Anno 2009, cum cellulae tenues calcitae apparere coeperunt, efficientia conversionis tantum 3.8% erat, et celerrime crevit. In Unitate 2018, efficientia laboratorium 23% superavit. Formula molecularis fundamentalis compositi chalcogenidi est ABX3, et positio A plerumque est ion metallicus, ut Cs+ vel Rb+, vel grex functionalis organicus, ut (CH3NH3;), [CH(NH2)2]+; positio B plerumque est cationes bivalentes, ut iones Pb2+ et Sn2+; positio X plerumque est aniones halogeni, ut Br-, I-, Cl-. Mutando componentes compositorum, latitudo prohibita compositorum chalcogenidi inter 1.2 et 3.1 eV adaptari potest. Conversio photovoltaica altae efficientiae cellularum chalcogenidarum ad longitudines undarum breves, superimposita cellulis cum effectu conversionis egregio ad longitudines undarum longas, ut cellulae heterogeneae silicii crystallini, theoretice efficientiam conversionis photovoltaicae plus quam 30% consequi potest, limitem efficientiae conversionis theoreticae cellularum silicii crystallini 29.4% superans. Anno 2020, haec accumulatoria strata iam efficientiam conversionis 29.15% in Laboratorio Berolinense Heimholtziano, Germania, attigit, et cellula strata chalcogenido-silicii crystallini una ex praecipuis technologiis accumulatorum novae generationis habetur.
Stratum pelliculae chalcogenidi duobus gradibus peractum est: primo, pelliculae porosae Pbl2 et CsBr in superficie cellularum heteroiunctionis cum superficiebus lanuginosis per co-evaporationem depositae sunt, deinde solutione organohalogenidi (FAI, FABr) per rotationem obductae. Solutio halogenidi organici in poros pelliculae inorganicae vapore depositae penetrat, deinde reagit et crystallizatur ad 150 gradus Celsii ad stratum pelliculae chalcogenidi formandum. Crassitudo pelliculae chalcogenidi sic obtentae 400-500 nm erat, et in serie cum cellula heteroiunctionis subiacenti coniuncta est ad adaptationem currentis optimizandam. Strata translationis electronum in pellicula chalcogenidi sunt LiF et C60, successive obtentae per depositionem vaporis thermalis, deinde per depositionem strati atomici tamponis, SnO2, et per sputtering magnetronicum TCO ut electrodum anteriorem pellucidum. Fidelitas huius cellulae congestae melior est quam cellulae chalcogenidi unius strati, sed stabilitas pelliculae chalcogenidi sub influxubus ambientalibus vaporis aquae, lucis et caloris adhuc emendanda est.
Tempus publicationis: Oct-XX-MMXXIII