Ongi etorri Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.-ra.
Industriako Berriak
-
AF Film Meheko Lurruntze Optiko PVD Hutsean Estaltzeko Makina
AF Film Mehearen Lurruntze Optiko PVD hutsean estaltzeko makina gailu mugikorretan film meheko estaldurak aplikatzeko diseinatuta dago, lurrun-deposizio fisikoa (PVD) erabiliz. Prozesuak estaldura-ganbera baten barruan hutsune-ingurune bat sortzea dakar, non material solidoak lurrundu eta gero metatzen diren...Irakurri gehiago -
Aluminiozko zilarrezko hutsean estaltzeko ispilua fabrikatzeko makina
Aluminiozko zilarrezko hutsean estaltzeko ispiluak egiteko makinak irauli egin du ispiluen fabrikazio-industrian bere teknologia aurreratuari eta zehaztasun-ingeniaritzari esker. Punta-puntako makina hau aluminiozko zilarrezko geruza fin bat beiraren gainazalean aplikatzeko diseinatuta dago, kalitate handiko...Irakurri gehiago -
Hutsean estaltzeko makina optikoa
Hutsean egindako metalizatzaile optikoa gainazalen estalduraren industria irauli duen punta-puntako teknologia da. Makina aurreratu honek hutsean egindako metalizazio optiko izeneko prozesu bat erabiltzen du metal geruza fin bat hainbat substratutan aplikatzeko, gainazal oso islatzaile eta iraunkorra sortuz...Irakurri gehiago -
Plasma bidezko lurrun-deposizio kimiko hobetua 2. kapitulua
Elementu kimiko gehienak lurrundu daitezke talde kimikoekin konbinatuz, adibidez, Si-k H-rekin erreakzionatzen du SiH4 sortzeko, eta Al-k CH3-rekin konbinatzen da Al(CH3) sortzeko. CVD prozesu termikoan, goiko gasek energia termiko kopuru jakin bat xurgatzen dute substratu berotutik igarotzean eta...Irakurri gehiago -
Plasma bidezko lurrun-deposizio kimiko hobetua 1. kapitulua
Lurrun-deposizio kimikoa (LDE). Izenak dioen bezala, erreakzio kimiko atomiko eta molekularren bidez film solidoak sortzeko erreakzio aitzindari gaseosoak erabiltzen dituen teknika bat da. PVD ez bezala, LDE prozesua gehienbat presio handiagoko (hutsune txikiagoko) ingurune batean egiten da,...Irakurri gehiago -
Film meheko gailuen kalitatean eragina duten prozesu-elementuak eta ekintza-mekanismoak (2. zatia)
3. Substratuaren tenperaturaren eragina Substratuaren tenperatura mintzaren hazkuntzarako baldintza garrantzitsuenetako bat da. Energia gehigarria ematen die mintz-atomoei edo molekulei, eta batez ere mintzaren egituran, aglutinazio-koefizientean, hedapen-koefizientean eta agregazioan eragiten du...Irakurri gehiago -
Film meheko gailuen kalitatean eragina duten prozesu faktoreak eta mekanismoak (1. zatia)
Film optiko meheko gailuen fabrikazioa huts-ganbera batean egiten da, eta film geruzaren hazkundea prozesu mikroskopikoa da. Hala ere, gaur egun, zuzenean kontrola daitezkeen prozesu makroskopikoak kalitatearekin zeharkako harremana duten faktore makroskopiko batzuk dira...Irakurri gehiago -
Lurruntze-teknologiaren garapenaren historiaren sarrera
Material solidoak hutsean berotzeko edo lurruntzeko eta substratu espezifiko batean uzteko prozesuari, film mehe bat lortzeko, hutsean lurruntze-estaldura deritzo. Film meheak hutsean lurruntzearen bidez prestatzeko historia...Irakurri gehiago -
ITO estalduraren aurkezpena
Indio eztainu oxidoa (ITO izenez ezagutzen dena) banda-tarte zabaleko n motako erdieroale material bat da, dopatu handia duena, argi ikusgaiaren transmitantzia handia eta erresistentzia baxuko ezaugarriak dituena, eta, beraz, eguzki-zeluletan, pantaila lauetan, leiho elektrokromikoetan, material ez-organiko eta organikoetan oso erabilia...Irakurri gehiago -
Laborategiko hutsean biraketa-estaldura makina
Laborategiko hutsean biraketa-estaldura makinak tresna garrantzitsuak dira film meheen deposizioaren eta gainazalen aldaketaren arloan. Ekipamendu aurreratu hau hainbat materialen film meheak substratuetan zehaztasunez eta uniformeki aplikatzeko diseinatuta dago. Prozesuak likido-disoluzio edo sus...Irakurri gehiago -
Ioi-izpien bidezko deposizio modua eta haren energia-hautaketa
Bi modu nagusi daude ioi-sorta bidezko metaketa egiteko, bata hibrido dinamikoa da; bestea hibrido estatikoa. Lehenengoak adierazten du hazkuntza-prozesuan filmak beti energia eta ioi-bonbardaketaren eta filmaren izpi-korronte jakin bat duela; bigarrena, berriz, gainazalean aldez aurretik metatzen da...Irakurri gehiago -
Ioi-izpien bidezko deposizio-teknologia
① Ioi-izpien bidezko deposizio teknologia filmaren eta substratuaren arteko atxikimendu sendoagatik bereizten da, film-geruza oso sendoa baita. Esperimentuek erakutsi dute: ioi-izpien bidezko deposizioak lurrun termikoaren deposizioaren atxikimendua baino hainbat aldiz handitu da ehunka...Irakurri gehiago -
Hutsean ioi estaldura
Hutsean ioi estaldura (ioi plaka gisa aipatzen dena) Estatu Batuetan 1963an Somdia DM Mattox enpresak proposatu zuen, 1970eko hamarkadan gainazalen tratamendurako teknologia berri baten garapen azkarra izan zen. Lurruntze iturria edo sputtering helburu bat hutsean atmosferan erabiltzeari egiten dio erreferentzia, filma...Irakurri gehiago -
Beira estalitako film geruza kentzeko modua
Beira estaliak lurruntze bidezko estaldura, magnetron sputtering bidezko estaldura eta lerroan lurrundutako estaldura ditu. Filma prestatzeko metodoa desberdina denez, filma kentzeko metodoa ere desberdina da. 1. iradokizuna, azido klorhidrikoa eta zink hautsa erabiltzea leuntzeko eta garbitzeko...Irakurri gehiago -
Ebaketa-erremintaren estalduraren eginkizuna - 2. kapitulua
Ebaketa-tenperatura oso altuetan ere, ebaketa-erremintaren erabilera-bizitza luzatu daiteke estaldurarekin, eta horrela mekanizazio-kostuak nabarmen murriztu. Gainera, ebaketa-erremintaren estaldurak lubrifikatzaile-fluidoen beharra murriztu dezake. Materialen kostuak murrizteaz gain, ingurumena babesten ere laguntzen du...Irakurri gehiago
