Добре дошли в Гуандун Женхуа Технологии Ко., ООД.
Новини от индустрията
-
AF машина за оптично PVD вакуумно покритие с изпаряване на тънък филм
Машината за оптично PVD вакуумно покритие с изпаряване на тънки филми AF е предназначена за нанасяне на тънки филмови покрития върху мобилни устройства, използвайки процеса на физическо отлагане от пари (PVD). Процесът включва създаване на вакуумна среда в камера за покритие, където твърдите материали се изпаряват и след това се отлагат...Прочетете още -
Машина за производство на огледала с вакуумно покритие от алуминий и сребро
Машината за вакуумно покритие на огледала с алуминий и сребро революционизира индустрията за производство на огледала със своята модерна технология и прецизно инженерство. Тази съвременна машина е проектирана да нанася тънък слой алуминий и сребро върху повърхността на стъклото, създавайки висококачествено...Прочетете още -
Оптична машина за вакуумно покритие
Оптичният вакуумен метализатор е най-съвременна технология, която революционизира индустрията за повърхностни покрития. Тази усъвършенствана машина използва процес, наречен оптична вакуумна метализация, за да нанесе тънък слой метал върху различни основи, създавайки силно отразяваща и издръжлива повърхност...Прочетете още -
Глава 2 от плазмено-усилено химическо отлагане от газова фаза
Повечето химични елементи могат да се изпарят чрез комбинирането им с химични групи, например Si реагира с H, за да образува SiH4, а Al се комбинира с CH3, за да образува Al(CH3). При термичния CVD процес, гореспоменатите газове абсорбират определено количество топлинна енергия, докато преминават през нагрятия субстрат и образуват ре...Прочетете още -
Глава 1 от плазмено-усилено химическо отлагане от газова фаза
Химично отлагане от газова фаза (CVD). Както подсказва името, това е техника, която използва газообразни прекурсорни реагенти за генериране на твърди филми чрез атомни и междумолекулни химични реакции. За разлика от PVD, CVD процесът се извършва предимно в среда с по-високо налягане (по-нисък вакуум), при...Прочетете още -
Елементи на процеса и механизми на действие, влияещи върху качеството на тънкослойните устройства (част 2)
3. Влияние на температурата на субстрата Температурата на субстрата е едно от важните условия за растежа на мембраната. Тя осигурява допълнително енергийно добавяне към мембранните атоми или молекули и влияе главно върху структурата на мембраната, коефициента на аглутинация, коефициента на разширение и агрегатите...Прочетете още -
Процесни фактори и механизми, влияещи върху качеството на тънкослойните устройства (част 1)
Производството на оптични тънкослойни устройства се извършва във вакуумна камера, а растежът на филмовия слой е микроскопичен процес. Въпреки това, в момента макроскопичните процеси, които могат да бъдат директно контролирани, са някои макроскопични фактори, които имат косвена връзка с качеството...Прочетете още -
Въведение в историята на развитието на технологията за изпаряване
Процесът на нагряване на твърди материали във висок вакуум за сублимиране или изпаряване и отлагането им върху специфичен субстрат за получаване на тънък филм е известен като вакуумно изпарително покритие (наричано изпарително покритие). Историята на получаването на тънки филми чрез вакуумно изпаряване...Прочетете още -
Въведение в ITO покритието
Индиево-калаен оксид (индиево-калаен оксид, наричан ITO) е широколентов, силно легиран полупроводников материал от n-тип, с висока пропускливост на видимата светлина и ниски характеристики на съпротивление, поради което е широко използван в слънчеви клетки, плоски дисплеи, електрохромни прозорци, неорганични и...Прочетете още -
Лабораторна машина за вакуумно центрофугиране
Лабораторните вакуумни центрофугиращи машини са важни инструменти в областта на отлагането на тънки филми и модификацията на повърхности. Това усъвършенствано оборудване е проектирано за точно и равномерно нанасяне на тънки филми от различни материали върху основи. Процесът включва нанасяне на течен разтвор или суспензия...Прочетете още -
Режим на отлагане с йонен лъч и неговият избор на енергия
Съществуват два основни режима на отлагане с йонен лъч, единият е динамичен хибриден, а другият е статичен хибриден. Първият се отнася до филма в процеса на растеж, който винаги е съпроводен с определена енергия и лъчев ток на йонно бомбардиране и филма; вторият е предварително отложен върху повърхността на...Прочетете още -
Технология за йонно-лъчево отлагане
① Технологията за йонно-лъчево отлагане се характеризира със силна адхезия между филма и субстрата, като слоят на филма е много здрав. Експериментите показват, че: йонно-лъчевото отлагане е с много по-висока адхезия от термичното отлагане на пари, което води до стотици по-високи нива на адхезия...Прочетете още -
Вакуумно йонно покритие
Вакуумното йонно покритие (наричано йонно покритие) е предложено от компанията DM Mattox от САЩ през 1963 г., а през 70-те години на миналия век се наблюдава бързо развитие на нова технология за повърхностна обработка. Тя се отнася до използването на източник на изпарение или разпрашителна мишена във вакуумна атмосфера, така че филмът...Прочетете още -
Филмовият слой в покритото стъкло се премахва
Стъклото с покритие се разделя на стъкло с изпарително покритие, стъкло с магнетронно разпрашване и стъкло с нанесено чрез парно отлагане покритие. Тъй като методът за приготвяне на филма е различен, методът за отстраняване на филма също е различен. Предложение 1, Използване на солна киселина и цинков прах за полиране и шлифоване...Прочетете още -
Ролята на покритията на режещите инструменти - Глава 2
Дори при много високи температури на рязане, животът на режещия инструмент може да бъде удължен с покритие, като по този начин значително се намалят разходите за обработка. Освен това, покритието на режещия инструмент може да намали нуждата от смазочни течности. Не само намалява разходите за материали, но и помага за опазване на околната среда...Прочетете още
