Velkommen til Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nyheder
-
Metal Anti Fingeraftryk Vakuumbelægningsmaskiner
Brugen af vakuumbelægningsmaskiner til metalbeskyttelse mod fingeraftryk repræsenterer et stort fremskridt inden for overfladebeskyttelsesteknologi. Ved at kombinere vakuumteknologi og specialbelægninger skaber disse maskiner et tyndt, slidstærkt lag på metaloverflader, der beskytter mod fingeraftryk og andre påvirkninger...Læs mere -
Praktisk vakuumbelægningsmaskine
Inden for avanceret fremstilling og industriel produktion stiger efterspørgslen efter praktiske vakuumbelægningsmaskiner. Disse banebrydende maskiner revolutionerer den måde, en række forskellige materialer belægges på, hvilket giver forbedret holdbarhed, ydeevne og æstetik. I dette blogindlæg...Læs mere -
Princip for valg af målmateriale og klassificering
Med den stigende udvikling af sputteringsbelægningsteknologi, især magnetron-sputteringsbelægningsteknologi, kan ethvert materiale i øjeblikket fremstilles ved hjælp af ionbombardement af målfilm, fordi målet sputteres i processen med at belægge det på en slags substrat, kvaliteten af...Læs mere -
RF-sputteringsbelægningens hovedfunktioner
A. Høj sputterhastighed. For eksempel, når SiO2 sputteres, kan aflejringshastigheden være op til 200 nm/min, normalt op til 10~100 nm/min. Og filmdannelseshastigheden er direkte proportional med højfrekvenseffekten. B. Adhæsionen mellem filmen og substratet er større end vakuumdampens...Læs mere -
Produktionslinjer til belægning af billampefilm
Produktionslinjer til billampefilm er en væsentlig del af bilindustrien. Disse produktionslinjer er ansvarlige for belægning og produktion af billampefilm, som spiller en afgørende rolle i at forbedre æstetikken og funktionaliteten af billamper. Efterhånden som efterspørgslen efter høj kvalitet...Læs mere -
Magnetfeltets rolle i magnetronsputtering
Magnetronsputtering omfatter hovedsageligt transport af udladningsplasma, målætsning, tyndfilmsaflejring og andre processer, hvor magnetfeltet på magnetronsputteringsprocessen vil have en indflydelse. I magnetronsputteringsystemet plus det ortogonale magnetfelt er elektronerne udsat for ...Læs mere -
Krav til vakuumbelægningsmaskine i pumpesystemet
Vakuumbelægningsmaskinen på pumpesystemet har følgende grundlæggende krav: (1) Belægningsvakuumsystemet skal have en tilstrækkelig stor pumpehastighed, som ikke kun hurtigt skal pumpe de gasser, der frigives fra substratet, og de fordampede materialer ud, men også komponenterne i vakuumpumpen...Læs mere -
Smykker PVD-belægningsmaskine
PVD-belægningsmaskinen til smykker bruger en proces kendt som fysisk dampaflejring (PVD) til at påføre en tynd, men holdbar belægning på smykker. Denne proces involverer brugen af højrenheds, faste metalmål, som fordampes i et vakuummiljø. Den resulterende metaldamp kondenseres derefter...Læs mere -
Lille fleksibel Pvd-vakuumbelægningsmaskine
En af de største fordele ved små, fleksible PVD-vakuumbelægningsmaskiner er deres alsidighed. Disse maskiner er designet til at kunne håndtere en række forskellige substratstørrelser og -former, hvilket gør dem ideelle til småskala- eller specialfremstillede fremstillingsprocesser. Derudover er dens kompakte størrelse og fleksible konf...Læs mere -
Skæreværktøjer Vakuumbelægningsmaskine
I den stadigt udviklende fremstillingsindustri spiller skæreværktøjer en afgørende rolle i udformningen af de produkter, vi bruger hver dag. Fra præcisionsskæring i luftfartsindustrien til komplekse designs inden for det medicinske område fortsætter efterspørgslen efter skæreværktøjer af høj kvalitet med at stige. For at imødekomme denne efterspørgsel har USA...Læs mere -
Effekt af ionbombardement på filmlag/substrat-grænsefladen
Når aflejringen af membranatomer begynder, har ionbombardement følgende effekter på membran/substrat-grænsefladen. (1) Fysisk blanding. På grund af højenergi-ioninjektion, sputtering af de aflejrede atomer og rekylinjektion af overfladeatomer og kaskadekollisionsfænomenet, vil...Læs mere -
Genoplivning og udvikling af vakuumsputteringbelægning
Sputtering er et fænomen, hvor energiske partikler (normalt positive ioner af gasser) rammer overfladen af et fast stof (herefter kaldet målmaterialet), hvilket får atomer (eller molekyler) på overfladen af målmaterialet til at undslippe det. Dette fænomen blev opdaget af Grove i 1842, da...Læs mere -
Karakteristika for magnetronsputteringsbelægning Kapitel 2
Karakteristika for magnetronsputteringbelægning (3) Lavenergisputtering. På grund af den lave katodespænding, der påføres målet, er plasmaet bundet af magnetfeltet i rummet nær katoden, hvilket hæmmer de højenergiladede partikler på siden af substratet, som folk skyder. ...Læs mere -
Karakteristika for magnetronsputteringsbelægning Kapitel 1
Sammenlignet med andre belægningsteknologier er magnetron-sputterbelægning kendetegnet ved følgende egenskaber: Arbejdsparametrene har et stort dynamisk justeringsområde for belægningsaflejringshastighed og tykkelse (tilstanden af det belagte område), der let kan kontrolleres, og der er ingen design...Læs mere -
Ionstråleassisteret aflejringsteknologi
Ionstråleassisteret aflejringsteknologi er ionstråleinjektions- og dampaflejringsbelægningsteknologi kombineret med ionoverfladekompositbehandlingsteknologi. I processen med overflademodifikation af ioninjicerede materialer, hvad enten det er halvledermaterialer eller tekniske materialer, er det af...Læs mere
