ಗುವಾಂಗ್ಡಾಂಗ್ ಝೆನ್ಹುವಾ ಟೆಕ್ನಾಲಜಿ ಕಂ., ಲಿಮಿಟೆಡ್ಗೆ ಸುಸ್ವಾಗತ.
ಉದ್ಯಮ ಸುದ್ದಿ
-
AF ಥಿನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ PVD ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಕೋಟಿಂಗ್ ಮೆಷಿನ್
AF ಥಿನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ PVD ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರವು ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (PVD) ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಮೊಬೈಲ್ ಸಾಧನಗಳಿಗೆ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯೊಳಗೆ ನಿರ್ವಾತ ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಘನ ವಸ್ತುಗಳು ಆವಿಯಾಗಿ ನಂತರ ಠೇವಣಿ ಇಡಲಾಗುತ್ತದೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಬೆಳ್ಳಿ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಕನ್ನಡಿ ತಯಾರಿಕಾ ಯಂತ್ರ
ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಸಿಲ್ವರ್ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಲೇಪನ ಕನ್ನಡಿ ತಯಾರಿಸುವ ಯಂತ್ರವು ತನ್ನ ಮುಂದುವರಿದ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ನಿಖರ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ನೊಂದಿಗೆ ಕನ್ನಡಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಕ್ರಾಂತಿಯನ್ನುಂಟು ಮಾಡಿದೆ. ಈ ಅತ್ಯಾಧುನಿಕ ಯಂತ್ರವು ಗಾಜಿನ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಬೆಳ್ಳಿಯ ತೆಳುವಾದ ಲೇಪನವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರ
ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಮೆಟಲೈಜರ್ ಒಂದು ಅತ್ಯಾಧುನಿಕ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದ್ದು ಅದು ಮೇಲ್ಮೈ ಲೇಪನ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಕ್ರಾಂತಿಯನ್ನುಂಟು ಮಾಡಿದೆ. ಈ ಸುಧಾರಿತ ಯಂತ್ರವು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಮೆಟಲೈಸೇಶನ್ ಎಂಬ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ವಿವಿಧ ತಲಾಧಾರಗಳಿಗೆ ಲೋಹದ ತೆಳುವಾದ ಪದರವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಹೆಚ್ಚು ಪ್ರತಿಫಲಿಸುವ ಮತ್ತು ಬಾಳಿಕೆ ಬರುವ ಸರ್... ಅನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ.ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವರ್ಧಿತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ ಅಧ್ಯಾಯ 2
ಹೆಚ್ಚಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಅಂಶಗಳನ್ನು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಂಪುಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸುವ ಮೂಲಕ ಆವಿಯಾಗಿಸಬಹುದು, ಉದಾಹರಣೆಗೆ Si H ನೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿ SiH4 ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು Al CH3 ನೊಂದಿಗೆ ಸಂಯೋಜಿಸಿ Al(CH3) ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಉಷ್ಣ CVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಮೇಲಿನ ಅನಿಲಗಳು ಬಿಸಿಯಾದ ತಲಾಧಾರದ ಮೂಲಕ ಹಾದುಹೋಗುವಾಗ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪ್ರಮಾಣದ ಉಷ್ಣ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಮರು... ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ.ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವರ್ಧಿತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ ಅಧ್ಯಾಯ 1
ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD). ಹೆಸರೇ ಸೂಚಿಸುವಂತೆ, ಇದು ಪರಮಾಣು ಮತ್ತು ಅಂತರ-ಅಣು ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಗಳ ಮೂಲಕ ಘನ ಪದರಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಅನಿಲ ಪೂರ್ವಗಾಮಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾಕಾರಿಗಳನ್ನು ಬಳಸುವ ತಂತ್ರವಾಗಿದೆ. PVD ಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿ, CVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡದ (ಕಡಿಮೆ ನಿರ್ವಾತ) ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ, wi...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಅಂಶಗಳು ಮತ್ತು ಕ್ರಿಯೆ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು (ಭಾಗ 2)
3. ತಲಾಧಾರ ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರಭಾವ ತಲಾಧಾರ ತಾಪಮಾನವು ಪೊರೆಯ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಪ್ರಮುಖ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಇದು ಪೊರೆಯ ಪರಮಾಣುಗಳು ಅಥವಾ ಅಣುಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚುವರಿ ಶಕ್ತಿಯ ಪೂರಕವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಪೊರೆಯ ರಚನೆ, ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ಗುಣಾಂಕ, ವಿಸ್ತರಣಾ ಗುಣಾಂಕ ಮತ್ತು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅಂಶಗಳು ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು (ಭಾಗ 1)
ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಾಧನಗಳ ತಯಾರಿಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ಬೆಳವಣಿಗೆಯು ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಪ್ರಸ್ತುತ, ನೇರವಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದಾದ ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು ಗುಣದೊಂದಿಗೆ ಪರೋಕ್ಷ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಕೆಲವು ಮ್ಯಾಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿಕ್ ಅಂಶಗಳಾಗಿವೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಇತಿಹಾಸ ಪರಿಚಯ
ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿರ್ವಾತ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ಘನ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಉತ್ಪತನಗೊಳಿಸಲು ಅಥವಾ ಆವಿಯಾಗಿಸಲು ಮತ್ತು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಪಡೆಯಲು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ನಿರ್ವಾತ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಲೇಪನ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ (ಇದನ್ನು ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ಲೇಪನ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ). ನಿರ್ವಾತ ಬಾಷ್ಪೀಕರಣದಿಂದ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸುವ ಇತಿಹಾಸ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಐಟಿಒ ಲೇಪನ ಪರಿಚಯ
ಇಂಡಿಯಮ್ ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (ಇಂಡಿಯಮ್ ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಐಟಿಒ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ) ಒಂದು ವಿಶಾಲವಾದ ಬ್ಯಾಂಡ್ ಅಂತರ, ಹೆಚ್ಚು ಡೋಪ್ ಮಾಡಲಾದ ಎನ್-ಟೈಪ್ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ವಸ್ತುವಾಗಿದ್ದು, ಹೆಚ್ಚಿನ ಗೋಚರ ಬೆಳಕಿನ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತಿರೋಧಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಹೀಗಾಗಿ ಸೌರ ಕೋಶಗಳು, ಫ್ಲಾಟ್ ಪ್ಯಾನಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಗಳು, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಕ್ರೋಮಿಕ್ ಕಿಟಕಿಗಳು, ಅಜೈವಿಕ ಮತ್ತು ಅಂಗಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಲ್ಯಾಬ್ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಸ್ಪಿನ್ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರ
ಪ್ರಯೋಗಾಲಯದ ನಿರ್ವಾತ ಸ್ಪಿನ್ ಕೋಟಿಂಗ್ಗಳು ತೆಳುವಾದ ಪದರದ ಶೇಖರಣೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಮಾರ್ಪಾಡು ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಸಾಧನಗಳಾಗಿವೆ. ಈ ಮುಂದುವರಿದ ಉಪಕರಣವು ವಿವಿಧ ವಸ್ತುಗಳ ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳನ್ನು ತಲಾಧಾರಗಳಿಗೆ ನಿಖರವಾಗಿ ಮತ್ತು ಸಮವಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ದ್ರವ ದ್ರಾವಣ ಅಥವಾ ಸುಸ್... ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಅಯಾನ್ ಕಿರಣ ನೆರವಿನ ಶೇಖರಣಾ ವಿಧಾನ ಮತ್ತು ಅದರ ಶಕ್ತಿಯ ಆಯ್ಕೆ
ಅಯಾನು ಕಿರಣ-ನೆರವಿನ ಶೇಖರಣೆಯ ಎರಡು ಮುಖ್ಯ ವಿಧಾನಗಳಿವೆ, ಒಂದು ಡೈನಾಮಿಕ್ ಹೈಬ್ರಿಡ್; ಇನ್ನೊಂದು ಸ್ಥಿರ ಹೈಬ್ರಿಡ್. ಮೊದಲನೆಯದು ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿನ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಯಾವಾಗಲೂ ಅಯಾನು ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಕಿರಣದ ಪ್ರವಾಹದೊಂದಿಗೆ ಇರುತ್ತದೆ; ಎರಡನೆಯದು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಮೊದಲೇ ಠೇವಣಿಯಾಗಿರುತ್ತದೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಅಯಾನ್ ಕಿರಣ ಶೇಖರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ
① ಅಯಾನ್ ಕಿರಣದ ನೆರವಿನ ಶೇಖರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ನಡುವಿನ ಬಲವಾದ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರವು ತುಂಬಾ ಪ್ರಬಲವಾಗಿದೆ. ಪ್ರಯೋಗಗಳು ತೋರಿಸಿವೆ: ಅಯಾನ್ ಕಿರಣದ ನೆರವಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಶೇಖರಣೆಯು ಉಷ್ಣ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಗಿಂತ ನೂರಾರು ಪಟ್ಟು ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ನಿರ್ವಾತ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ
ನಿರ್ವಾತ ಅಯಾನು ಲೇಪನ (ಅಯಾನು ಲೇಪನ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ) 1963 ರಲ್ಲಿ ಯುನೈಟೆಡ್ ಸ್ಟೇಟ್ಸ್ನಲ್ಲಿ ಸೋಮ್ಡಿಯಾ ಕಂಪನಿ ಡಿಎಂ ಮ್ಯಾಟೊಕ್ಸ್ ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಿದರು, 1970 ರ ದಶಕದಲ್ಲಿ ಹೊಸ ಮೇಲ್ಮೈ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ತ್ವರಿತ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯಾಗಿದೆ. ಇದು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಮೂಲ ಅಥವಾ ನಿರ್ವಾತ ವಾತಾವರಣದಲ್ಲಿ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಯ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ ಇದರಿಂದ ಚಿತ್ರ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಲೇಪಿತ ಗಾಜಿನಲ್ಲಿರುವ ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ವಿಧಾನ
ಲೇಪಿತ ಗಾಜನ್ನು ಆವಿಯಾಗುವ ಲೇಪಿತ, ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ಲೇಪಿತ ಮತ್ತು ಇನ್-ಲೈನ್ ವೇಪರ್ ಡಿಪಾಸಿಟೆಡ್ ಲೇಪಿತ ಗಾಜು ಎಂದು ವಿಂಗಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಫಿಲ್ಮ್ ತಯಾರಿಸುವ ವಿಧಾನವು ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ವಿಧಾನವೂ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ. ಸಲಹೆ 1, ಪಾಲಿಶ್ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ರಬ್ಬಿ ಮಾಡಲು ಹೈಡ್ರೋಕ್ಲೋರಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಸತು ಪುಡಿಯನ್ನು ಬಳಸುವುದು...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು -
ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣದ ಲೇಪನಗಳ ಪಾತ್ರ-ಅಧ್ಯಾಯ 2
ಅತಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕತ್ತರಿಸುವ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿಯೂ ಸಹ, ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣದ ಬಳಕೆಯ ಅವಧಿಯನ್ನು ಲೇಪನದೊಂದಿಗೆ ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು, ಹೀಗಾಗಿ ಯಂತ್ರೋಪಕರಣದ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣದ ಲೇಪನವು ನಯಗೊಳಿಸುವ ದ್ರವಗಳ ಅಗತ್ಯವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ವಸ್ತು ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದಲ್ಲದೆ, ಪರಿಸರವನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ...ಮತ್ತಷ್ಟು ಓದು
