ਭੌਤਿਕ ਭਾਫ਼ ਜਮ੍ਹਾ (PVD) ਵਿੱਚ, ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਇੱਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਮਕੈਨੀਕਲ, ਆਪਟੀਕਲ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ, ਅਤੇ ਖੋਰ-ਰੋਧਕ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨੂੰ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਮੁੱਖ ਸੂਚਕਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਹੈ। ਸਖ਼ਤ ਕੋਟਿੰਗਾਂ, ਸਜਾਵਟੀ ਫਿਲਮਾਂ, ਆਪਟੀਕਲ ਕੋਟਿੰਗਾਂ, ਅਤੇ ਕਾਰਜਸ਼ੀਲ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਲਈ, ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਬਿਹਤਰ ਅਡੈਸ਼ਨ, ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਘੱਟ ਪੋਰੋਸਿਟੀ, ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ ਅਤੇ ਵਾਤਾਵਰਣ ਦੇ ਵਿਗਾੜ ਪ੍ਰਤੀ ਬਿਹਤਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨਾਲ ਜੁੜਿਆ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।
ਹਾਲਾਂਕਿ, ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਸਿਰਫ਼ ਜਮ੍ਹਾ ਸ਼ਕਤੀ ਜਾਂ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਨੂੰ ਵਧਾ ਕੇ ਨਿਰਧਾਰਤ ਨਹੀਂ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ। ਇਸਦੇ ਮੂਲ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਦਿੱਤੀ ਗਈ ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਨਾਲ ਨੇੜਿਓਂ ਜੁੜਿਆ ਹੋਇਆ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਜਮ੍ਹਾ ਦੌਰਾਨ ਸਤਹ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ, ਐਡਾਟੋਮ ਪ੍ਰਸਾਰ, ਨਿਊਕਲੀਏਸ਼ਨ ਵਿਵਹਾਰ, ਅਨਾਜ ਦੇ ਵਾਧੇ ਅਤੇ ਨੁਕਸ ਵਿਕਾਸ ਨੂੰ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ।
ਇਸ ਲਈ ਪੀਵੀਡੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਨੂੰ ਅਨੁਕੂਲ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਊਰਜਾ ਇਨਪੁੱਟ, ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ, ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਵਿਚਕਾਰ ਸਬੰਧ ਨੂੰ ਸਮਝਣਾ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹੈ।
1. PVD ਵਿੱਚ ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਕੀ ਹੈ?
ਪੀਵੀਡੀ ਵਿੱਚ, ਸ਼ਬਦ ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਪ੍ਰਤੀ ਯੂਨਿਟ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਇੱਕ ਦਿੱਤੇ ਗਏ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸਮੇਂ ਦੇ ਅੰਦਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਜਾਂ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕੀਤੀ ਗਈ ਊਰਜਾ ਦੀ ਮਾਤਰਾ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਵਿਹਾਰਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਆਇਨ ਊਰਜਾ, ਆਇਨ ਫਲਕਸ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ, ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਘਣਤਾ, ਡਿਸਚਾਰਜ ਪਾਵਰ, ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ, ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਵਰਗੇ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਨਾਲ ਨੇੜਿਓਂ ਜੁੜਿਆ ਹੋਇਆ ਹੈ।
ਆਇਓਨਾਈਜ਼ਡ ਪੀਵੀਡੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਲਈ, ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਰਕ ਡਿਪੋਜ਼ੀਸ਼ਨ ਅਤੇ ਹਾਈ-ਪਾਵਰ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਲਈ, ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨਾ ਸਿਰਫ਼ ਨਿਊਟਰਲ ਡਿਪੋਜ਼ੀਸ਼ਨ ਸਪੀਸੀਜ਼ ਦੇ ਸਾਹਮਣੇ ਆਉਂਦੀ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਊਰਜਾਵਾਨ ਆਇਨਾਂ ਦੇ ਸਾਹਮਣੇ ਵੀ ਆਉਂਦੀ ਹੈ। ਜਦੋਂ ਇੱਕ ਢੁਕਵਾਂ ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਇਹ ਆਇਨ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਤਹ ਵੱਲ ਤੇਜ਼ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਊਰਜਾ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਕਰਦੇ ਹਨ।
ਇਹ ਊਰਜਾ ਇਨਪੁੱਟ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਏ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਅਤੇ ਆਇਨਾਂ ਦੀ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਲੋੜੀਂਦੀ ਊਰਜਾ ਐਡਾਟੋਮ ਨੂੰ ਸਥਾਨਕ ਪ੍ਰਸਾਰ ਰੁਕਾਵਟਾਂ ਨੂੰ ਪਾਰ ਕਰਨ, ਊਰਜਾਤਮਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਨੁਕੂਲ ਸਥਿਤੀਆਂ ਵੱਲ ਪ੍ਰਵਾਸ ਕਰਨ, ਅਤੇ ਵਿਕਾਸਸ਼ੀਲ ਫਿਲਮ ਦੇ ਅੰਦਰ ਸੂਖਮ ਖਾਲੀ ਥਾਵਾਂ ਨੂੰ ਭਰਨ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦੀ ਹੈ। ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ, ਫਿਲਮ ਇੱਕ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਪੋਰਸ ਬਣਤਰ ਤੋਂ ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ, ਸੰਖੇਪ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਵੱਲ ਵਿਕਸਤ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਸ ਲਈ, ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਨੂੰ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਅਤੇ ਅੰਤਿਮ ਫਿਲਮ ਢਾਂਚੇ ਵਿਚਕਾਰ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਪੁਲ ਮੰਨਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
2. ਊਰਜਾ ਇਨਪੁੱਟ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਕਿਉਂ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕਰਦੀ ਹੈ
ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਣ ਦੇ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਪੜਾਅ ਦੌਰਾਨ, ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਪਹੁੰਚਣ ਵਾਲੇ ਪਰਮਾਣੂ ਜਾਂ ਆਇਨ ਤੁਰੰਤ ਇੱਕ ਪੂਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਸੰਕੁਚਿਤ ਪਰਤ ਨਹੀਂ ਬਣਾਉਂਦੇ। ਉਹ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਨਿਊਕਲੀਏਟ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਪ੍ਰਵਾਸ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਹੌਲੀ-ਹੌਲੀ ਟਾਪੂ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ ਜੋ ਅੰਤ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਨਿਰੰਤਰ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਇਕੱਠੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।
ਜੇਕਰ ਆਉਣ ਵਾਲੀਆਂ ਪ੍ਰਜਾਤੀਆਂ ਕੋਲ ਲੋੜੀਂਦੀ ਗਤੀ ਊਰਜਾ ਨਹੀਂ ਹੈ, ਤਾਂ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਦੀ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ ਸੀਮਤ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਉਹ ਆਪਣੀਆਂ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਲੈਂਡਿੰਗ ਸਥਿਤੀਆਂ ਦੇ ਨੇੜੇ ਰਹਿ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਸਤ੍ਹਾ ਦਾ ਅਧੂਰਾ ਪ੍ਰਸਾਰ ਅਤੇ ਸੂਖਮ ਖਾਲੀ ਥਾਂਵਾਂ ਦਾ ਗਠਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਜਿਵੇਂ-ਜਿਵੇਂ ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਣਾ ਜਾਰੀ ਰਹਿੰਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਖਾਲੀ ਥਾਂਵਾਂ ਇੱਕ ਕਾਲਮ ਅਤੇ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਪੋਰਸ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਵਿੱਚ ਵਿਕਸਤ ਹੋ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ।
ਇਹ ਵਰਤਾਰਾ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਘੱਟ-ਤਾਪਮਾਨ ਜਮ੍ਹਾਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਜਾਂ ਨਾਕਾਫ਼ੀ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਨਾਲ ਕੰਮ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਸਿਸਟਮਾਂ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ।
ਜਦੋਂ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਦਿੱਤੀ ਜਾਣ ਵਾਲੀ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਇੱਕ ਢੁਕਵੇਂ ਪੱਧਰ ਤੱਕ ਵਧਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਸਤ੍ਹਾ ਦਾ ਪ੍ਰਸਾਰ ਵਧੇਰੇ ਸਰਗਰਮ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਈਆਂ ਪ੍ਰਜਾਤੀਆਂ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਪਾਰ ਪ੍ਰਵਾਸ ਕਰ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ ਅਤੇ ਘੱਟ-ਊਰਜਾ ਵਾਲੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ 'ਤੇ ਕਬਜ਼ਾ ਕਰ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਪਰਮਾਣੂ ਪੁਨਰਗਠਨ, ਨੁਕਸ ਘਟਾਉਣ ਅਤੇ ਖਾਲੀ ਬੰਦ ਹੋਣ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਫਿਲਮ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਅਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ਇੰਟਰਫੇਸ਼ੀਅਲ ਬੰਧਨ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੀ ਹੈ।
ਸੂਖਮ ਢਾਂਚੇ ਦੇ ਦ੍ਰਿਸ਼ਟੀਕੋਣ ਤੋਂ, ਉਦੇਸ਼ ਸਿਰਫ਼ "ਊਰਜਾ ਵਧਾਉਣਾ" ਨਹੀਂ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੌਰਾਨ ਇੱਕ ਢੁਕਵਾਂ ਊਰਜਾ-ਤੋਂ-ਪ੍ਰਵਾਹ ਅਨੁਪਾਤ ਸਥਾਪਤ ਕਰਨਾ ਹੈ।
3. ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ ਦੀ ਭੂਮਿਕਾ
ਉਪਲਬਧ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਵਿੱਚੋਂ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਬਾਈਸ ਵੋਲਟੇਜ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰਡਮੈਂਟ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਕੰਟਰੋਲ ਕਰਨ ਲਈ ਸਭ ਤੋਂ ਸਿੱਧੇ ਤਰੀਕਿਆਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਹੈ।
ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਇੱਕ ਨਕਾਰਾਤਮਕ ਪੱਖਪਾਤ ਲਾਗੂ ਕਰਨ ਨਾਲ ਇੱਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਸੰਭਾਵੀ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਜੋ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਤ੍ਹਾ ਵੱਲ ਸਕਾਰਾਤਮਕ ਚਾਰਜ ਵਾਲੇ ਆਇਨਾਂ ਨੂੰ ਤੇਜ਼ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਪੱਖਪਾਤ ਦੀ ਤੀਬਰਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਨਾਲ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਆਇਨ ਪ੍ਰਭਾਵ ਊਰਜਾ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਸਤਹ ਕਿਰਿਆਸ਼ੀਲਤਾ ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, TiN, CrN, TiAlN, DLC, ਅਤੇ ਹੋਰ ਕਾਰਜਸ਼ੀਲ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਣ ਵਿੱਚ, ਇੱਕ ਢੁਕਵੀਂ ਪੱਖਪਾਤੀ ਸਥਿਤੀ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ, ਕਠੋਰਤਾ, ਅਡੈਸ਼ਨ, ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਹਾਲਾਂਕਿ, ਬਾਈਸ ਵੋਲਟੇਜ ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਿਚਕਾਰ ਸਬੰਧ ਰੇਖਿਕ ਨਹੀਂ ਹੈ। ਜੇਕਰ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਊਰਜਾ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਤਾਂ ਕਈ ਅਣਚਾਹੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੋ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਰੈਸਪਟਰਿੰਗ, ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ, ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ ਇਕੱਠਾ ਹੋਣਾ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਹੀਟਿੰਗ, ਨੁਕਸ ਪੈਦਾ ਹੋਣਾ, ਅਤੇ ਇੱਥੋਂ ਤੱਕ ਕਿ ਸਬਸਟਰੇਟ ਨੁਕਸਾਨ ਵੀ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।
ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੇ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਨੂੰ ਵੀ ਹਟਾ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਸ਼ੁੱਧ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਸੰਭਾਵੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਪਰਤ ਦੀ ਰਚਨਾ ਨੂੰ ਬਦਲ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਸ ਲਈ, ਸਰਵੋਤਮ ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ ਨੂੰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਮੱਗਰੀ, ਕੋਟਿੰਗ ਸਿਸਟਮ, ਆਇਨ ਪ੍ਰਜਾਤੀਆਂ, ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਘਣਤਾ, ਜਮ੍ਹਾਂ ਦਰ, ਅਤੇ ਲੋੜੀਂਦੀ ਫਿਲਮ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ, ਨਾ ਕਿ ਸਿਰਫ਼ ਉੱਚ ਬਾਈਸ ਵੋਲਟੇਜ ਦਾ ਪਿੱਛਾ ਕਰਨ ਦੀ ਬਜਾਏ।
4. ਆਇਨ ਫਲਕਸ ਅਤੇ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਇਕੱਠੇ ਵਿਚਾਰਿਆ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਸਿਰਫ਼ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਤੋਂ ਵੱਧ ਦੁਆਰਾ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਆਇਨ ਫਲਕਸ, ਭਾਵ ਪ੍ਰਤੀ ਯੂਨਿਟ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਸਮੇਂ ਵਿੱਚ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਣ ਵਾਲੇ ਆਇਨਾਂ ਦੀ ਗਿਣਤੀ, ਬਰਾਬਰ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ।
ਇੱਕ ਉੱਚ-ਊਰਜਾ ਵਾਲਾ ਆਇਨ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਕਾਫ਼ੀ ਹੱਦ ਤੱਕ ਬਦਲ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਪਰ ਜੇਕਰ ਆਇਨ ਪ੍ਰਵਾਹ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੈ, ਤਾਂ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਕੀਤੀ ਗਈ ਕੁੱਲ ਊਰਜਾ ਨਾਕਾਫ਼ੀ ਰਹਿ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਇਸਦੇ ਉਲਟ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਊਰਜਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਆਇਨ ਪ੍ਰਵਾਹ ਤੀਬਰ ਬੰਬਾਰੀ ਅਤੇ ਅਣਚਾਹੇ ਰੈਸਪਟਰਿੰਗ ਜਾਂ ਥਰਮਲ ਲੋਡਿੰਗ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਇਸ ਕਾਰਨ ਕਰਕੇ, ਉੱਨਤ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿਕਾਸ ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ ਨੂੰ ਇੱਕ ਅਲੱਗ-ਥਲੱਗ ਪੈਰਾਮੀਟਰ ਵਜੋਂ ਮੰਨਣ ਦੀ ਬਜਾਏ, ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਅਤੇ ਆਇਨ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਿਚਕਾਰ ਸੰਯੁਕਤ ਸਬੰਧਾਂ ਨੂੰ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਰਨ 'ਤੇ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਕੇਂਦ੍ਰਿਤ ਹੈ।
ਇਹ ਸਬੰਧ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੈਥੋਡਿਕ ਆਰਕ ਪੀਵੀਡੀ ਅਤੇ ਹਾਈ-ਪਾਵਰ ਇੰਪਲਸ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ (HiPIMS) ਵਰਗੀਆਂ ਉੱਚ ਆਇਓਨਾਈਜ਼ਡ ਡਿਪਾਜ਼ਿਸ਼ਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ। ਡਿਪਾਜ਼ਿਸ਼ਨ ਸਪੀਸੀਜ਼ ਦੇ ਆਇਓਨਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਫਰੈਕਸ਼ਨ ਨੂੰ ਵਧਾ ਕੇ, ਇਹ ਤਕਨਾਲੋਜੀਆਂ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕੀਤੀ ਜਾਣ ਵਾਲੀ ਊਰਜਾ ਨੂੰ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਰਨ ਵਿੱਚ ਵਧੇਰੇ ਲਚਕਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ।
5. ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਸੂਖਮ ਢਾਂਚਾਗਤ ਵਿਕਾਸ
ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਨੂੰ ਫਿਲਮ ਦੇ ਸੂਖਮ ਢਾਂਚੇ ਦੇ ਵਿਕਾਸ ਦੁਆਰਾ ਵੀ ਸਮਝਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਘੱਟ-ਊਰਜਾ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਦੇ ਤਹਿਤ, ਸੀਮਤ ਸਤਹ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ ਖਾਲੀ ਜਾਂ ਕਾਲਮ ਵਰਗੀ ਵਿਕਾਸ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਜਦੋਂ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਘੱਟ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕੀਤੀਆਂ ਪ੍ਰਜਾਤੀਆਂ ਵਿੱਚ ਨਾਕਾਫ਼ੀ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।
ਜਿਵੇਂ-ਜਿਵੇਂ ਇੱਕ ਢੁਕਵੀਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੰਡੋ ਦੇ ਅੰਦਰ ਊਰਜਾ ਇਨਪੁੱਟ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਸਤ੍ਹਾ ਦਾ ਪ੍ਰਸਾਰ ਵਧੇਰੇ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਸੂਖਮ ਢਾਂਚਾ ਹੌਲੀ-ਹੌਲੀ ਵਧੇਰੇ ਸੰਖੇਪ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਅਨਾਜ ਦੀਆਂ ਸੀਮਾਵਾਂ ਅਤੇ ਅੰਤਰ-ਕਾਲਮ ਖਾਲੀ ਥਾਵਾਂ ਨੂੰ ਘਟਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਪਰਤ ਵਧੇਰੇ ਨਿਰੰਤਰ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਥਿਰ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।
ਹਾਲਾਂਕਿ, ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਵਿੱਚ ਹੋਰ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਹ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਇੱਕ ਮਜ਼ਬੂਤ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਦੇ ਦਬਦਬੇ ਵਾਲੇ ਸ਼ਾਸਨ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਰੈਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ ਐਟਮੀ ਪੀਨਿੰਗ ਵਧਦੀ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਬਣ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਸੰਭਾਵੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉੱਚ ਸੰਕੁਚਿਤ ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ ਪੈਦਾ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਹਾਲਾਂਕਿ ਪਰਤ ਸੰਘਣੀ ਰਹਿ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਅੰਦਰੂਨੀ ਤਣਾਅ ਚਿਪਕਣ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਕ੍ਰੈਕਿੰਗ ਜਾਂ ਡੀਲੇਮੀਨੇਸ਼ਨ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਸਿੱਟੇ ਵਜੋਂ, ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੱਕ ਸਧਾਰਨ ਸਬੰਧ ਦੀ ਬਜਾਏ ਇੱਕ ਅਨੁਕੂਲ ਊਰਜਾ-ਘਣਤਾ ਵਿੰਡੋ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਊਰਜਾ ਹਮੇਸ਼ਾ ਬਿਹਤਰ ਫਿਲਮਾਂ ਪੈਦਾ ਕਰਦੀ ਹੈ।
6. ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਅਤੇ "ਪਰਮਾਣੂ ਪਿਸ਼ਾਬ" ਪ੍ਰਭਾਵ
ਊਰਜਾਵਾਨ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਨਾਲ ਜੁੜੇ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਵਿਧੀਆਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਹੈ ਪਰਮਾਣੂ ਪੀਨਿੰਗ ਪ੍ਰਭਾਵ।
ਊਰਜਾਵਾਨ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਦੌਰਾਨ, ਆਉਣ ਵਾਲੇ ਆਇਨ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਵਿੱਚ ਗਤੀ ਦਾ ਤਬਾਦਲਾ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਸਥਾਨਕ ਪਰਮਾਣੂ ਵਿਸਥਾਪਨ ਅਤੇ ਪੁਨਰਗਠਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਨੂੰ ਵਧੇਰੇ ਕੱਸ ਕੇ ਪੈਕ ਕੀਤੇ ਸੰਰਚਨਾਵਾਂ ਵਿੱਚ ਮਜਬੂਰ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਦੇ ਅੰਦਰ ਖੁੱਲ੍ਹੇ ਵਾਲੀਅਮ ਦੇ ਵਿਕਾਸ ਨੂੰ ਦਬਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਨਤੀਜਾ ਸੁਧਰੀ ਹੋਈ ਕਠੋਰਤਾ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਸਥਿਰਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ ਸੂਖਮ ਬਣਤਰ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਹ ਵਿਧੀ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਖ਼ਤ PVD ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵੀਂ ਹੈ। TiN, CrN, TiCN, AlTiN, ਅਤੇ ਸੰਬੰਧਿਤ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਵਰਗੇ ਸਿਸਟਮਾਂ ਲਈ, ਢੁਕਵੀਂ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਉੱਚ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਵਧੇ ਹੋਏ ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਯੋਗਦਾਨ ਪਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਹਾਲਾਂਕਿ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਪਰਮਾਣੂ ਪੀਨਿੰਗ ਕਾਫ਼ੀ ਸੰਕੁਚਿਤ ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ ਪੈਦਾ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਘਣਤਾ ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਪਰਤ ਜ਼ਰੂਰੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਨੁਕੂਲ ਪਰਤ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੀ ਜੇਕਰ ਇਸਦਾ ਅੰਦਰੂਨੀ ਤਣਾਅ ਸਬਸਟਰੇਟ/ਕੋਟਿੰਗ ਇੰਟਰਫੇਸ ਦੀ ਅਡੈਸ਼ਨ ਸਮਰੱਥਾ ਤੋਂ ਵੱਧ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।
ਵਿਹਾਰਕ ਉਦੇਸ਼ ਫਿਲਮ ਦੀ ਘਣਤਾ, ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ, ਅਡੈਸ਼ਨ, ਕਠੋਰਤਾ, ਅਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਵਿਚਕਾਰ ਸੰਤੁਲਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨਾ ਹੈ।
7. ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਊਰਜਾ ਸੰਤੁਲਨ ਨੂੰ ਵੀ ਬਦਲਦੀ ਹੈ।
ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਦਾ ਮੁਲਾਂਕਣ ਜਮ੍ਹਾਂ ਹੋਣ ਦੀ ਦਰ ਤੋਂ ਸੁਤੰਤਰ ਤੌਰ 'ਤੇ ਨਹੀਂ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ।
ਜੇਕਰ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਦਰ ਕਾਫ਼ੀ ਵੱਧ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਜਦੋਂ ਕਿ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਵਿੱਚ ਕੋਈ ਬਦਲਾਅ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ, ਤਾਂ ਆਉਣ ਵਾਲੇ ਜਮ੍ਹਾ ਪ੍ਰਵਾਹ ਨਾਲ ਊਰਜਾਵਾਨ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਦਾ ਅਨੁਪਾਤ ਘੱਟ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਦੂਜੇ ਸ਼ਬਦਾਂ ਵਿੱਚ, ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਅਤੇ ਢਾਂਚਾਗਤ ਪੁਨਰਗਠਨ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰਨ ਲਈ ਉਪਲਬਧ ਊਰਜਾ ਵਿੱਚ ਅਨੁਪਾਤਕ ਵਾਧੇ ਤੋਂ ਬਿਨਾਂ ਹੋਰ ਸਮੱਗਰੀ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੀ ਜਾ ਰਹੀ ਹੈ।
ਇਸ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਘੱਟ ਸੰਘਣੀ ਸੂਖਮ ਬਣਤਰ ਵੱਲ ਤਬਦੀਲੀ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਸ ਦੇ ਉਲਟ, ਇੱਕ ਢੁਕਵੇਂ ਆਇਨ-ਤੋਂ-ਨਿਊਟ੍ਰਲ ਫਲਕਸ ਅਨੁਪਾਤ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਨਾਲ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀਆਂ ਦੀ ਭਰਪਾਈ ਕਰਨ ਅਤੇ ਇਕਸਾਰ ਫਿਲਮ ਬਣਤਰ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਵਿੱਚ ਮਦਦ ਮਿਲ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਹੀ ਕਾਰਨ ਹੈ ਕਿ ਉਦਯੋਗਿਕ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿਕਾਸ ਨੂੰ ਨਾ ਸਿਰਫ਼ ਪਾਵਰ ਅਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ 'ਤੇ ਧਿਆਨ ਦੇਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਆਇਨ ਕਰੰਟ ਘਣਤਾ, ਆਇਨ ਊਰਜਾ, ਜਮ੍ਹਾ ਪ੍ਰਵਾਹ, ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ ਵਿਚਕਾਰ ਸਬੰਧਾਂ 'ਤੇ ਵੀ ਧਿਆਨ ਦੇਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
8. ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਅਤੇ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਇਕੱਠੇ ਕੰਮ ਕਰਦੇ ਹਨ।
ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਫਿਲਮ ਦੇ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਨ ਵਾਲਾ ਇੱਕ ਹੋਰ ਵੱਡਾ ਕਾਰਕ ਹੈ।
ਥਰਮਲ ਊਰਜਾ ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਏ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਨੂੰ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਵਾਧੂ ਗਤੀ ਊਰਜਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਦੋਵੇਂ ਵਿਧੀਆਂ ਸਤਹ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਅਤੇ ਸੰਰਚਨਾਤਮਕ ਪੁਨਰਗਠਨ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ।
ਤਾਪਮਾਨ-ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਸਬਸਟਰੇਟਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਪਲਾਸਟਿਕ, ਆਪਟੀਕਲ ਕੰਪੋਨੈਂਟਸ, ਅਤੇ ਕੁਝ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਲਈ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਵਧਾਉਣਾ ਸੰਭਵ ਨਹੀਂ ਹੋ ਸਕਦਾ। ਇਹਨਾਂ ਮਾਮਲਿਆਂ ਵਿੱਚ, ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੀਮਤੀ ਬਣ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਇਹ ਸਿਰਫ਼ ਥਰਮਲ ਹੀਟਿੰਗ 'ਤੇ ਨਿਰਭਰ ਕੀਤੇ ਬਿਨਾਂ ਵਧ ਰਹੀ ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਵਾਧੂ ਊਰਜਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਇਹ ਆਇਨ-ਸਹਾਇਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਦੇ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਫਾਇਦਿਆਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਹੈ: ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਘੱਟ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਦੇ ਹੋਏ ਊਰਜਾਵਾਨ ਕਣ ਬੰਬਾਰੀ ਦੁਆਰਾ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਫਿਰ ਵੀ, ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਖੁਦ ਗਰਮੀ ਪੈਦਾ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, ਤਾਪਮਾਨ-ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਥਰਮਲ ਵਿਗਾੜ ਜਾਂ ਗਿਰਾਵਟ ਨੂੰ ਰੋਕਣ ਲਈ ਜਮ੍ਹਾਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀ ਨਿਗਰਾਨੀ ਅਜੇ ਵੀ ਕੀਤੀ ਜਾਣੀ ਚਾਹੀਦੀ ਹੈ।
9. ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਕੋਟਿੰਗ ਸਿਸਟਮ ਨਾਲ ਮੇਲ ਖਾਂਦੀ ਹੋਣੀ ਚਾਹੀਦੀ ਹੈ।
ਵੱਖ-ਵੱਖ ਕੋਟਿੰਗ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀਆਂ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਅਤੇ ਊਰਜਾ ਇਨਪੁਟ ਲਈ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ।
ਸਖ਼ਤ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਲਈ, ਉੱਚ ਘਣਤਾ, ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਅਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ਅਡੈਸ਼ਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਊਰਜਾਵਾਨ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਅਕਸਰ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਆਪਟੀਕਲ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਲਈ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਬੰਬਾਰੀ ਤਣਾਅ ਪੇਸ਼ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ ਜਾਂ ਰਿਫ੍ਰੈਕਟਿਵ-ਇੰਡੈਕਸ ਇਕਸਾਰਤਾ ਨੂੰ ਬਦਲ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਧਾਤੂ ਸਜਾਵਟੀ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਲਈ, ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ, ਚਮਕ, ਰੰਗ ਅਤੇ ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।
DLC ਅਤੇ ਹੋਰ ਕਾਰਬਨ-ਅਧਾਰਿਤ ਕੋਟਿੰਗ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਅਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਸਥਿਤੀਆਂ ਵਿਚਕਾਰ ਸੰਤੁਲਨ ਪ੍ਰਤੀ ਹੋਰ ਵੀ ਸੰਵੇਦਨਸ਼ੀਲ ਹਨ ਕਿਉਂਕਿ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਬੰਧਨ ਸੰਰਚਨਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸ ਲਈ sp² ਅਤੇ sp³ ਬੰਧਨ ਵਿਚਕਾਰ ਅਨੁਪਾਤ।
ਇਸ ਲਈ, ਹਰੇਕ PVD ਕੋਟਿੰਗ 'ਤੇ ਲਾਗੂ ਹੋਣ ਵਾਲਾ ਕੋਈ ਵੀ ਸਰਵ ਵਿਆਪਕ "ਅਨੁਕੂਲ ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ" ਨਹੀਂ ਹੈ। ਢੁਕਵੀਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੰਡੋ ਨੂੰ ਸਮੱਗਰੀ ਪ੍ਰਣਾਲੀ, ਸਬਸਟਰੇਟ, ਫਿਲਮ ਮੋਟਾਈ, ਜਮ੍ਹਾਂ ਦਰ, ਲੋੜੀਂਦੀਆਂ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ, ਆਪਟੀਕਲ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਅਤੇ ਥਰਮਲ ਸੀਮਾਵਾਂ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ ਸਥਾਪਿਤ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
10. ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਤੋਂ ਲੈ ਕੇ ਫਿਲਮ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਤੱਕ
ਉਦਯੋਗਿਕ ਪੀਵੀਡੀ ਉਤਪਾਦਨ ਵਿੱਚ, ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਦਾ ਮੁਲਾਂਕਣ ਅੰਤ ਵਿੱਚ ਸਿਰਫ਼ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਦੀ ਬਜਾਏ ਮਾਪਣਯੋਗ ਫਿਲਮ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੁਆਰਾ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
ਇੱਕ ਸਹੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਊਰਜਾ-ਇਨਪੁੱਟ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਨੂੰ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਦੇ ਆਧਾਰ 'ਤੇ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ, ਕਠੋਰਤਾ, ਅਡੈਸ਼ਨ, ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਆਪਟੀਕਲ ਸਥਿਰਤਾ, ਅਤੇ ਰੁਕਾਵਟ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਵਿੱਚ ਯੋਗਦਾਨ ਪਾਉਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ।
ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਪੈਰਾਮੀਟਰਾਂ ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਵਿਚਕਾਰ ਸਬੰਧ ਸਥਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਕਰਾਸ-ਸੈਕਸ਼ਨਲ SEM, XRD, ਨੈਨੋਇੰਡੈਂਟੇਸ਼ਨ, ਸਕ੍ਰੈਚ ਟੈਸਟਿੰਗ, ਬਕਾਇਆ-ਤਣਾਅ ਮਾਪ, ਸਤਹ ਖੁਰਦਰੀ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ, ਅਤੇ ਫਿਲਮ-ਮੋਟਾਈ ਮੈਪਿੰਗ ਵਰਗੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।
ਇਹ PVD ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਸਧਾਰਨ ਪੈਰਾਮੀਟਰ ਸਮਾਯੋਜਨ ਤੋਂ ਇੱਕ ਹੋਰ ਵਿਵਸਥਿਤ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੰਡੋ ਅਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਨਿਯੰਤਰਣ ਰਣਨੀਤੀ ਵੱਲ ਵਧਣ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦਾ ਹੈ।
ਸਿੱਟਾ
ਪੀਵੀਡੀ ਵਿੱਚ, ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਢਿੱਲੇ ਪੈਕਡ ਡਿਪਾਜ਼ਿਸ਼ਨ ਢਾਂਚਿਆਂ ਤੋਂ ਸੰਘਣੀ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਥਿਰ ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀ ਨੂੰ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਬੁਨਿਆਦੀ ਕਾਰਕਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਹੈ। ਢੁਕਵੀਂ ਆਇਨ ਊਰਜਾ ਅਤੇ ਆਇਨ ਪ੍ਰਵਾਹ ਸਤਹ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਨੂੰ ਵਧਾ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਪਰਮਾਣੂ ਪੁਨਰਗਠਨ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਖਾਲੀਪਣ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾ ਸਕਦੇ ਹਨ।
ਹਾਲਾਂਕਿ, ਉੱਚ ਊਰਜਾ ਦਾ ਮਤਲਬ ਆਪਣੇ ਆਪ ਹੀ ਬਿਹਤਰ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨਹੀਂ ਹੈ। ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਰੈਸਪਟਰਿੰਗ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਹੀਟਿੰਗ, ਉੱਚ ਸੰਕੁਚਿਤ ਬਕਾਇਆ ਤਣਾਅ, ਅਤੇ ਇੰਟਰਫੇਸ ਨੁਕਸਾਨ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਕੁੰਜੀ ਆਇਨ ਊਰਜਾ, ਆਇਨ ਫਲਕਸ, ਜਮ੍ਹਾ ਦਰ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਪੱਖਪਾਤ, ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਘਣਤਾ, ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ ਵਿਚਕਾਰ ਇੱਕ ਅਨੁਕੂਲਿਤ ਸੰਤੁਲਨ ਸਥਾਪਤ ਕਰਨਾ ਹੈ।
ਇਸ ਲਈ, ਆਧੁਨਿਕ ਪੀਵੀਡੀ ਉਪਕਰਣਾਂ ਲਈ, ਊਰਜਾ ਇਨਪੁੱਟ ਨੂੰ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਰਨ ਦੀ ਯੋਗਤਾ ਸਿਰਫ਼ ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰਨ ਦੀ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਦਾ ਇੱਕ ਸਾਧਨ ਨਹੀਂ ਹੈ - ਇਹ ਫਿਲਮ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਨੂੰ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਕਰਨ ਅਤੇ ਸਥਿਰ, ਪ੍ਰਜਨਨਯੋਗ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਬੁਨਿਆਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਹੈ।
-ਇਹ ਲੇਖ ਪ੍ਰਕਾਸ਼ਿਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀਵੈਕਿਊਮ ਕੋਟਿੰਗ ਉਪਕਰਣ ਨਿਰਮਾਤਾ ਜ਼ੇਨਹੂਆ ਵੈਕਿਊਮ
ਪੋਸਟ ਸਮਾਂ: ਅਗਸਤ-04-2026