კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
ინდუსტრიის სიახლეები
-
RF გაფრქვევის საფარის ძირითადი მახასიათებლები
ა. მაღალი გაფრქვევის სიჩქარე. მაგალითად, SiO2-ის გაფრქვევისას, დეპონირების სიჩქარე შეიძლება იყოს 200 ნმ/წთ-მდე, ჩვეულებრივ 10~100 ნმ/წთ-მდე. ხოლო აპკის ფორმირების სიჩქარე პირდაპირპროპორციულია მაღალი სიხშირის სიმძლავრის. ბ. აპკსა და სუბსტრატს შორის ადჰეზია უფრო მეტია, ვიდრე ვაკუუმური ორთქლის...დაწვრილებით -
ავტომობილის ნათურის ფირის წარმოების საფარის ხაზები
ავტომობილის ნათურების ფირის წარმოების ხაზები საავტომობილო ინდუსტრიის მნიშვნელოვანი ნაწილია. ეს წარმოების ხაზები პასუხისმგებელია ავტომობილის ნათურების ფირების დაფარვასა და წარმოებაზე, რაც გადამწყვეტ როლს ასრულებს ავტომობილის ნათურების ესთეტიკისა და ფუნქციონალურობის გაუმჯობესებაში. რადგან მაღალი ხარისხის...დაწვრილებით -
მაგნიტური ველის როლი მაგნეტრონულ გაფრქვევაში
მაგნეტრონული გაფრქვევა ძირითადად მოიცავს განმუხტვის პლაზმის ტრანსპორტირებას, სამიზნის გრავირებას, თხელი ფენის დეპონირებას და სხვა პროცესებს, მაგნიტური ველი გავლენას მოახდენს მაგნეტრონული გაფრქვევის პროცესზე. მაგნეტრონული გაფრქვევის სისტემაში ორთოგონალურ მაგნიტურ ველთან ერთად, ელექტრონები ექვემდებარებიან...დაწვრილებით -
სატუმბი სისტემის ვაკუუმური საფარის აპარატის მოთხოვნები
სატუმბი სისტემის ვაკუუმური საფარის მანქანას აქვს შემდეგი ძირითადი მოთხოვნები: (1) საფარის ვაკუუმურ სისტემას უნდა ჰქონდეს საკმარისად დიდი სატუმბი სიჩქარე, რომელიც არა მხოლოდ სწრაფად უნდა ამოტუმბოს სუბსტრატიდან და აორთქლებული მასალებიდან გამოთავისუფლებული გაზები, არამედ ვაკუუმურ ჩხში არსებული კომპონენტები...დაწვრილებით -
საიუველირო PVD საფარის მანქანა
საიუველირო ნაკეთობების PVD საფარის აპარატი იყენებს პროცესს, რომელიც ცნობილია როგორც ფიზიკური ორთქლის დეპონირება (PVD), რათა საიუველირო ნაკეთობებზე თხელი, მაგრამ გამძლე საფარი წაუსვას. ეს პროცესი გულისხმობს მაღალი სისუფთავის, მყარი ლითონის სამიზნეების გამოყენებას, რომლებიც ვაკუუმურ გარემოში აორთქლდება. შედეგად მიღებული ლითონის ორთქლი შემდეგ კონდიცირდება...დაწვრილებით -
პატარა მოქნილი PVD ვაკუუმური საფარის მანქანა
მცირე ზომის მოქნილი PVD ვაკუუმური საფარის მანქანების ერთ-ერთი მთავარი უპირატესობა მათი მრავალფუნქციურობაა. ეს მანქანები შექმნილია სხვადასხვა ზომისა და ფორმის სუბსტრატის დასამუშავებლად, რაც მათ იდეალურს ხდის მცირე მასშტაბის ან ინდივიდუალური წარმოების პროცესებისთვის. გარდა ამისა, მისი კომპაქტური ზომა და მოქნილი კონფიდენციალურობა...დაწვრილებით -
საჭრელი ხელსაწყოები ვაკუუმური საფარის მანქანა
მუდმივად განვითარებად საწარმოო ინდუსტრიაში, საჭრელი ხელსაწყოები სასიცოცხლო როლს თამაშობენ ყოველდღიურად გამოყენებული პროდუქტების ჩამოყალიბებაში. აერონავტიკის ინდუსტრიაში ზუსტი ჭრიდან დაწყებული, სამედიცინო სფეროში რთული დიზაინით დამთავრებული, მაღალი ხარისხის საჭრელ ხელსაწყოებზე მოთხოვნა კვლავ იზრდება. ამ მოთხოვნის დასაკმაყოფილებლად, აშშ...დაწვრილებით -
იონური დაბომბვის ეფექტი ფირის ფენა/სუბსტრატის ინტერფეისზე
როდესაც მემბრანული ატომების დალექვა იწყება, იონური დაბომბვა მემბრანა/სუბსტრატის ინტერფეისზე შემდეგ ეფექტებს ახდენს. (1) ფიზიკური შერევა. მაღალი ენერგიის იონების ინექციის, დალექილი ატომების გაფრქვევის და ზედაპირული ატომების უკუშეყვანის და კასკადური შეჯახების ფენომენის გამო,...დაწვრილებით -
ვაკუუმური გაფრქვევის საფარის აღორძინება და განვითარება
გაფრქვევა არის ფენომენი, რომლის დროსაც ენერგიული ნაწილაკები (ჩვეულებრივ, აირების დადებითი იონები) ხვდებიან მყარი სხეულის (ქვემოთ სამიზნე მასალის) ზედაპირს, რაც იწვევს სამიზნე მასალის ზედაპირზე არსებული ატომების (ან მოლეკულების) მისგან გამოსვლას. ეს ფენომენი აღმოაჩინა გროუვმა 1842 წელს, როდესაც...დაწვრილებით -
მაგნეტრონული გაფრქვევის საფარის მახასიათებლები თავი 2
მაგნეტრონული გაფრქვევის საფარის მახასიათებლები (3) დაბალი ენერგიის გაფრქვევა. სამიზნეზე მიწოდებული დაბალი კათოდური ძაბვის გამო, პლაზმა კათოდთან ახლოს არსებულ სივრცეში მაგნიტური ველით იკვრება, რითაც აფერხებს მაღალი ენერგიის დამუხტული ნაწილაკების მოძრაობას სუბსტრატის იმ მხარეს, რომელსაც ადამიანი ესვრის....დაწვრილებით -
მაგნეტრონული გაფრქვევის საფარის მახასიათებლები თავი 1
სხვა საფარის ტექნოლოგიებთან შედარებით, მაგნეტრონული გაფრქვევის საფარი ხასიათდება შემდეგი მახასიათებლებით: სამუშაო პარამეტრებს აქვთ საფარის დადების სიჩქარისა და სისქის (დაფარული არეალის მდგომარეობის) დიდი დინამიური რეგულირების დიაპაზონი, მისი მარტივად კონტროლირებადი და არ არსებობს დიზაინი...დაწვრილებით -
იონური სხივის დახმარებით დეპონირების ტექნოლოგია
იონური სხივური დალექვის ტექნოლოგია არის იონური სხივური ინექციისა და ორთქლის დეპონირების საფარის ტექნოლოგია, რომელიც შერწყმულია იონური ზედაპირის კომპოზიტური დამუშავების ტექნოლოგიასთან. იონური ინექციის მასალების ზედაპირის მოდიფიკაციის პროცესში, იქნება ეს ნახევარგამტარული მასალები თუ საინჟინრო მასალები, ეს არის...დაწვრილებით -
ექსპერიმენტული ვაკუუმური საფარის მანქანა
ბოლო წლებში ვაკუუმური საფარის ტექნოლოგიის სფეროში მნიშვნელოვანი პროგრესი და გარღვევა მოხდა. ეს მხოლოდ ექსპერიმენტებისა და კვლევის დაუღალავი ძალისხმევის წყალობით გახდა შესაძლებელი. ამ სფეროში გამოყენებულ მრავალ მანქანას შორის, ექსპერიმენტული ვაკუუმური საფარის მანქანები ძირითადი ინსტრუმენტებია...დაწვრილებით -
CVD ტექნოლოგიის მუშაობის პრინციპები
CVD ტექნოლოგია ქიმიურ რეაქციას ეფუძნება. რეაქციას, რომლის დროსაც რეაქტანტები აირისებრ მდგომარეობაშია, ხოლო ერთ-ერთი პროდუქტი მყარ მდგომარეობაშია, ჩვეულებრივ CVD რეაქცია ეწოდება, ამიტომ მისი ქიმიური რეაქციის სისტემა უნდა აკმაყოფილებდეს შემდეგ სამ პირობას. (1) დალექვის ტემპერატურაზე...დაწვრილებით -
სათვალის ლინზების ოპტიკური ვაკუუმური საფარის მანქანა
დღევანდელ სწრაფად ცვალებად სამყაროში სათვალე ჩვენი ცხოვრების განუყოფელ ნაწილად იქცა. ეს, ერთი შეხედვით, მარტივი აქსესუარები აუცილებლობიდან მოდურ განცხადებებად იქცა. თუმცა, ბევრმა ადამიანმა არ იცის იმ რთული პროცესის შესახებ, რომელიც სათვალის იდეალური ლინზების შექმნას უკავშირდება. ეს არის...დაწვრილებით
