Sputtering Target ဆိုတာ ဘာလဲ သိချင်ဖူးလား။ မင်းရှိတယ်ဆိုရင် မင်းနေရာမှန်ပဲ။ ဤဘလော့ဂ်ပို့စ်တွင်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် sputtering ပစ်မှတ်များကမ္ဘာသို့ နက်နဲစွာ စေ့စေ့ငုကြည့်ကာ အဆင့်မြင့် coating နည်းပညာများတွင် ၎င်းတို့၏ အရေးပါပုံကို ဆွေးနွေးပါသည်။
Sputtering ပစ်မှတ်များသည် sputtering လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အဓိကကျသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး၊ ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကို အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးအတွက် အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးအတွက် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့်နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းမှနေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံး ပြားများအတွက် coating ပစ္စည်းများအထိ၊ sputtering ပစ်မှတ်များသည် နည်းပညာတိုးတက်မှုအတွက် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။
ဒါဆို၊ အတိအကျ sputtering ပစ်မှတ်ကဘာလဲ။ ရိုးရှင်းသောအားဖြင့်၊ ၎င်းသည် sputtering source အဖြစ်အသုံးပြုသောပစ္စည်းဖြစ်သည်။ sputtering လုပ်နေစဉ်တွင် အိုင်းယွန်းများသည် sputtering ပစ်မှတ်၏ မျက်နှာပြင်ကို ဗုံးကြဲကာ အက်တမ်/မော်လီကျူးများကို ထုတ်လွှတ်စေသည်။ ထို့နောက် အဆိုပါဖျန်းထားသော အမှုန်အမွှားများသည် ပါးလွှာသော အလွှာတစ်ခုအဖြစ် ဖြစ်ပေါ်လာသည်။
Sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုသည် ရည်ရွယ်ထားသည့် application ပေါ်တွင်မူတည်သည်။ သတ္တုများ၊ သတ္တုစပ်နှင့် ဒြပ်ပေါင်းများကဲ့သို့ မတူညီသော ပစ္စည်းများကို အပ်နှံထားသော ရုပ်ရှင်များ၏ တိကျသော ဂုဏ်သတ္တိများ ရရှိစေရန် အသုံးပြုပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ တိုက်တေနီယမ် sputtering ပစ်မှတ်များကို ၎င်းတို့၏ အလွန်ကောင်းမွန်သော ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် သိပ်သည်းဆနည်းရန်အတွက် အာကာသလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုပါသည်။
ပစ်မှတ်များကို ဖြုန်းတီးခြင်းအတွက် ၀ယ်လိုအားသည် တဖြည်းဖြည်း ကြီးထွားလာကာ စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် တိုးတက်မှုများနှင့်အတူ အရှိန်အဟုန်ဖြင့် တိုးလာခဲ့သည်။ နည်းပညာများ တိုးတက်ပြောင်းလဲလာသည်နှင့်အမျှ ပိုမိုထိရောက်ပြီး တိကျသောပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များအတွက် လိုအပ်မှုမှာ အရေးပါလာပါသည်။ ထို့ကြောင့်၊ sputtering ပစ်မှတ်များသည် အဆင့်မြင့် coating နည်းပညာနယ်ပယ်တွင် နေရာတစ်ခုရှိသည်။
အဆင့်မြင့် coating နည်းပညာများနှင့်ပတ်သက်လာသောအခါ၊ ဤနယ်ပယ်တွင် မကြာသေးမီက တိုးတက်မှုများသည် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းရှိ စက်မှုလုပ်ငန်းကျွမ်းကျင်သူများ၏ အာရုံစိုက်မှုကို ဆွဲဆောင်ခဲ့သည်။ သိပ္ပံပညာရှင်များသည် ပါးလွှာသောဖလင်နည်းပညာနယ်ပယ်ကို တော်လှန်ရန် ကတိပြုသော sputtering ပစ်မှတ် အမျိုးအစားသစ်ကို အောင်မြင်စွာ တီထွင်နိုင်ခဲ့သည်။ ပစ္စည်းအသစ်သည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် တာရှည်ခံမှုကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပြီး အီလက်ထရွန်းနစ်၊ အလင်းနှင့် စွမ်းအင်ကဲ့သို့သော နယ်ပယ်များတွင် ဖြစ်နိုင်ခြေအသစ်များကို ဖွင့်လှစ်ပေးနိုင်သည်။
နိဂုံးချုပ်အားဖြင့်၊ sputtering ပစ်မှတ်များသည် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်ထုတ်လုပ်ရေး၏ အရေးကြီးသော အစိတ်အပိုင်းဖြစ်ပြီး စက်မှုလုပ်ငန်းအမျိုးမျိုး၏ နည်းပညာတိုးတက်မှုကို အထောက်အကူဖြစ်စေပါသည်။ ၎င်းတို့၏ သြဇာလွှမ်းမိုးမှုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ ထုတ်လုပ်မှုမှ ဆိုလာပြားများ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအထိ ကျယ်ပြန့်သည်။ နည်းပညာတိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှ၊ ဆန်းသစ်သော sputtering ပစ်မှတ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသည် အဆင့်မြင့် coating နည်းပညာများ၏ အနာဂတ်ကို ဆက်လက်ပုံဖော်သွားမည်ဖြစ်သည်။
စာတိုက်အချိန်- ဇူလိုင်-၂၆-၂၀၂၃