فناوری رسوب بخار شیمیایی پلاسما با قوس سیم داغ از تفنگ قوس سیم داغ برای انتشار پلاسمای قوس استفاده میکند که به اختصار فناوری PECVD قوس سیم داغ نامیده میشود. این فناوری مشابه فناوری پوشش یونی تفنگ قوس سیم داغ است، اما تفاوت در این است که فیلم جامد به دست آمده توسط ...
۱. فناوری CVD حرارتی پوششهای سخت عمدتاً پوششهای سرامیکی فلزی (TiN و غیره) هستند که با واکنش فلز موجود در پوشش و گازسازی واکنشی تشکیل میشوند. در ابتدا، از فناوری CVD حرارتی برای تأمین انرژی فعالسازی واکنش ترکیبی توسط انرژی حرارتی در ... استفاده شد.
پوششدهی با منبع تبخیر مقاومتی، یک روش پوششدهی تبخیر در خلاء پایه است. "تبخیر" به روشی برای تهیه لایه نازک اشاره دارد که در آن ماده پوششدهنده در محفظه خلاء گرم و تبخیر میشود، به طوری که اتمها یا مولکولهای ماده تبخیر شده و از محفظه خارج میشوند...
فناوری پوشش یونی قوس کاتدی از فناوری تخلیه قوس میدان سرد استفاده میکند. اولین کاربرد فناوری تخلیه قوس میدان سرد در زمینه پوششدهی توسط شرکت Multi Arc در ایالات متحده بود. نام انگلیسی این روش، آبکاری یونی قوسی (AIP) است. پوشش یونی قوس کاتدی...
انواع مختلفی از زیرلایهها برای عینک و لنز وجود دارد، مانند CR39، PC (پلی کربنات)، 1.53 Trivex156، پلاستیک با ضریب شکست متوسط، شیشه و غیره. برای لنزهای اصلاحی، میزان عبور نور از هر دو لنز رزینی و شیشهای تنها حدود 91٪ است و مقداری از نور توسط این دو لنز بازتاب میشود...
۱. لایه پوشش خلاء بسیار نازک است (معمولاً ۰.۰۱-۰.۱ میکرومتر) | ۲. پوشش خلاء میتواند برای بسیاری از پلاستیکها، مانند ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA و غیره استفاده شود. ۳. دمای تشکیل لایه پایین است. در صنعت آهن و فولاد، دمای پوشش گالوانیزه گرم عموماً بین ۴۰۰ درجه سانتیگراد تا ... است.
پس از کشف اثر فتوولتائیک در اروپا در سال ۱۸۶۳، ایالات متحده اولین سلول فتوولتائیک با (Se) را در سال ۱۸۸۳ ساخت. در روزهای اولیه، سلولهای فتوولتائیک عمدتاً در هوافضا، نظامی و سایر زمینهها مورد استفاده قرار میگرفتند. در ۲۰ سال گذشته، کاهش شدید هزینه فتوولتائیک...
۱. تمیز کردن زیرلایه با بمباران ۱.۱) دستگاه پوششدهی اسپاترینگ از تخلیه تابشی برای تمیز کردن زیرلایه استفاده میکند. به عبارت دیگر، گاز آرگون را به داخل محفظه شارژ میکند، ولتاژ تخلیه حدود ۱۰۰۰ ولت است، پس از روشن کردن منبع تغذیه، تخلیه تابشی ایجاد میشود و زیرلایه با ... تمیز میشود.
کاربرد لایههای نازک نوری در محصولات الکترونیکی مصرفی مانند تلفنهای همراه از لنزهای دوربین سنتی به سمت متنوعی مانند لنزهای دوربین، محافظ لنز، فیلترهای قطع مادون قرمز (IR-CUT) و پوشش NCVM روی پوشش باتری تلفن همراه تغییر کرده است. مشخصات دوربین...
فناوری پوششدهی CVD دارای ویژگیهای زیر است: 1. عملیات فرآیند تجهیزات CVD نسبتاً ساده و انعطافپذیر است و میتواند فیلمهای تکی یا ترکیبی و فیلمهای آلیاژی با نسبتهای مختلف تهیه کند؛ 2. پوششدهی CVD طیف گستردهای از کاربردها را دارد و میتواند برای پیشساخت...
فرآیند دستگاه پوششدهی در خلاء به سه بخش تقسیم میشود: پوششدهی تبخیر در خلاء، پوششدهی کندوپاش در خلاء و پوششدهی یونی در خلاء. 1. پوششدهی تبخیر در خلاء: در شرایط خلاء، موادی مانند فلز، آلیاژ فلز و غیره تبخیر میشوند و سپس روی سطح زیرلایه رسوب داده میشوند.
1. فرآیند پوششدهی در خلاء چیست؟ عملکرد آن چیست؟ فرآیند پوششدهی در خلاء از تبخیر و کندوپاش در محیط خلاء برای انتشار ذرات ماده فیلم استفاده میکند. این ذرات روی فلز، شیشه، سرامیک، نیمههادیها و قطعات پلاستیکی رسوب داده میشوند تا یک لایه پوشش تشکیل دهند. برای پوششدهی ...
از آنجایی که تجهیزات پوششدهی در خلاء تحت شرایط خلاء کار میکنند، این تجهیزات باید الزامات خلاء برای محیط زیست را برآورده کنند. استانداردهای صنعتی برای انواع مختلف تجهیزات پوششدهی در خلاء که در کشور من تدوین شده است (از جمله شرایط فنی عمومی برای تجهیزات پوششدهی در خلاء،...)
نوع فیلم جنس فیلم زیرلایه ویژگیها و کاربرد فیلم فیلم فلزی CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt فولاد، فولاد نرمآلیاژ تیتانیوم، فولاد پرکربن، فولاد نرمآلیاژ تیتانیوم پلاستیک شیشه سخت نیکل، فولاد اینکونل، فولاد ضد زنگ سیلیکون ضد سایش ...
آبکاری یونی در خلاء (به اختصار آبکاری یونی) یک فناوری جدید برای تصفیه سطح است که در دهه 1970 به سرعت توسعه یافت، که توسط دی ام متوکس از شرکت سومدیا در ایالات متحده در سال 1963 پیشنهاد شد. این به فرآیند استفاده از منبع تبخیر یا هدف کندوپاش برای تبخیر یا پاشش اشاره دارد...