လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် ပစ္စည်းကိရိယာ ရှုထောင့်မှ နည်းပညာဆိုင်ရာ ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာမှု
ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် အပ်ငွေn ကို သိပ်သည်းပြီး ခိုင်မာစွာ ကပ်ငြိနိုင်သော နှင့် အလွန်မာကျောသော အပေါ်ယံလွှာများကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည့် မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းဓာတ်ပြုမှု PVD နည်းပညာအဖြစ် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသိအမှတ်ပြုထားသည်။
ဤလုပ်ငန်းစဉ်၏ အဓိကအချက်တွင် cathodic arc discharges များမှ ထုတ်လုပ်သော ထူးခြားသည့် plasma ရှိပြီး၊ ၎င်း၏ ဝိသေသလက္ခဏာများသည် magnetron sputtering နှင့် အခြား PVD နည်းပညာများနှင့် အခြေခံအားဖြင့် ခွဲခြားပေးသည်။
အပေါ်ယံလွှာဖွဲ့စည်းပုံ၊ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ရေရှည်လုပ်ငန်းစဉ်တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းချုပ်ရန်အတွက် cathodic arc စနစ်များတွင် plasma အပြုအမူကို နားလည်ခြင်းသည် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။
၁။ ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် ပလာစမာ၏ မူလအစ
ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် ನ್ಯಾನို ...
cathode အစက်အပြောက်များ၏ အဓိကအင်္ဂါရပ်များ ပါဝင်သည်-
၁။ ဒေသတွင်း လျှပ်စီးကြောင်း သိပ်သည်းဆ အလွန်မြင့်မားခြင်း (10⁶–10⁸ A/cm²)
၂။ အလွန်မြင့်မားသော ဒေသအလိုက် အပူချိန်
၃။ ကက်သုတ်ပစ္စည်း၏ လျင်မြန်စွာ ပေါက်ကွဲထွက်သော အငွေ့ပျံခြင်း
ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည် ကြားနေအက်တမ်များအစား အိုင်းယွန်းဓာတ်ပါဝင်သော ပစ်မှတ်ပစ္စည်းဖြင့် အဓိကဖွဲ့စည်းထားသော ပလာစမာကို ထုတ်လုပ်သည်။
၂။ မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းဓာတ်ပြုမှုဒီဂရီ- အဓိပ္ပာယ်ဖွင့်ဆိုချက် ဝိသေသလက္ခဏာ
cathodic arc plasma ရဲ့ အရေးအကြီးဆုံး အင်္ဂါရပ်တွေထဲက တစ်ခုက ၎င်းရဲ့ အလွန်အမင်း မြင့်မားတဲ့ ionization fraction ပါ။
သတ္တုမျိုးစိတ်များ၏ အိုင်းယွန်းဓာတ်ပေါင်းခြင်းနှုန်းသည် 70–90% ထက်ကျော်လွန်နိုင်ပြီး အိုင်းယွန်းအများစုသည် များပြားစွာအားသွင်းထားသည် (M²⁺၊ M³⁺)။
ဤမြင့်မားသော ionization အဆင့်သည် အောက်ပါတို့ကို ဖြစ်စေသည်-
၁။ အိုင်းယွန်း-အလွှာ အပြန်အလှန် သက်ရောက်မှု ပြင်းထန်သည်
၂။ ဖလင်သိပ်သည်းဆ မြှင့်တင်ခြင်း
၃။ အပူချိန်နိမ့်သော အောက်ခံအလွှာတွင်ပင် အပေါ်ယံလွှာ ကပ်ငြိမှု ပိုမိုကောင်းမွန်ခြင်း
အင်ဂျင်နီယာရှုထောင့်မှကြည့်လျှင် မြင့်မားသော အိုင်းယွန်းဓာတ်ပြုမှုသည် အထူးသဖြင့် မာကျောပြီး အကာအကွယ်ပေးသော အပေါ်ယံလွှာများအတွက် ကျယ်ပြန့်ပြီး ခိုင်မာသော လုပ်ငန်းစဉ်ဝင်းဒိုးကို ပေးစွမ်းသည်။
၃။ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်နှင့် ဦးတည်ချက်မြင့်မားခြင်း
ကက်သိုဒစ် အာ့ခ် ပလာစမာသည် မြင့်မားသော အတွင်းအိုင်းယွန်းစွမ်းအင်ကို ပြသပြီး ပုံမှန်အားဖြင့် အီလက်ထရွန် ဗို့အား ဆယ်ဂဏန်းမှ ရာကျော်အထိ ရှိသည်။
ဤစွမ်းအင်ပြည့်ဝသော ပလာစမာ၏ အကျိုးဆက်များတွင် အောက်ပါတို့ ပါဝင်သည်-
၁။ မျက်နှာပြင်ကို ထိရောက်စွာ အသက်ဝင်စေခြင်းနှင့် သန့်စင်ခြင်း
၂။ အောက်ခံပေါ်တွင် အာဒါတမ် ရွေ့လျားနိုင်မှု တိုးလာခြင်း
၃။ သိပ်သည်းသော၊ အမှုန်အမွှားများသော သို့မဟုတ် ပုံပျက်နေသော အလွှာဖွဲ့စည်းပုံများ ဖွဲ့စည်းခြင်း
substrate biasing နှင့် ပေါင်းစပ်လိုက်သောအခါ၊ အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်ကို ဟန်ချက်ညီစေရန် တိကျစွာ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်နိုင်သည်-
၁။ ဖလင်သိပ်သည်းဆ
၂။ ကျန်ရှိနေသော ဖိစီးမှု ထိန်းချုပ်ခြင်း
၃။ အပေါ်ယံလွှာ ကပ်ငြိမှု
ဤထိန်းချုပ်နိုင်မှုသည် စက်မှုလုပ်ငန်းအသုံးချမှုများတွင် cathodic arc စနစ်များ၏ အဓိကအားသာချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။
၄။ ပလာစမာသိပ်သည်းဆနှင့် သယ်ယူပို့ဆောင်ရေး ဝိသေသလက္ခဏာများ
အခြား PVD ပလာစမာများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက cathodic arc plasma တွင် အောက်ပါလက္ခဏာများ တွေ့ရှိရသည်-
၁။ ပလာစမာသိပ်သည်းဆ အလွန်မြင့်မားခြင်း
၂။ ကက်သုတ်အစက်မှ ခိုင်မာသော ကိုယ်တိုင်မောင်းနှင်သည့် ပလာစမာ ချဲ့ထွင်မှု
ပလာစမာသယ်ယူပို့ဆောင်ရေးကို အောက်ပါတို့က လွှမ်းမိုးထားသည်- arc current၊ သံလိုက်စတီယာရင်စက်ကွင်းများ၊ အခန်းဂျီသြမေတြီ။
သင့်လျော်သော ပလာစမာလမ်းညွှန်မှုကို သေချာစေသည်- အလွှာအထူ တစ်ပြေးညီဖြစ်ခြင်း၊ တည်ငြိမ်သော အနည်ကျမှုနှုန်း၊ အသုတ်လိုက် ಒಟ್ಟಾರೆಯಾಸದ ...
၅။ မက်ခရိုအမှုန်များ- မွေးရာပါ ပလာစမာစိန်ခေါ်မှု
cathodic arc plasma ၏ ထူးခြားသော အင်္ဂါရပ်တစ်ခုမှာ macroparticles (droplets) များကို တစ်ပြိုင်နက်တည်း ထုတ်လုပ်ခြင်းဖြစ်သည်။
ဤအရည်ပျော်နေသော သို့မဟုတ် အစိုင်အခဲ အမှုန်များသည် အောက်ပါတို့မှ ဆင်းသက်လာသည်- ကတ်သုတ်အစက်များတွင် ပေါက်ကွဲစေတတ်သော ပစ္စည်းထုတ်လွှတ်မှု၊ မက်ခရိုအမှုန်များသည် အောက်ပါတို့ကို ဆိုးကျိုးသက်ရောက်နိုင်သည်- မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု၊ အလင်းအရည်အသွေး၊ ထရိုင်ဘိုလောဂျီစွမ်းဆောင်ရည်
၎င်းကိုဖြေရှင်းရန်အတွက် စက်မှုလုပ်ငန်းစနစ်များသည် အောက်ပါတို့ကို ယေဘုယျအားဖြင့် ပေါင်းစပ်ထားလေ့ရှိသည်-
သံလိုက် သို့မဟုတ် ပြွန်အမျိုးအစား စစ်ထုတ်ထားသော အာ့ခ် ပလာစမာစနစ်များ
အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ထားသော cathode spot steering ယန္တရားများ
Filtered arc နည်းပညာသည် အမှုန်အမွှားညစ်ညမ်းမှုကို သိသိသာသာ လျှော့ချပေးစဉ်တွင် မြင့်မားသော ionization အကျိုးကျေးဇူးများကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။
- ဤဆောင်းပါးကို ထုတ်ဝေသူဖုန်စုပ်အပေါ်ယံလွှာပစ္စည်းကိရိယာများထုတ်လုပ်သူ Zhenhua ဖုန်စုပ်စက်
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၆ ခုနှစ်၊ ဇန်နဝါရီလ ၁၂ ရက်
