Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita
-
Peralatan Pelapisan Vakum Presisi
Peralatan pelapisan vakum presisi mengacu pada mesin khusus yang menerapkan lapisan tipis dan pelapis pada berbagai material dengan presisi yang sangat tinggi. Proses ini berlangsung dalam lingkungan vakum, yang menghilangkan kotoran dan menghasilkan keseragaman dan konsistensi yang unggul dalam aplikasi pelapisan.Baca selengkapnya -
Peralatan Pelapisan Vakum Horizontal Besar
Salah satu manfaat utama peralatan pelapisan vakum horizontal besar adalah kemampuannya untuk menerapkan lapisan tipis dan seragam pada substrat datar yang besar. Hal ini khususnya penting dalam industri seperti produksi kaca, di mana mencapai ketebalan lapisan yang konsisten di seluruh area permukaan yang besar merupakan hal yang penting...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Vakum Ion Emas
Prinsip kerja mesin pelapis vakum emas ion jam tangan adalah menggunakan proses pengendapan uap fisik (PVD) untuk melapisi lapisan tipis emas pada permukaan komponen jam tangan. Proses ini melibatkan pemanasan emas dalam ruang vakum, menyebabkannya menguap dan kemudian mengembun di permukaan...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Vakum Nano Keramik
Mesin pelapis vakum keramik nano adalah teknologi canggih yang menggunakan proses pengendapan vakum untuk melapisi lapisan tipis bahan keramik ke berbagai substrat. Metode pelapisan canggih ini menawarkan banyak manfaat, termasuk peningkatan kekerasan, peningkatan stabilitas termal, dan ketahanan aus yang unggul.Baca selengkapnya -
Beberapa Bahan Target Umum
1. Target kromium Kromium sebagai bahan film sputtering tidak hanya mudah dipadukan dengan substrat dengan daya rekat tinggi, tetapi juga kromium dan oksida untuk menghasilkan film CrO3, sifat mekanisnya, ketahanan asam, stabilitas termalnya lebih baik. Selain itu, kromium dalam oksidasi tidak lengkap...Baca selengkapnya -
Teknologi Deposisi Berbantuan Sinar Ion
1. Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion ditandai dengan adhesi yang kuat antara membran dan substrat, lapisan membran sangat kuat. Eksperimen menunjukkan bahwa: pengendapan berbantuan sinar ion memiliki adhesi yang lebih tinggi daripada adhesi pengendapan uap termal hingga ratusan kali lipat...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Sputtering Reaktif
Dalam proses pelapisan sputtering, senyawa dapat digunakan sebagai target untuk persiapan film yang disintesis secara kimia. Akan tetapi, komposisi film yang dihasilkan setelah sputtering bahan target sering kali sangat menyimpang dari komposisi asli bahan target, dan karenanya...Baca selengkapnya -
Karakteristik Koefisien Suhu Resistor Film Logam
Koefisien suhu resistansi lapisan logam bervariasi dengan ketebalan lapisan, lapisan tipis bersifat negatif, lapisan tebal bersifat positif, dan lapisan yang lebih tebal serupa tetapi tidak identik dengan material curah. Secara umum, koefisien suhu resistansi berubah dari negatif ke positif.Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Ion Bab 2
③ Pelapisan berkualitas tinggi Karena pemboman ion dapat meningkatkan kepadatan membran, meningkatkan struktur organisasi membran, menjadikan keseragaman lapisan membran baik, organisasi pelapisan padat, lebih sedikit lubang jarum dan gelembung, sehingga meningkatkan kualitas membran...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Ion-Bab 1
Dibandingkan dengan pelapisan penguapan dan pelapisan sputtering, fitur terpenting dari pelapisan ion adalah ion-ion yang berenergi membombardir substrat dan lapisan film saat pengendapan berlangsung. Pengeboman ion bermuatan menghasilkan serangkaian efek, terutama sebagai berikut. ① Membran/dasar...Baca selengkapnya -
Peralatan Pelapis Kontrol Magnetik Khusus untuk Film Berwarna
Peralatan pelapis magnetron khusus untuk film berwarna menggunakan kekuatan medan magnet untuk mengontrol secara akurat pengendapan bahan pelapis pada substrat film. Teknologi inovatif ini memungkinkan keseragaman dan konsistensi yang tak tertandingi selama proses pelapisan, menghasilkan lapisan berkualitas tinggi...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Sputtering Jam Tangan
Mesin pelapis sputter arloji menggunakan proses deposisi uap fisik (PVD) untuk mengaplikasikan lapisan tipis bahan pelapis pada komponen arloji. Metode ini memberikan daya rekat yang sangat baik, cakupan yang seragam, dan berbagai pilihan pelapisan termasuk karbon metalik, keramik, dan seperti berlian. Hasilnya, ...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Film Tahan Oksidasi
Mesin pelapis film tahan oksidasi merupakan teknologi mutakhir yang menyediakan lapisan pelindung untuk mencegah oksidasi dan meningkatkan daya tahan serta umur komponen logam. Mesin ini mengaplikasikan lapisan film tipis ke permukaan material, menciptakan penghalang terhadap korosi ...Baca selengkapnya -
Peralatan Film Pelindung Lampu Terpadu
Menggabungkan teknologi canggih ke dalam perlengkapan pencahayaan modern secara signifikan meningkatkan kinerja dan efisiensinya. Namun, hal ini juga membuat perlengkapan tersebut lebih rentan terhadap kerusakan dari berbagai faktor eksternal. Oleh karena itu, untuk melindungi aset berharga ini dan memaksimalkan masa pakainya, maka...Baca selengkapnya -
Pemilihan dan Klasifikasi Target
Dengan semakin berkembangnya pelapisan sputtering, khususnya teknologi pelapisan sputtering magnetron, saat ini, untuk material apa pun dapat disiapkan dengan film target pemboman ion, karena target disemburkan dalam proses pelapisan ke beberapa jenis substrat, kualitas pengukurannya...Baca selengkapnya
