La màquina de recobriment al buit PVD òptic per evaporació de pel·lícules primes AF està dissenyada per aplicar recobriments de pel·lícules primes a dispositius mòbils mitjançant el procés de deposició física de vapor (PVD). El procés implica la creació d'un entorn de buit dins d'una cambra de recobriment on els materials sòlids s'evaporen i després es dipositen...
La màquina de fabricació de miralls de recobriment al buit d'alumini i plata ha revolucionat la indústria de fabricació de miralls amb la seva tecnologia avançada i enginyeria de precisió. Aquesta màquina d'última generació està dissenyada per aplicar una fina capa d'alumini i plata a la superfície del vidre, creant...
El metal·litzador òptic al buit és una tecnologia d'avantguarda que ha revolucionat la indústria del recobriment de superfícies. Aquesta màquina avançada utilitza un procés anomenat metal·lització òptica al buit per aplicar una capa fina de metall a una varietat de substrats, creant una superfície altament reflectant i duradora...
La majoria dels elements químics es poden vaporitzar combinant-los amb grups químics, per exemple, el Si reacciona amb l'H per formar SiH4 i l'Al es combina amb el CH3 per formar Al(CH3). En el procés CVD tèrmic, els gasos anteriors absorbeixen una certa quantitat d'energia tèrmica a mesura que passen pel substrat escalfat i formen...
Deposició química de vapor (CVD). Com el seu nom indica, és una tècnica que utilitza reactius precursors gasosos per generar pel·lícules sòlides mitjançant reaccions químiques atòmiques i intermoleculars. A diferència de la PVD, el procés CVD es duu a terme principalment en un entorn de major pressió (buit més baix), amb...
3. Influència de la temperatura del substrat La temperatura del substrat és una de les condicions importants per al creixement de la membrana. Proporciona un suplement d'energia addicional als àtoms o molècules de la membrana i afecta principalment l'estructura de la membrana, el coeficient d'aglutinació, el coeficient d'expansió i l'agregació...
La fabricació de dispositius òptics de pel·lícula fina es duu a terme en una cambra de buit, i el creixement de la capa de pel·lícula és un procés microscòpic. Tanmateix, actualment, els processos macroscòpics que es poden controlar directament són alguns factors macroscòpics que tenen una relació indirecta amb la qualitat...
El procés d'escalfar materials sòlids en un ambient d'alt buit per sublimar-los o evaporar-los i dipositar-los sobre un substrat específic per obtenir una pel·lícula fina es coneix com a recobriment per evaporació al buit (anomenat recobriment per evaporació). La història de la preparació de pel·lícules primes mitjançant evaporació al buit...
L'òxid d'indi i estany (òxid d'indi i estany, conegut com a ITO) és un material semiconductor de tipus n amb banda prohibida ampla i fortament dopat, amb una alta transmitància de llum visible i baixa resistivitat, i per tant s'utilitza àmpliament en cèl·lules solars, pantalles planes, finestres electrocròmiques, materials inorgànics i orgànics...
Els recobridors rotatius al buit de laboratori són eines importants en el camp de la deposició de pel·lícules primes i la modificació de superfícies. Aquest equip avançat està dissenyat per aplicar amb precisió i uniformitat pel·lícules primes de diversos materials als substrats. El procés implica l'aplicació d'una solució líquida o sus...
Hi ha dos modes principals de deposició assistida per feix d'ions, un és híbrid dinàmic; l'altre és híbrid estàtic. El primer es refereix a la pel·lícula en el procés de creixement que sempre va acompanyada d'una certa energia i corrent de feix de bombardeig iònic i la pel·lícula; el segon es prediposita a la superfície de la...
① La tecnologia de deposició assistida per feix d'ions es caracteritza per una forta adhesió entre la pel·lícula i el substrat, la capa de la pel·lícula és molt forta. Els experiments han demostrat que: la deposició assistida per feix d'ions de l'adhesió que l'adhesió de la deposició de vapor tèrmic va augmentar diverses vegades fins a centenars...
El recobriment iònic al buit (anomenat recobriment iònic) va ser proposat pels Estats Units el 1963 per l'empresa Somdia DM Mattox, i a la dècada de 1970 es va produir un ràpid desenvolupament d'una nova tecnologia de tractament de superfícies. Es refereix a l'ús d'una font d'evaporació o un objectiu de pulverització catòdica en una atmosfera de buit per tal que la pel·lícula...
El vidre recobert es divideix en vidre recobert per evaporació, vidre recobert per pulverització catòdica magnetrònica i vidre recobert per dipòsit de vapor en línia. Com que el mètode de preparació de la pel·lícula és diferent, el mètode de retirada de la pel·lícula també és diferent. Suggeriment 1, ús d'àcid clorhídric i pols de zinc per polir i esmaltar...
Fins i tot a temperatures de tall molt elevades, la vida útil de l'eina de tall es pot allargar amb el recobriment, reduint així significativament els costos de mecanitzat. A més, el recobriment de l'eina de tall pot reduir la necessitat de fluids lubricants. No només redueix els costos de materials, sinó que també ajuda a protegir el medi ambient...