Welkom by Guangdong Zhenhua Tegnologie Co., Ltd.
Bedryfsnuus
-
AF Dunfilm Verdamping Optiese PVD Vakuumbedekkingsmasjien
Die AF Dunfilmverdamping Optiese PVD-vakuumbedekkingsmasjien is ontwerp om dunfilmbedekkings op mobiele toestelle aan te wend deur die Fisiese Dampafsettingsproses (PVD) te gebruik. Die proses behels die skep van 'n vakuumomgewing binne 'n bedekkingskamer waar vaste materiale verdamp en dan neergesit word...Lees meer -
Aluminium silwer vakuumbedekking spieël vervaardigingsmasjien
Die aluminium-silwer vakuumbedekkings-spieëlmaakmasjien het die spieëlvervaardigingsbedryf gerevolusioneer met sy gevorderde tegnologie en presisie-ingenieurswese. Hierdie moderne masjien is ontwerp om 'n dun lagie aluminium-silwer op die oppervlak van glas aan te wend, wat hoë kwaliteit...Lees meer -
Optiese vakuumbedekkingsmasjien
Die optiese vakuummetalliseerder is 'n moderne tegnologie wat die oppervlakbedekkingsbedryf gerevolusioneer het. Hierdie gevorderde masjien gebruik 'n proses genaamd optiese vakuummetallisering om 'n dun lagie metaal op 'n verskeidenheid substrate aan te wend, wat 'n hoogs weerkaatsende en duursame oppervlak skep...Lees meer -
Plasma-versterkte Chemiese Dampafsetting Hoofstuk 2
Die meeste chemiese elemente kan verdamp word deur hulle met chemiese groepe te kombineer, bv. Si reageer met H om SiH4 te vorm, en Al kombineer met CH3 om Al(CH3) te vorm. In die termiese CVD-proses absorbeer die bogenoemde gasse 'n sekere hoeveelheid termiese energie soos hulle deur die verhitte substraat beweeg en vorm her...Lees meer -
Plasma-versterkte Chemiese Dampafsetting Hoofstuk 1
Chemiese Dampafsetting (CVD). Soos die naam aandui, is dit 'n tegniek wat gasvormige voorloperreaktante gebruik om soliede films te genereer deur middel van atoom- en intermolekulêre chemiese reaksies. Anders as PVD, word die CVD-proses meestal in 'n hoërdruk- (laer vakuum-) omgewing uitgevoer, met...Lees meer -
Proseselemente en aksiemeganismes wat die kwaliteit van dunfilmtoestelle beïnvloed (Deel 2)
3. Invloed van substraattemperatuur Substraattemperatuur is een van die belangrike voorwaardes vir membraangroei. Dit bied addisionele energie-aanvulling aan die membraanatome of -molekules, en beïnvloed hoofsaaklik die membraanstruktuur, agglutinasiekoëffisiënt, uitbreidingskoëffisiënt en aggregaat...Lees meer -
Prosesfaktore en Meganismes wat die kwaliteit van dunfilmtoestelle beïnvloed (Deel 1)
Die vervaardiging van optiese dunfilmtoestelle word in 'n vakuumkamer uitgevoer, en die groei van die filmlaag is 'n mikroskopiese proses. Tans is die makroskopiese prosesse wat egter direk beheer kan word, sommige makroskopiese faktore wat 'n indirekte verband met die kwaliteit het...Lees meer -
Inleiding tot die ontwikkelingsgeskiedenis van verdampingstegnologie
Die proses om vaste materiale in 'n hoëvakuumomgewing te verhit om te sublimeer of te verdamp en dit op 'n spesifieke substraat te deponeer om 'n dun film te verkry, staan bekend as vakuumverdampingsbedekking (verwys na as verdampingsbedekking). Die geskiedenis van die voorbereiding van dun films deur vakuumverdamping...Lees meer -
ITO-bedekking Inleiding
Indiumtinoksied (Indiumtinoksied, verwys na as ITO) is 'n wye bandgaping, swaar gedoteerde n-tipe halfgeleiermateriaal, met hoë sigbare ligtransmissie en lae weerstandseienskappe, en word dus wyd gebruik in sonselle, platskermskerms, elektrochromiese vensters, anorganiese en organiese ...Lees meer -
Laboratorium vakuum spin-bedekkingsmasjien
Laboratoriumvakuum-spinbedekkers is belangrike gereedskap op die gebied van dunfilmafsetting en oppervlakmodifikasie. Hierdie gevorderde toerusting is ontwerp om dunfilms van 'n verskeidenheid materiale akkuraat en egalig op substrate aan te wend. Die proses behels die aanwending van 'n vloeibare oplossing of sus...Lees meer -
Ioonstraal-ondersteunde afsettingsmodus en die energiekeuse daarvan
Daar is twee hoofmodusse van ioonbundel-ondersteunde afsetting, een is dinamiese hibried; die ander is statiese hibried. Eersgenoemde verwys na die film in die groeiproses wat altyd gepaard gaan met 'n sekere energie en straalstroom van ioonbombardement en film; laasgenoemde word vooraf op die oppervlak van die ...Lees meer -
Ioonstraalafsettingstegnologie
① Ioonbundel-ondersteunde afsettingstegnologie word gekenmerk deur sterk adhesie tussen die film en die substraat, die filmlaag is baie sterk. Eksperimente het getoon dat: ioonbundel-ondersteunde afsetting van adhesie as die adhesie van termiese dampafsetting verskeie kere tot honderde toegeneem het ...Lees meer -
Vakuumioonbedekking
Vakuumioonbedekking (ook bekend as ioonplatering) is 'n voorstel wat die Somdia-maatskappy DM Mattox in 1963 in die Verenigde State voorgestel het. Die vinnige ontwikkeling van 'n nuwe oppervlakbehandelingstegnologie was in die 1970's. Dit verwys na die gebruik van 'n verdampingsbron of sputterteiken in 'n vakuumatmosfeer sodat die film...Lees meer -
Die filmlaag in bedekte glas verwyder manier
Bedekte glas word verdeel in verdampingsbedekte, magnetron-sputterbedekte en inlyn-dampafsettingsbedekte glas. Aangesien die metode om die film voor te berei verskil, is die metode om die film te verwyder ook verskillend. Voorstel 1, Gebruik soutsuur en sinkpoeier vir polering en vryf...Lees meer -
Die Rol van Snygereedskapbedekkings - Hoofstuk 2
Selfs by baie hoë snytemperature kan die lewensduur van die snygereedskap verleng word met 'n bedekking, wat die masjineringskoste aansienlik verminder. Boonop kan die bedekking van snygereedskap die behoefte aan smeervloeistowwe verminder. Dit verminder nie net materiaalkoste nie, maar help ook om die omgewing te beskerm...Lees meer
