ උපස්ථර ප්රමාණ සහ හැඩයන්ට ඉඩ සැලසෙන පරිදි නිර්මාණය කර ඇති අතර එමඟින් ඒවා කුඩා පරිමාණ හෝ අභිරුචි නිෂ්පාදන ක්රියාවලීන් සඳහා වඩාත් සුදුසු වේ. ඊට අමතරව, එහි සංයුක්ත ප්රමාණය සහ නම්යශීලී config...තවත් කියවන්න -
කැපුම් මෙවලම් රික්ත ආලේපන යන්ත්රය
නිරන්තරයෙන් පරිණාමය වන නිෂ්පාදන කර්මාන්තය තුළ, අප දිනපතා භාවිතා කරන නිෂ්පාදන හැඩගැස්වීමේදී කැපුම් මෙවලම් වැදගත් කාර්යභාරයක් ඉටු කරයි. අභ්යවකාශ කර්මාන්තයේ නිරවද්ය කැපීමේ සිට වෛද්ය ක්ෂේත්රයේ සංකීර්ණ මෝස්තර දක්වා, උසස් තත්ත්වයේ කැපුම් මෙවලම් සඳහා ඇති ඉල්ලුම අඛණ්ඩව ඉහළ යයි. මෙම ඉල්ලුම සපුරාලීම සඳහා, එක්සත් ජනපද...තවත් කියවන්න -
පටල ස්ථරය/උපස්ථර අතුරුමුහුණත මත අයන බෝම්බ හෙලීමේ බලපෑම
පටල පරමාණු තැන්පත් වීම ආරම්භ වූ විට, අයන බෝම්බ හෙලීම පටල/උපස්ථර අතුරුමුහුණතට පහත බලපෑම් ඇති කරයි. (1) භෞතික මිශ්රණය. අධි ශක්ති අයන එන්නත් කිරීම, තැන්පත් වූ පරමාණු ඉසීම සහ මතුපිට පරමාණු නැවත ලබා ගැනීම සහ කඳුරැල්ල ගැටීමේ සංසිද්ධිය හේතුවෙන්, wi...තවත් කියවන්න -
රික්තක ඉසින ආලේපන පුනර්ජීවනය සහ සංවර්ධනය
ඉසීම යනු ශක්තිජනක අංශු (සාමාන්යයෙන් ධනාත්මක වායු අයන) ඝන ද්රව්යයක මතුපිටට (පහත ඉලක්ක ද්රව්ය ලෙස හැඳින්වේ) ගැටෙන සංසිද්ධියකි, එමඟින් ඉලක්ක ද්රව්යයේ මතුපිට ඇති පරමාණු (හෝ අණු) එයින් ගැලවී යයි. මෙම සංසිද්ධිය 1842 දී ග්රෝව් විසින් සොයා ගන්නා ලදී...තවත් කියවන්න -
මැග්නෙට්රෝන ස්පුටරින් ආලේපනයේ ලක්ෂණ 2 වන පරිච්ඡේදය
මැග්නෙට්රෝන ස්පුටරින් ආලේපනයේ ලක්ෂණ (3) අඩු ශක්ති ස්පුටරින්. ඉලක්කයට යොදන අඩු කැතෝඩ වෝල්ටීයතාවය හේතුවෙන්, ප්ලාස්මා කැතෝඩය අසල අවකාශයේ චුම්බක ක්ෂේත්රයෙන් බැඳී ඇති අතර එමඟින් මිනිසුන් වෙඩි තැබූ උපස්ථරයේ පැත්තට අධි ශක්ති ආරෝපිත අංශු වළක්වයි. ...තවත් කියවන්න -
මැග්නෙට්රෝන ස්පටරින් ආලේපනයේ ලක්ෂණ 1 වන පරිච්ඡේදය
අනෙකුත් ආලේපන තාක්ෂණයන් හා සසඳන විට, මැග්නට්රෝන ස්පුටරින් ආලේපනය පහත ලක්ෂණ වලින් සංලක්ෂිත වේ: වැඩ කරන පරාමිතීන් ආලේපන තැන්පත් කිරීමේ වේගය සහ ඝණකම (ආලේපිත ප්රදේශයේ තත්වය) විශාල ගතික ගැලපුම් පරාසයක් ඇති අතර එය පහසුවෙන් පාලනය කළ හැකි අතර කිසිදු සැලසුමක් නොමැත...තවත් කියවන්න -
අයන කදම්භ ආධාරක තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය
අයන කදම්භ ආධාරක තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය යනු අයන මතුපිට සංයුක්ත සැකසුම් තාක්ෂණය සමඟ ඒකාබද්ධ වූ අයන කදම්භ එන්නත් සහ වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ ආලේපන තාක්ෂණයයි. අර්ධ සන්නායක ද්රව්ය හෝ ඉංජිනේරු ද්රව්ය වේවා, අයන එන්නත් කරන ලද ද්රව්යවල මතුපිට වෙනස් කිරීමේ ක්රියාවලියේදී, එය...තවත් කියවන්න
