Welkom by Guangdong Zhenhua Tegnologie Co., Ltd.
Bedryfsnuus
-
RF-sputterlaag se hoofkenmerke
A. Hoë verstuiwingstempo. Byvoorbeeld, wanneer SiO2 verstui word, kan die afsettingstempo tot 200 nm/min wees, gewoonlik tot 10~100 nm/min. En die tempo van filmvorming is direk eweredig aan die hoëfrekwensie-krag. B. Die adhesie tussen die film en die substraat is groter as die vakuumdamp...Lees meer -
Motorlampfilmproduksiebedekkingslyne
Motorlampfilmproduksielyne is 'n noodsaaklike deel van die motorvervaardigingsbedryf. Hierdie produksielyne is verantwoordelik vir die bedekking en produksie van motorlampfilms, wat 'n belangrike rol speel in die verbetering van die estetika en funksionaliteit van motorlampe. Namate die vraag na hoëgehalte...Lees meer -
Die Rol van Magnetiese Veld in Magnetronverstuiwing
Magnetron-sputtering sluit hoofsaaklik ontladingsplasma-vervoer, teiken-etsing, dunfilmafsetting en ander prosesse in, die magnetiese veld op die magnetron-sputterproses sal 'n impak hê. In die magnetron-sputterstelsel plus ortogonale magnetiese veld is die elektrone onderhewig aan die ...Lees meer -
Vereistes vir die pompstelsel vir die vakuumbedekkingsmasjien
Die vakuumbedekkingsmasjien op die pompstelsel het die volgende basiese vereistes: (1) Die bedekkingsvakuumstelsel moet 'n voldoende groot pomptempo hê, wat nie net die gasse wat uit die substraat vrygestel word en verdampte materiale en die komponente in die vakuumk ... vinnig moet uitpomp nie.Lees meer -
Juweliersware PVD-bedekkingsmasjien
Die juweliersware PVD-bedekkingsmasjien gebruik 'n proses bekend as Fisiese Vapor Deposition (PVD) om 'n dun maar duursame laag op juweliersware aan te wend. Hierdie proses behels die gebruik van hoë-suiwerheid, soliede metaalteikens, wat in 'n vakuumomgewing verdamp word. Die gevolglike metaaldamp word dan gekondisioneer...Lees meer -
Klein Buigsame Pvd Vakuumbedekkingsmasjien
Een van die hoofvoordele van klein buigsame PVD-vakuumbedekkingsmasjiene is hul veelsydigheid. Hierdie masjiene is ontwerp om 'n verskeidenheid substraatgroottes en -vorms te akkommodeer, wat hulle ideaal maak vir kleinskaalse of pasgemaakte vervaardigingsprosesse. Daarbenewens is die kompakte grootte en buigsame konfidens...Lees meer -
Snygereedskap Vakuumbedekkingsmasjien
In die steeds ontwikkelende vervaardigingsbedryf speel snygereedskap 'n belangrike rol in die vorming van die produkte wat ons elke dag gebruik. Van presisie snywerk in die lugvaartbedryf tot komplekse ontwerpe in die mediese veld, die vraag na hoëgehalte snygereedskap bly styg. Om aan hierdie vraag te voldoen, het die VSA...Lees meer -
Effek van ioonbombardement op die filmlaag/substraat-grensvlak
Wanneer die afsetting van membraanatome begin, het ioonbombardement die volgende effekte op die membraan/substraat-koppelvlak. (1) Fisiese vermenging. As gevolg van hoë-energie iooninspuiting, verstuiwing van die gedeponeerde atome en die terugslaginspuiting van oppervlakatome en die kaskadebotsingsverskynsel, sal...Lees meer -
Herlewing en Ontwikkeling van Vakuumsputterbedekking
Sputtering is 'n verskynsel waarin energieke deeltjies (gewoonlik positiewe ione van gasse) die oppervlak van 'n vaste stof (hierna die teikenmateriaal genoem) tref, wat veroorsaak dat atome (of molekules) op die oppervlak van die teikenmateriaal daaruit ontsnap. Hierdie verskynsel is in 1842 deur Grove ontdek toe...Lees meer -
Eienskappe van magnetron-sputterlaag Hoofstuk 2
Eienskappe van magnetron-sputterlaag (3) Lae-energie-sputtering. As gevolg van die lae katodespanning wat op die teiken toegepas word, word die plasma gebind deur die magnetiese veld in die ruimte naby die katode, wat die hoë-energie gelaaide deeltjies aan die kant van die substraat wat mense skiet, inhibeer. Die...Lees meer -
Eienskappe van magnetron-sputterlaag Hoofstuk 1
In vergelyking met ander bedekkingstegnologieë, word magnetron-sputterbedekking gekenmerk deur die volgende kenmerke: die werkparameters het 'n groot dinamiese aanpassingsbereik van die afsettingspoed van die bedekking en dikte (die toestand van die bedekte area) kan maklik beheer word, en daar is geen ontwerp...Lees meer -
Ioonstraal-ondersteunde afsettingstegnologie
Ioonbundel-ondersteunde afsettingstegnologie is die ioonbundel-inspuiting en dampafsettingsbedekkingstegnologie gekombineer met ioonoppervlak-saamgestelde verwerkingstegnologie. In die proses van oppervlakmodifikasie van ioon-ingespuite materiale, of dit nou halfgeleiermateriale of ingenieursmateriale is, is dit van...Lees meer -
Eksperiment vakuumbedekkingsmasjien
In onlangse jare is beduidende vordering en deurbrake gemaak op die gebied van vakuumbedekkingstegnologie. Dit is slegs moontlik danksy onvermoeide pogings in eksperimentering en navorsing. Onder die vele masjiene wat in hierdie veld gebruik word, is eksperimentele vakuumbedekkingsmasjiene sleutelinstrumente vir die bereiking...Lees meer -
CVD-tegnologie se werkbeginsels
CVD-tegnologie is gebaseer op 'n chemiese reaksie. Die reaksie waarin die reaktante in 'n gasvormige toestand is en een van die produkte in 'n vaste toestand is, word gewoonlik na verwys as 'n CVD-reaksie, daarom moet die chemiese reaksiestelsel aan die volgende drie voorwaardes voldoen. (1) By die afsettingstemperatuur...Lees meer -
Bril lens optiese vakuumbedekkingsmasjien
In vandag se vinnig veranderende wêreld het brille 'n integrale deel van ons lewens geword. Hierdie oënskynlik eenvoudige bykomstighede het ontwikkel van noodsaaklikheid tot modeverklaring. Baie mense is egter onbewus van die ingewikkelde proses wat betrokke is by die skep van 'n perfekte paar brillense. Dit is w...Lees meer
