Sputtering systems ဟုလည်းသိကြသော Sputter deposition machines များသည် ပါးလွှာသောဖလင်အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အသုံးပြုသော အထူးပြုကိရိယာများဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် စွမ်းအင်မြင့် အိုင်းယွန်း သို့မဟုတ် အက်တမ်များဖြင့် ပစ်မှတ်ကို ဗုံးကြဲခြင်း ပါ၀င်သည့် sputtering နိယာမအပေါ် လုပ်ဆောင်သည်။ လုပ်ငန်းစဉ်သည် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းတစ်ခုမှ အက်တမ်တစ်ချောင်းကို ထုတ်လွှတ်ပြီး ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုဖြစ်လာစေရန် အလွှာတစ်ခုပေါ်သို့ အပ်နှံသည်။
မြင့်မားသော သန့်စင်မှု၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော တူညီမှုနှင့် ထိန်းချုပ်မှုအထူရှိသော ရုပ်ရှင်များကို ထုတ်လုပ်နိုင်ခြင်းကြောင့် sputter deposition machines များအသုံးပြုမှုသည် အလွန်ကျယ်ပြန့်လာပါသည်။ ထိုကဲ့သို့သော ရုပ်ရှင်များသည် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်၊ အလင်းပြန်မှု၊ ဆိုလာဆဲလ်များ၊ သံလိုက်သိုလှောင်မှုမီဒီယာနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် ကျယ်ပြန့်စွာ အသုံးပြုနိုင်သည်။
sputter deposition machine နယ်ပယ်တွင် မကြာသေးမီက တိုးတက်မှုများသည် လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်သော လက္ခဏာများကို ဖြစ်ပေါ်စေခဲ့သည်။ ထင်ရှားသောတိုးတက်မှုတစ်ခုမှာ သိုလှောင်မှုနှုန်းပိုမိုမြင့်မားပြီး ဖလင်အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ပေးသည့် Magnetron sputtering နည်းပညာကို ပေါင်းစပ်ထည့်သွင်းခြင်းဖြစ်သည်။ ဤဆန်းသစ်တီထွင်မှုသည် သတ္တုများ၊ သတ္တုအောက်ဆိုဒ်များနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများအပါအဝင် ပစ္စည်းအမျိုးမျိုးကို အပ်နှံခွင့်ပြုသည်။
ထို့အပြင်၊ ဓာတ်ငွေ့ဖိအား၊ ပါဝါသိပ်သည်းဆ၊ ပစ်မှတ်ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် အလွှာအပူချိန်တို့ကဲ့သို့ ဓာတ်ငွေ့ဖိအား၊ ပါဝါသိပ်သည်းဆ၊ ပစ်မှတ်ဖွဲ့စည်းမှုနှင့် မြေအောက်ခန်းအပူချိန်တို့ကဲ့သို့ တိကျစွာထိန်းချုပ်မှုသေချာစေမည့် အဆင့်မြင့်ထိန်းချုပ်မှုစနစ်များ တပ်ဆင်ထားပါသည်။ ဤတိုးတက်မှုများသည် ရုပ်ရှင်စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပေးပြီး သီးသန့်အသုံးချပရိုဂရမ်များနှင့် အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေသော ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် ရုပ်ရှင်များကို ထုတ်လုပ်နိုင်စေပါသည်။
ထို့အပြင်၊ နာနိုနည်းပညာနယ်ပယ်တွင် စဉ်ဆက်မပြတ် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာမှုသည် sputter deposition machines မှ များစွာအကျိုးဖြစ်ထွန်းစေပါသည်။ သုတေသီများသည် အလွန်တိကျမှုမြင့်မားသော နာနိုဖွဲ့စည်းပုံများနှင့် နာနိုဖွဲ့စည်းပုံအလွှာများကို ဖန်တီးရန် ဤစက်များကို အသုံးပြုနေကြသည်။ Sputter deposition machines များသည် ရှုပ်ထွေးသော ပုံသဏ္ဍာန်များနှင့် ကြီးမားသော ဧရိယာများပေါ်တွင် ပါးလွှာသော ဖလင်များကို အပ်နှံနိုင်သောကြောင့် ၎င်းတို့ကို နာနိုစကေးအသုံးအဆောင်အမျိုးမျိုးအတွက် စံပြဖြစ်စေပါသည်။
နာမည်ကြီး သုတေသနအဖွဲ့အစည်းတစ်ခုမှ သိပ္ပံပညာရှင်အဖွဲ့တစ်ဖွဲ့သည် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များကို မကြုံစဖူး တိကျစွာ အပ်နှံနိုင်သည့် sputter deposition machine အသစ်ကို အောင်မြင်စွာ တီထွင်နိုင်ခဲ့ကြောင်း မကြာသေးမီက သတင်းများအရ သိရသည်။ ဤနောက်ဆုံးပေါ်စက်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သော ရုပ်ရှင်တူညီမှုနှင့် အထူထိန်းချုပ်မှုရရှိရန်အတွက် ခေတ်မီသော ထိန်းချုပ်မှု အယ်လဂိုရီသမ်များနှင့် ဆန်းသစ်သော Magnetron ဒီဇိုင်းတို့ကို ပေါင်းစပ်ထားသည်။ သုတေသနအဖွဲ့သည် ၎င်း၏စက်သည် မျိုးဆက်သစ် အီလက်ထရွန်နစ်စက်ပစ္စည်းများနှင့် စွမ်းအင်သိုလှောင်မှုစနစ်များ၏ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို တော်လှန်ပြောင်းလဲပစ်မည်ဟု မျှော်မှန်းထားသည်။
ပိုမိုကောင်းမွန်သော လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းများဖြင့် ပစ္စည်းအသစ်များကို တီထွင်ခြင်းသည် သိပ္ပံပညာအသိုင်းအဝိုင်း၏ မဆုတ်မနစ်သော လိုက်စားမှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ Sputter deposition machines များသည် ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် ပစ္စည်းအသစ်များကို ရှာဖွေတွေ့ရှိပြီး ပေါင်းစပ်မှုကို လွယ်ကူချောမွေ့စေကာ ဤရှာဖွေရေးတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်လာပါသည်။ သုတေသီများသည် ရုပ်ရှင်ကြီးထွားမှု ယန္တရားများကို လေ့လာရန်၊ အံဝင်ခွင်ကျ ဂုဏ်သတ္တိရှိသော လေ့လာမှုပစ္စည်းများ၊ နည်းပညာ၏ အနာဂတ်ကို ပုံဖော်နိုင်သည့် ပစ္စည်းအသစ်များကို ရှာဖွေတွေ့ရှိရန် ဤစက်များကို အသုံးပြုနေကြသည်။
- ဤဆောင်းပါးကိုထုတ်ဝေသည်။ဖုန်စုပ်စက်အလွှာထုတ်လုပ်သူGuangdong Zhenhua
တင်ချိန်- အောက်တိုဘာ ၃၀-၂၀၂၃