კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
ინდუსტრიის სიახლეები
-
მყარი საფარის სახეები
TiN არის ყველაზე ადრეული მყარი საფარი, რომელიც გამოიყენება საჭრელ ხელსაწყოებში, ისეთი უპირატესობებით, როგორიცაა მაღალი სიმტკიცე, მაღალი სიმტკიცე და ცვეთამედეგობა. ეს არის პირველი ინდუსტრიული და ფართოდ გამოყენებული მყარი საფარის მასალა, რომელიც ფართოდ გამოიყენება დაფარული ხელსაწყოებისა და დაფარული ყალიბების წარმოებაში. TiN მყარი საფარი თავდაპირველად დაიტანეს 1000 ℃ ტემპერატურაზე...დაწვრილებით -
პლაზმური ზედაპირის მოდიფიკაციის მახასიათებლები
მაღალი ენერგიის პლაზმას შეუძლია პოლიმერული მასალების დაბომბვა და დასხივება, მათი მოლეკულური ჯაჭვების გაწყვეტა, აქტიური ჯგუფების ფორმირება, ზედაპირული ენერგიის გაზრდა და გრავირების გენერირება. პლაზმური ზედაპირის დამუშავება გავლენას არ ახდენს მოცულობითი მასალის შიდა სტრუქტურასა და მახასიათებლებზე, არამედ მხოლოდ მნიშვნელოვნად...დაწვრილებით -
მცირე რკალის წყაროს იონური საფარის პროცესი
კათოდური რკალის წყაროს იონური საფარის პროცესი ძირითადად იდენტურია სხვა საფარის ტექნოლოგიებისა და ზოგიერთი ოპერაცია, როგორიცაა სამუშაო ნაწილების დამონტაჟება და მტვერსასრუტით დამუშავება, აღარ მეორდება. 1. სამუშაო ნაწილების დაბომბვით გაწმენდა საფარის დადებამდე, არგონის გაზი შეჰყავთ საფარის კამერაში...დაწვრილებით -
რკალური ელექტრონული ნაკადის მახასიათებლები და გენერაციის მეთოდები
1. რკალური სინათლის ელექტრონული ნაკადის მახასიათებლები რკალური განმუხტვის შედეგად წარმოქმნილ რკალურ პლაზმაში ელექტრონული ნაკადის, იონური ნაკადის და მაღალი ენერგიის ნეიტრალური ატომების სიმკვრივე გაცილებით მაღალია, ვიდრე ნათების განმუხტვის დროს. არსებობს მეტი იონიზებული აირის იონები და ლითონის იონები, აგზნებული მაღალი ენერგიის ატომები და სხვადასხვა აქტიური გრ...დაწვრილებით -
პლაზმური ზედაპირის მოდიფიკაციის გამოყენების სფეროები
1) პლაზმური ზედაპირის მოდიფიკაცია ძირითადად გულისხმობს ქაღალდის, ორგანული ფირების, ტექსტილისა და ქიმიური ბოჭკოების გარკვეულ მოდიფიკაციებს. ტექსტილის მოდიფიკაციისთვის პლაზმის გამოყენება არ საჭიროებს აქტივატორების გამოყენებას და დამუშავების პროცესი არ აზიანებს თავად ბოჭკოების მახასიათებლებს. ...დაწვრილებით -
იონური საფარის გამოყენება ოპტიკური თხელი ფირების სფეროში
ოპტიკური თხელი ფირების გამოყენება ძალიან ფართოა და მოიცავს სათვალეებს, კამერის ლინზებს, მობილური ტელეფონების კამერებს, მობილური ტელეფონების, კომპიუტერებისა და ტელევიზორების LCD ეკრანებს, LED განათებას, ბიომეტრიულ მოწყობილობებს, ავტომობილებსა და შენობებში ენერგიის დამზოგავ ფანჯრებს, ასევე სამედიცინო ინსტრუმენტებს, ტელეფონებსა და...დაწვრილებით -
ინფორმაციის ჩვენების ფირები და იონური საფარის ტექნოლოგია
1. საინფორმაციო დისპლეის ფირის ტიპი TFT-LCD და OLED თხელი ფირების გარდა, საინფორმაციო დისპლეი ასევე მოიცავს გაყვანილობის ელექტროდულ ფირებს და გამჭვირვალე პიქსელურ ელექტროდულ ფირებს დისპლეის პანელში. დაფარვის პროცესი TFT-LCD და OLED დისპლეის ძირითადი პროცესია. უწყვეტი პროგრამირებით...დაწვრილებით -
ვაკუუმური აორთქლების საფარის ფირის ფენის ზრდის კანონი
აორთქლებით დაფარვის დროს, აპკის ფენის ბირთვის წარმოქმნა და ზრდა სხვადასხვა იონური საფარის ტექნოლოგიის საფუძველია 1. ბირთვის წარმოქმნა ვაკუუმური აორთქლებით დაფარვის ტექნოლოგიაში, აპკის ფენის ნაწილაკების აორთქლების წყაროდან ატომების სახით აორთქლების შემდეგ, ისინი პირდაპირ აფეთქებისკენ მიფრინავენ...დაწვრილებით -
გაძლიერებული ნათების განმუხტვის იონური საფარის ტექნოლოგიის საერთო მახასიათებლები
1. სამუშაო ნაწილის მიკერძოება დაბალია იონიზაციის სიჩქარის გაზრდის მოწყობილობის დამატების გამო, განმუხტვის დენის სიმკვრივე იზრდება და მიკერძოების ძაბვა მცირდება 0.5 ~ 1 კვ-მდე. მაღალი ენერგიის იონების ჭარბი დაბომბვით და სამუშაო ნაწილის ზედაპირზე დაზიანების ეფექტით გამოწვეული უკანა გაფრქვევა...დაწვრილებით -
ცილინდრული სამიზნეების უპირატესობები
1) ცილინდრულ სამიზნეებს უფრო მაღალი გამოყენების მაჩვენებელი აქვთ, ვიდრე ბრტყელ სამიზნეებს. საფარის პროცესში, იქნება ეს მბრუნავი მაგნიტური ტიპის თუ მბრუნავი მილის ტიპის ცილინდრული გაფრქვევის სამიზნე, სამიზნე მილის ზედაპირის ყველა ნაწილი უწყვეტად გადის წინ წარმოქმნილ გაფრქვევის არეალში...დაწვრილებით -
პლაზმური პირდაპირი პოლიმერიზაციის პროცესი
პლაზმური პირდაპირი პოლიმერიზაციის პროცესი პლაზმური პოლიმერიზაციის პროცესი შედარებით მარტივია როგორც შიდა ელექტროდის პოლიმერიზაციის აღჭურვილობისთვის, ასევე გარე ელექტროდის პოლიმერიზაციის აღჭურვილობისთვის, მაგრამ პარამეტრების შერჩევა უფრო მნიშვნელოვანია პლაზმურ პოლიმერიზაციაში, რადგან პარამეტრებს უფრო დიდი...დაწვრილებით -
ცხელი მავთულის რკალისებრი გაძლიერებული პლაზმური ქიმიური ორთქლის დეპონირების ტექნოლოგია
ცხელი მავთულის რკალური გაძლიერებული პლაზმური ქიმიური ორთქლის დეპონირების ტექნოლოგია იყენებს ცხელი მავთულის რკალურ იარაღს რკალური პლაზმის გამოსაყოფად, შემოკლებით ცხელი მავთულის რკალური PECVD ტექნოლოგია. ეს ტექნოლოგია მსგავსია ცხელი მავთულის რკალური იარაღებით იონური საფარის ტექნოლოგიისა, მაგრამ განსხვავება ისაა, რომ მყარი ფენა, რომელიც მიიღება ho...დაწვრილებით -
მყარი საფარის დატანის ტრადიციული ტექნიკის შესავალი
1. თერმული CVD ტექნოლოგია მყარი საფარი ძირითადად მეტალოკერამიკული საფარია (TiN და ა.შ.), რომელიც წარმოიქმნება საფარში ლითონის რეაქციით და რეაქტიული გაზით. თავდაპირველად, თერმული CVD ტექნოლოგია გამოიყენებოდა შერწყმული რეაქციის აქტივაციის ენერგიის თერმული ენერგიით უზრუნველსაყოფად...დაწვრილებით -
რა არის წინააღმდეგობის აორთქლების წყაროს საფარი?
რეზისტენტული აორთქლების წყაროს საფარი ვაკუუმური აორთქლების საფარის ძირითადი მეთოდია. „აორთქლება“ ეხება თხელი ფენის მომზადების მეთოდს, რომლის დროსაც ვაკუუმურ კამერაში საფარის მასალა თბება და აორთქლდება, ისე, რომ მასალის ატომები ან მოლეკულები აორთქლდება და გამოდის...დაწვრილებით -
კათოდური რკალის იონური მოპირკეთების ტექნოლოგიის შესავალი
კათოდური რკალური იონური საფარის ტექნოლოგია იყენებს ცივი ველის რკალური განმუხტვის ტექნოლოგიას. ცივი ველის რკალური განმუხტვის ტექნოლოგიის ყველაზე ადრეული გამოყენება საფარის სფეროში განხორციელდა Multi Arc Company-ის მიერ ამერიკის შეერთებულ შტატებში. ამ პროცედურის ინგლისური სახელწოდებაა arc ionplating (AIP). კათოდური რკალური იონური საფარი...დაწვრილებით
