Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii Industriae
-
Machina Vacuo Obducendi Pelliculae Tenuis AF Evaporationis Opticae PVD
Machina AF Tenuis Pelliculae Evaporationis Opticae PVD ad obductionem vacui applicandam destinata est ad obductionem tenuem pellicularum machinis mobilibus applicandam utens processu Depositionis Vaporis Physicae (PVD). Processus implicat creationem ambitus vacui intra cameram obductionis ubi materiae solidae evaporantur et deinde deponuntur...Plura lege -
Machina fabricanda speculorum aluminio argento obducta in vacuo
Machina ad specula fabricanda, quae aluminii argento obducuntur in vacuo, industriam fabricationis speculorum per technologiam provectam et artem praecisionis revolutionavit. Haec machina modernissima destinata est ad tenuem stratum aluminii argento superficiei vitri applicandum, ita ut specula summae qualitatis...Plura lege -
Machina obducendi vacuum optica
Metallizator opticus vacuus est technologia modernissima quae industriam superficierum tegendarum revolutionavit. Haec machina provecta processum, qui "metallizatio optica vacuus" appellatur, adhibet ad tenuem metalli stratum variis substratis applicandum, superficiem valde reflectentem et durabilem creans...Plura lege -
Depositio Vaporis Chemici Plasma Augmentata Caput II
Pleraque elementa chemica vaporizari possunt per combinationem cum gregibus chemicis, exempli gratia Si cum H reagit ad SiH4 formandum, et Al cum CH3 coniungitur ad Al(CH3) formandum. In processu CVD thermali, gases supradicti certam energiae thermalis quantitatem absorbent dum per substratum calefactum transeunt et re...Plura lege -
Depositio Vaporis Chemici Plasma Augmentata Caput I
Depositio Vaporis Chemici (DVC). Ut nomen indicat, est ars quae reactantibus praecursoribus gasosis utitur ad pelliculas solidas generandas per reactiones chemicas atomicas et intermoleculares. Dissimilis DVC, processus DVC plerumque perficitur in ambitu pressionis altioris (vacui inferioris), cum...Plura lege -
Elementa Processus et Mechanismi Actionis Qualitatem Instrumentorum Tenuium Pellicularum Afficientes (Pars II)
3. Influentia temperaturae substrati Temperatura substrati est una ex condicionibus magni momenti ad incrementum membranae. Supplementum energiae additum atomis vel moleculis membranae praebet, et imprimis structuram membranae, coefficientem agglutinationis, coefficientem expansionis et aggregationem afficit...Plura lege -
Factores Processuum et Mechanismi Qualitatem Instrumentorum Tenuium Pellicularum Afficientes (Pars 1)
Fabricatio instrumentorum pelliculae tenuis opticae in camera vacuo perficitur, et incrementum pelliculae processus microscopicus est. Attamen, hodie, processus macroscopici qui directe regi possunt sunt quidam factores macroscopici qui relationem indirectam cum qualitate habent...Plura lege -
Introductio historiae evolutionis technologiae evaporationis
Processus calefactionis materiarum solidarum in alto vacuo ad sublimandum vel evaporandum et deponendum in substrato specifico ad pelliculam tenuem obtinendam, "vacuum evaporation coating" (quod "evaporation coating" appellatur) appellatur. Historia praeparationis pellicularum tenuium per evaporationem vacuum...Plura lege -
Introductio ad ITO Coating
Indii stanneum oxidum (ITO appellatum) est materia semiconductoria generis n, latae zonae hiatus, valde dopata, cum alta transmittantia lucis visibilis et humilis resistentiae characteristicis, et ideo late adhibetur in cellulis solaribus, ostentationibus planis, fenestris electrochromicis, inorganicis et organicis...Plura lege -
Machina ad rotationem oblinendum in vacuo laboratorio
Machinae rotatoriae in laboratorio ad depositionem pellicularum tenuium et modificationem superficiei destinatae sunt. Haec machina provectior ad accurate et aequaliter applicandas pelliculas tenues variarum materiarum ad substrata destinatur. Processus applicationem solutionis liquidae vel ...Plura lege -
Modus depositionis fasciculo ionico adiutus et eius selectio energiae
Duo modi praecipui depositionis fasciculo ionico adiuvatae sunt: unus hybridus dynamicus, alter hybridus staticus. Prior ad pelliculam in processu accretionis semper comitandam est energia quadam et currente fasciculi bombardamenti ionici et pelliculae; posterior autem praedeponitur in superficie...Plura lege -
Technologia Depositionis Fasciculi Ionici
① Technologia depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesione valida inter pelliculam et substratum insignitur, stratum pelliculae valde validum esse. Experimenta demonstraverunt: adhaesionem depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesionem depositionis vaporis thermalis pluries ad centena auctam...Plura lege -
Tegumentum Ionicum Vacuum
Tegumentum ionicum vacuum (quod "ion plate" appellatur) est in Civitatibus Foederatis Americae anno 1963 a societate Somdia DM Mattox propositum, decennio 197 celeriter nova technologia tractationis superficiei progressa est. Ad usum fontis evaporationis vel scopi pulverisationis in atmosphaera vacua refertur, ut pellicula...Plura lege -
Stratum pelliculae in vitro obducto removendum est.
Vitrum obductum dividitur in vitrum evaporatione obductum, vitrum magnetrone sputtering obductum, et vitrum vapore deposito in linea obductum. Cum modus praeparandi pelliculam differat, modus removendi pelliculam etiam differt. Consilium 1, Acidum hydrochloricum et pulverem zinci ad poliendum et fricandum adhibendo...Plura lege -
Munus Tegumentorum Instrumentorum Secantium - Caput II
Etiam ad temperaturas sectionis altissimas, vita usus instrumenti secandi extendi potest obductione, ita sumptus machinationis significanter minuendo. Praeterea, obductio instrumenti secandi potest necessitatem fluidorum lubricorum minuere. Non solum sumptus materiarum minuit, sed etiam adiuvat ad ambitum protegendum...Plura lege
