Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Branchennews
-
Haaptmerkmale vun der RF-Sputterbeschichtung
A. Héich Sputterquote. Zum Beispill, beim Sputtere vu SiO2 kann d'Oflagerungsquote bis zu 200 nm/min sinn, normalerweis bis zu 10~100 nm/min. An d'Quote vun der Filmbildung ass direkt proportional zu der Héichfrequenzleistung. B. D'Adhäsioun tëscht dem Film an dem Substrat ass méi grouss wéi d'Vakuumdamp...Liest méi -
Beschichtungslinnen fir d'Produktioun vu Filmer fir Autolampen
Produktiounslinne fir Autoluuchtenfolie sinn en essentiellen Deel vun der Automobilindustrie. Dës Produktiounslinne si verantwortlech fir d'Beschichtung an d'Produktioun vun Autoluuchtenfolien, déi eng entscheedend Roll bei der Verbesserung vun der Ästhetik an der Funktionalitéit vun Autoluuchten spillen. Well d'Nofro no héichqualitativen...Liest méi -
D'Roll vum Magnéitfeld beim Magnetronsputteren
Magnetronsputtering ëmfaasst haaptsächlech den Entladungsplasma-Transport, d'Zilätzen, dënnfilmoflagerung an aner Prozesser, woubei d'Magnéitfeld um Magnetronsputteringprozess en Impakt huet. Am Magnetronsputteringsystem plus orthogonalt Magnéitfeld sinn d'Elektronen dem ...Liest méi -
Ufuerderunge vum Pompelsystem fir Vakuumbeschichtungsmaschinnen
D'Vakuumbeschichtungsmaschinn um Pompelsystem huet déi folgend Basisfuerderungen: (1) De Beschichtungsvakuumsystem soll eng genuch grouss Pompelgeschwindegkeet hunn, déi net nëmmen d'Gasen, déi vum Substrat fräigesat ginn, an d'verdampft Materialien, mä och d'Komponenten am Vakuumch séier erauspompe soll...Liest méi -
Bijouen PVD Beschichtungsmaschinn
D'Bijou-PVD-Beschichtungsmaschinn benotzt e Prozess, deen als Physical Vapor Deposition (PVD) bekannt ass, fir eng dënn awer haltbar Beschichtung op Bijouen opzedroen. Dëse Prozess ëmfaasst d'Benotzung vun héichreine, massive Metallziler, déi an engem Vakuumëmfeld verdampft ginn. De resultéierende Metalldamp konditiounéiert dann...Liest méi -
Kleng flexibel Pvd Vakuumbeschichtungsmaschinn
Ee vun den Haaptvirdeeler vu klenge flexible PVD-Vakuumbeschichtungsmaschinne ass hir Villfältegkeet. Dës Maschinne si sou konzipéiert, datt se eng Vielfalt vu Substratgréissten a Formen ënnerbrénge kënnen, wat se ideal fir kleng oder personaliséiert Produktiounsprozesser mécht. Zousätzlech ass hir kompakt Gréisst a flexibel Konfiguratioun...Liest méi -
Schneidinstrumenter Vakuumbeschichtungsmaschinn
An der ëmmer weiderentwéckelter Fabrikatiounsindustrie spillen Schnëttinstrumenter eng wichteg Roll bei der Gestaltung vun de Produkter, déi mir all Dag benotzen. Vum Präzisiounsschneiden an der Loftfaartindustrie bis zu komplexen Designen am medizinesche Beräich klëmmt d'Nofro no héichqualitativen Schnëttinstrumenter weider. Fir dëser Nofro gerecht ze ginn, hunn d'USA...Liest méi -
Effekt vum Ionenbombardement op d'Grenzfläche tëscht Filmschicht a Substrat
Wann d'Oflagerung vu Membranatome ufänkt, huet den Ionenbombardement déi folgend Auswierkungen op d'Grenzfläche tëscht Membran a Substrat. (1) Physikalesch Vermëschung. Wéinst der héichenergetescher Ioneninjektioun, dem Sputteren vun den ofgesaten Atomer an der Réckstoussinjektioun vun Uewerflächenatome an dem Kaskadekollisiounsphänomen,...Liest méi -
Revival an Entwécklung vun der Vakuumsputterbeschichtung
Sputtering ass e Phänomen, bei deem energesch Partikelen (normalerweis positiv Ionen vu Gasen) d'Uewerfläch vun engem Feststoff (hei ënnendrënner als Zilmaterial bezeechent) treffen, wouduerch Atomer (oder Molekülen) op der Uewerfläch vum Zilmaterial dovunner entkommen. Dëst Phänomen gouf vum Grove am Joer 1842 entdeckt, wéi...Liest méi -
Charakteristike vun der Magnetron-Sputterbeschichtung Kapitel 2
Charakteristike vun der Magnetron-Sputterbeschichtung (3) Niddregenergie-Sputteren. Wéinst der gerénger Kathodspannung, déi op d'Zil ugewannt gëtt, gëtt de Plasma vum Magnéitfeld am Raum bei der Kathod gebonnen, wouduerch déi héichenergetesch gelueden Partikelen op der Säit vum Substrat, op déi d'Leit schéissen, verhënnert ginn. Den...Liest méi -
Charakteristike vun der Magnetron-Sputterbeschichtung Kapitel 1
Am Verglach mat anere Beschichtungstechnologien ass d'Magnetron-Sputterbeschichtung duerch déi folgend Eegeschafte charakteriséiert: d'Aarbechtsparameter hunn e groussen dynameschen Upassungsberäich vun der Beschichtungsoflagerungsgeschwindegkeet an der Déckt (den Zoustand vun der beschichteter Fläch) kënnen einfach kontrolléiert ginn, an et gëtt kee Design...Liest méi -
Technologie vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung
Ionenstrahl-assistéiert Oflagerungstechnologie ass d'Ionenstrahl-Injektiouns- a Gasoflagerungsbeschichtungstechnologie, déi mat der Veraarbechtungstechnologie vun Ionenuewerflächenkompositen kombinéiert gëtt. Am Prozess vun der Uewerflächenmodifikatioun vun ioneninjezéierte Materialien, egal ob Hallefleedermaterialien oder Ingenieursmaterialien, ass et...Liest méi -
Experimentell Vakuumbeschichtungsmaschinn
An de leschte Jore goufen bedeitend Fortschrëtter an Duerchbréch am Beräich vun der Vakuumbeschichtungstechnologie gemaach. Dëst ass nëmme méiglech dank onermiddlechen Efforten an Experimenter a Fuerschung. Ënnert de ville Maschinnen, déi an dësem Beräich benotzt ginn, sinn experimentell Vakuumbeschichtungsmaschinne Schlësselinstrumenter fir d'Erreeche vun ...Liest méi -
Prinzipie vun der CVD-Technologie
D'CVD-Technologie baséiert op enger chemescher Reaktioun. D'Reaktioun, bei där d'Reaktanten am gasfërmegen Zoustand sinn an ee vun de Produkter am festen Zoustand, gëtt normalerweis als CVD-Reaktioun bezeechent, dofir muss säi chemescht Reaktiounssystem déi folgend dräi Konditioune erfëllen. (1) Bei der Oflagerungstemperatur...Liest méi -
Brëll Lënsen optesch Vakuumbeschichtungsmaschinn
An der haiteger, séier verännerter Welt sinn d'Brëller en integralen Deel vun eisem Liewe ginn. Dës scheinbar einfach Accessoiren hunn sech vun enger Noutwennegkeet zu engem Moudestatement entwéckelt. Vill Leit sinn sech awer net bewosst iwwer de komplizéierte Prozess, deen dobäi ass, e perfekt Brëllepaar ze kreéieren. Dëst ass...Liest méi
