အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်များ၏ အခန်းကဏ္ဍ

ခေတ်သစ် vacuum coating လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်သည် အဓိက auxiliary unit အနေဖြင့် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပြီး PVD (Physical Vapor Deposition) နှင့် PVD (Physical Vapor Deposition) တို့တွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုကြသည်။အလင်းအမှောင်ဖုံးအုပ်ခြင်းလယ်ကွင်းများ။ ၎င်းသည် အပေါ်ယံလွှာ၏ သိပ်သည်းဆနှင့် ကပ်ငြိမှုကို လွှမ်းမိုးရုံသာမက ထုတ်ကုန်၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် ထွက်နှုန်းကိုလည်း တိုက်ရိုက်သက်ရောက်မှုရှိသည်။ ဒါဆိုရင် အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်မှာ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်ရဲ့ အခန်းကဏ္ဍက ဘာလဲ။ ၎င်းရဲ့ အလုပ်လုပ်ပုံအခြေခံက ဘာလဲ။ ဒီဆောင်းပါးက အသေးစိတ်ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှုကို ပေးပါလိမ့်မယ်။

အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်ဆိုတာ ဘာလဲ။
အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်ဆိုသည်မှာ လေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် အိုင်းယွန်းများကို ထုတ်လုပ်ပြီး အရှိန်မြှင့်ပေးသည့် ကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ပလာစမာလှုံ့ဆော်မှုနှင့် ကြားနေဓာတ်ငွေ့ဗုံးကြဲခြင်းကဲ့သို့သော နည်းလမ်းများမှတစ်ဆင့် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်သည် မြင့်မားသောစွမ်းအင်အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်များကို ထုတ်လွှတ်ပြီး ၎င်းတို့သည် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း၊ အနည်ကျခြင်းကို အထောက်အကူပြုခြင်းနှင့် ကပ်ငြိမှုကို မြှင့်တင်ခြင်းကဲ့သို့သော လုပ်ဆောင်ချက်များစွာကို လုပ်ဆောင်ရန် အလွှာမျက်နှာပြင် သို့မဟုတ် ကြီးထွားလာသော အလွှာပါးလွှာနှင့် အပြန်အလှန် သက်ရောက်မှုရှိသည်။

အဖြစ်များသော အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်အမျိုးအစားများတွင် အောက်ပါတို့ပါဝင်သည်- Thermionic Ion Source; Hollow Cathode Ion Source; Multipole Ion Source (စွမ်းအင်နည်းအကူအညီအတွက် အသုံးများသည်); အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်၏ အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်များ

၁။ အောက်ခံအလွှာကြိုတင်ပြုပြင်ခြင်း- ကပ်ငြိမှုအားကောင်းစေခြင်း
အနည်ကျခြင်းမပြုမီ၊ အောက်ခံမျက်နှာပြင်တွင် အောက်ဆိုဒ်များ၊ အော်ဂဲနစ်ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများနှင့် အခြားမသန့်စင်မှုများ ပါဝင်လေ့ရှိသည်။ အိုင်းယွန်းသန့်ရှင်းရေးအတွက် အိုင်းယွန်းအရင်းအမြစ်ကို အသုံးပြုခြင်းသည် ဤမျက်နှာပြင်ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးနိုင်ပြီး ဖလင်နှင့် အောက်ခံကြား ချည်နှောင်အားကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေပါသည်။ ရိုးရာသန့်ရှင်းရေးနည်းလမ်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်သန့်ရှင်းရေးသည် ထိတွေ့မှုမရှိခြင်း၊ ပျက်စီးခြင်းမရှိခြင်းနှင့် မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ကဲ့သို့သော အားသာချက်များကို ပေးစွမ်းသည်။

၂။ အနည်ကျခြင်းကို အထောက်အကူပြုခြင်း- ဖလင်ဖွဲ့စည်းပုံကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေခြင်း
အနည်ကျခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်သည် ဖလင်ကြီးထွားမှုအတွင်း အက်တမ်များ၏ အက်တမ်ရွှေ့ပြောင်းနိုင်စွမ်းကို မြှင့်တင်ရန်အတွက် “အရန်စွမ်းအင်အရင်းအမြစ်” အဖြစ် ဆောင်ရွက်နိုင်သည်။ ၎င်းသည် ပိုမိုသိပ်သည်းဆ၊ ပိုမိုတည်ငြိမ်ပြီး ညီညာသော ဖလင်များဖွဲ့စည်းခြင်းကို ဦးတည်စေသည်။ ၎င်းသည် အလင်းတန်းအလွှာများ၊ မာကျောသောအလွှာများနှင့် သိပ်သည်းဆမြင့်မားပြီး ဖိအားနည်းသော အခြားအသုံးချမှုများအတွက် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

၃။ ဖလင်ဖိစီးမှုနှင့် မျက်နှာပြင်ပုံသဏ္ဍာန်ကို ထိန်းချုပ်ခြင်း
အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်၏ စွမ်းအင်နှင့်ထောင့်ကို ချိန်ညှိခြင်းဖြင့် ဖလင်၏ အတွင်းပိုင်းဖိစီးမှု၊ အမှုန်အရွယ်အစားနှင့် အဏုကြည့်မှန်ပြောင်းဖြင့်မြင်ရသော ကြမ်းတမ်းမှုတို့ကိုပင် ထိရောက်စွာ ထိန်းချုပ်နိုင်ပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ အလွှာများစွာပါသော အနှောင့်အယှက်ဖလင်များ သို့မဟုတ် မြင့်မားသောတိကျမှုရှိသော အလင်းတန်းဖလင်များ ပြင်ဆင်ရာတွင် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်အကူအညီသည် “အပေါက်ငယ်များ” နှင့် “အလွှာကွာကျခြင်း” ကဲ့သို့သော အဖြစ်များသော ချို့ယွင်းချက်များကို ကာကွယ်ပေးနိုင်ပြီး ဖလင်၏ တသမတ်တည်းဖြစ်မှုနှင့် တာရှည်ခံမှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။

၄။ အပေါ်ယံလွှာ တသမတ်တည်းဖြစ်မှုနှင့် ထွက်နှုန်းကို မြှင့်တင်ခြင်း
အိုင်းယွန်ရင်းမြစ်၏ အကူအညီဖြင့်၊ အထူးသဖြင့် ရှုပ်ထွေးသောကွေးညွှတ်နေသော မျက်နှာပြင်များ သို့မဟုတ် optical coating အတွက် အရွယ်အစားကြီးမားသော ဖန်နှင့် ပလတ်စတစ် အစိတ်အပိုင်းများပါသည့် ဧရိယာကြီးမားသော workpieces များတွင် ပိုမိုတပြေးညီ coating structure ကို ရရှိနိုင်ပါသည်။ ၎င်းသည် အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုတွင် အထွက်နှုန်းနှင့် ထပ်ခါတလဲလဲ လုပ်ဆောင်နိုင်မှု ထိန်းချုပ်မှုကို တိုးတက်စေရန် ကူညီပေးပါသည်။

လက်တွေ့လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်များ၏ အသုံးချမှုအခြေအနေများ
အလင်းအမှောင်ဖလင် စုပုံခြင်း- ရောင်ပြန်ဟပ်မှု ဆန့်ကျင်သည့် အပေါ်ယံလွှာများ၊ ရောင်ပြန်ဟပ်မှု မြင့်မားသော ဖလင်များနှင့် အလင်းအမှောင် စစ်ထုတ်ကိရိယာများကဲ့သို့သော တိကျသော ဖလင်များ၏ အလင်းအမှောင်ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ကပ်ငြိမှုကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာ ပြင်ဆင်ခြင်း- DLC (စိန်ကဲ့သို့ ကာဗွန်)၊ TiN နှင့် CrN ကဲ့သို့သော မာကျောမှုမြင့်မားသော ဖလင်စနစ်များတွင် ဖလင်သိပ်သည်းဆနှင့် အခွံမခွာနိုင်သော စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပါ။

မော်တော်ကားအတွင်းခန်း အပေါ်ယံလွှာများ- အပေါ်ယံလွှာ၏ အရောင်တသမတ်တည်းဖြစ်မှုနှင့် ကပ်ငြိမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပြီး ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို တိုးချဲ့ပေးသည်။

အီလက်ထရွန်းနစ် အစိတ်အပိုင်းများ၏ မျက်နှာပြင် ပြုပြင်ခြင်း- ပါးလွှာသော ဖလင်ဖွဲ့စည်းပုံ၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် မြင့်မားသော ကြိမ်နှုန်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို သေချာစေသည်။
အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်သည် ခေတ်မီအပေါ်ယံလွှာစနစ်များတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော “တန်ဖိုးမြှင့်” အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ထိန်းချုပ်နိုင်သော မြင့်မားသောစွမ်းအင်ရှိသော အိုင်းယွန်းစီးဆင်းမှုကို မိတ်ဆက်ပေးခြင်းဖြင့် ၎င်းသည် ဖလင်အနည်ထိုင်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ အဆင့်အမျိုးမျိုးတွင် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်။ ၎င်းသည် ကပ်ငြိမှုကို မြှင့်တင်ခြင်း၊ ဖွဲ့စည်းပုံကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်း၊ ဖိစီးမှုကို ထိန်းချုပ်ခြင်း သို့မဟုတ် တည်ငြိမ်မှုကို မြှင့်တင်ခြင်းဖြစ်စေကာမူ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်သည် အရည်အသွေးမြင့်၊ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာများ ရရှိရန် ခိုင်မာသော အထောက်အပံ့ကို ပေးစွမ်းသည်။

အလင်းတန်း မျက်နှာပြင်များ၊ တိကျသော အီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများနှင့် မော်တော်ကားထုတ်လုပ်ရေးကဲ့သို့သော နယ်ပယ်များတွင် စွမ်းဆောင်ရည်လိုအပ်ချက်များ ဆက်လက်တိုးပွားလာသည်နှင့်အမျှ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်နည်းပညာ၏ ဆန်းသစ်တီထွင်မှုသည် ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းစဉ်များကို ပိုမိုမြင့်မားသောအဆင့်သို့ မြှင့်တင်ရာတွင် အဓိကမောင်းနှင်အားတစ်ခု ဖြစ်လာလိမ့်မည်။

- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူ ဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများထုတ်လုပ်သူ Zhenhua ဖုန်စုပ်စက်