ගුවැන්ඩොං ෂෙන්හුවා ටෙක්නොලොජි සමාගම, සීමාසහිත වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු.
පුවත්
-
CVD තාක්ෂණයේ වර්ග
පුළුල් ලෙස කිවහොත්, CVD දළ වශයෙන් වර්ග දෙකකට බෙදිය හැකිය: එකක් තනි නිෂ්පාදනයක් තුළ උපස්ථරය මත තනි-ස්ඵටික එපිටැක්සියල් ස්ථරයේ වාෂ්ප තැන්පත් වීම වන අතර එය පටු CVD වේ; අනෙක බහු-නිෂ්පාදන සහ අස්ඵටික පටල ඇතුළුව උපස්ථරය මත තුනී පටල තැන්පත් වීමයි. t... අනුවතවත් කියවන්න -
දෘශ්ය තුනී පටලවල සම්ප්රේෂණය සහ පරාවර්තන වර්ණාවලිය සහ වර්ණය 2 වන පරිච්ඡේදය
මෙයින් අපි පැහැදිලි කිරීමට යන්නේ: (1) තුනී පටල උපාංග, සම්ප්රේෂණය, පරාවර්තන වර්ණාවලිය සහ වර්ණාවලියක් අතර අනුරූප සම්බන්ධතාවයේ වර්ණය; ඊට පටහැනිව, මෙම සම්බන්ධතාවය "අද්විතීය නොවේ", වර්ණ බහු-වර්ණාවලියක් ලෙස ප්රකාශ වේ. එබැවින්, චිත්රපටය...තවත් කියවන්න -
දෘශ්ය තුනී පටලවල සම්ප්රේෂණය සහ පරාවර්තන වර්ණාවලිය සහ වර්ණය 1 වන පරිච්ඡේදය
සම්ප්රේෂණ සහ පරාවර්තන වර්ණාවලි සහ දෘශ්ය තුනී පටලවල වර්ණ යනු එකම අවස්ථාවේදීම පවතින තුනී පටල උපාංගවල ලක්ෂණ දෙකකි. 1. සම්ප්රේෂණ සහ පරාවර්තන වර්ණාවලිය යනු තරංග ආයාමය සහිත දෘශ්ය තුනී පටල උපාංගවල පරාවර්තනය සහ සම්ප්රේෂණය අතර සම්බන්ධතාවයයි. එය c...තවත් කියවන්න -
AF තුනී පටල වාෂ්පීකරණ දෘශ්ය PVD රික්ත ආලේපන යන්ත්රය
AF තුනී පටල වාෂ්පීකරණය දෘශ්ය PVD රික්ත ආලේපන යන්ත්රය භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ (PVD) ක්රියාවලිය භාවිතයෙන් ජංගම උපාංග සඳහා තුනී පටල ආලේපන යෙදීම සඳහා නිර්මාණය කර ඇත. මෙම ක්රියාවලියට ඝන ද්රව්ය වාෂ්ප වී පසුව තැන්පත් කරන ආලේපන කුටියක් තුළ රික්ත පරිසරයක් නිර්මාණය කිරීම ඇතුළත් වේ...තවත් කියවන්න -
ඇලුමිනියම් රිදී රික්ත ආලේපන දර්පණ නිෂ්පාදන යන්ත්රය
ඇලුමිනියම් රිදී රික්ත ආලේපන දර්පණ සාදන යන්ත්රය එහි දියුණු තාක්ෂණය සහ නිරවද්ය ඉංජිනේරු විද්යාව සමඟ දර්පණ නිෂ්පාදන කර්මාන්තයේ විප්ලවීය වෙනසක් සිදු කර ඇත. මෙම අති නවීන යන්ත්රය නිර්මාණය කර ඇත්තේ වීදුරු මතුපිටට ඇලුමිනියම් රිදී තුනී ආලේපනයක් යෙදීම සඳහා වන අතර එමඟින් උසස් තත්ත්වයේ...තවත් කියවන්න -
දෘශ්ය රික්ත ආලේපන යන්ත්රය
දෘශ්ය රික්ත ලෝහකරණය යනු මතුපිට ආලේපන කර්මාන්තයේ විප්ලවීය වෙනසක් ඇති කළ අති නවීන තාක්ෂණයකි. මෙම දියුණු යන්ත්රය විවිධ උපස්ථරවලට තුනී ලෝහ තට්ටුවක් යෙදීම සඳහා දෘශ්ය රික්ත ලෝහකරණය නම් ක්රියාවලියක් භාවිතා කරයි, ඉහළ පරාවර්තක සහ කල් පවතින මතුපිටක් නිර්මාණය කරයි...තවත් කියවන්න -
ප්ලාස්මා වැඩි දියුණු කළ රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම 2 වන පරිච්ඡේදය
බොහෝ රසායනික මූලද්රව්ය රසායනික කාණ්ඩ සමඟ ඒකාබද්ධ කිරීමෙන් වාෂ්ප කළ හැකිය, උදා: Si H සමඟ ප්රතික්රියා කර SiH4 සාදයි, සහ Al CH3 සමඟ ඒකාබද්ධ වී Al(CH3) සාදයි. තාප CVD ක්රියාවලියේදී, ඉහත වායූන් රත් වූ උපස්ථරය හරහා ගමන් කරන විට යම් තාප ශක්තියක් අවශෝෂණය කර නැවත... සාදයි.තවත් කියවන්න -
ප්ලාස්මා වැඩි දියුණු කළ රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම 1 වන පරිච්ඡේදය
රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (CVD). නමෙන් ගම්ය වන පරිදි, එය පරමාණුක සහ අන්තර් අණුක රසායනික ප්රතික්රියා මගින් ඝන පටල ජනනය කිරීම සඳහා වායුමය පූර්වගාමී ප්රතික්රියාකාරක භාවිතා කරන තාක්ෂණයකි. PVD මෙන් නොව, CVD ක්රියාවලිය බොහෝ දුරට ඉහළ පීඩන (අඩු රික්තක) පරිසරයක සිදු කරනු ලැබේ, wi...තවත් කියවන්න -
ක්රියාවලි මූලද්රව්ය සහ ක්රියා තුනී පටල උපාංගවල ගුණාත්මක භාවයට බලපාන යාන්ත්රණ (2 කොටස)
3. උපස්ථර උෂ්ණත්වයේ බලපෑම උපස්ථර උෂ්ණත්වය පටල වර්ධනය සඳහා වැදගත් කොන්දේසි වලින් එකකි. එය පටල පරමාණු හෝ අණු සඳහා අතිරේක ශක්ති අතිරේකයක් සපයන අතර, ප්රධාන වශයෙන් පටල ව්යුහය, එකතු කිරීමේ සංගුණකය, ප්රසාරණ සංගුණකය සහ එකතු කිරීම කෙරෙහි බලපායි...තවත් කියවන්න -
තුනී පටල උපාංගවල ගුණාත්මක භාවයට බලපාන ක්රියාවලි සාධක සහ යාන්ත්රණ (1 කොටස)
දෘශ්ය තුනී පටල උපාංග නිෂ්පාදනය රික්ත කුටියක සිදු කරනු ලබන අතර, පටල ස්ථරයේ වර්ධනය ක්ෂුද්ර ක්රියාවලියකි. කෙසේ වෙතත්, වර්තමානයේ, සෘජුවම පාලනය කළ හැකි සාර්ව දර්ශන ක්රියාවලීන් යනු ගුණාත්මකභාවය සමඟ වක්ර සම්බන්ධතාවයක් ඇති සමහර සාර්ව දර්ශන සාධක වේ...තවත් කියවන්න -
වාෂ්පීකරණ තාක්ෂණය සංවර්ධනය කිරීමේ ඉතිහාසය හැඳින්වීම
ඉහළ රික්තක පරිසරයක ඝන ද්රව්ය රත් කර ඒවා උත්ප්රේරණය කිරීම හෝ වාෂ්ප කිරීම සහ තුනී පටලයක් ලබා ගැනීම සඳහා නිශ්චිත උපස්ථරයක් මත තැන්පත් කිරීමේ ක්රියාවලිය රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපනය (වාෂ්පීකරණ ආලේපනය ලෙස හැඳින්වේ) ලෙස හැඳින්වේ. රික්ත වාෂ්පීකරණය මගින් තුනී පටල සකස් කිරීමේ ඉතිහාසය...තවත් කියවන්න -
ITO ආලේපන හැඳින්වීම
ඉන්ඩියම් ටින් ඔක්සයිඩ් (ඉන්ඩියම් ටින් ඔක්සයිඩ්, ITO ලෙස හැඳින්වේ) යනු පුළුල් කලාප පරතරයක්, අධික ලෙස මාත්රණය කරන ලද n-වර්ගයේ අර්ධ සන්නායක ද්රව්යයක් වන අතර එය ඉහළ දෘශ්ය ආලෝක සම්ප්රේෂණයක් සහ අඩු ප්රතිරෝධක ලක්ෂණ ඇති අතර එමඟින් සූර්ය කෝෂ, පැතලි පැනල් සංදර්ශක, විද්යුත් වර්ණදේහ කවුළු, අකාබනික සහ අවයව...තවත් කියවන්න -
රසායනාගාර රික්ත භ්රමණ ආලේපන යන්ත්රය
රසායනාගාර රික්ත භ්රමණ ආලේපන යනු තුනී පටල තැන්පත් කිරීම සහ මතුපිට වෙනස් කිරීම යන ක්ෂේත්රයේ වැදගත් මෙවලම් වේ. මෙම දියුණු උපකරණය විවිධ ද්රව්යවල තුනී පටල නිවැරදිව හා ඒකාකාරව උපස්ථරවලට යෙදීම සඳහා නිර්මාණය කර ඇත. මෙම ක්රියාවලියට ද්රව ද්රාවණයක් හෝ සස්... යෙදීම ඇතුළත් වේ.තවත් කියවන්න -
අයන කදම්භ ආධාරක තැන්පත් කිරීමේ මාදිලිය සහ එහි ශක්ති තේරීම
අයන කදම්භ-සහායිත තැන්පත් වීමේ ප්රධාන ක්රම දෙකක් තිබේ, එකක් ගතික දෙමුහුන් ය; අනෙක ස්ථිතික දෙමුහුන් ය. පළමුවැන්න වර්ධන ක්රියාවලියේ පටලයට යොමු කරයි, සෑම විටම අයන බෝම්බ හෙලීමේ සහ පටලයේ යම් ශක්තියක් සහ කදම්භ ධාරාවක් සමඟ ඇත; දෙවැන්න මතුපිට පූර්ව තැන්පත් කර ඇත...තවත් කියවන්න -
අයන කදම්භ තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය
① අයන කදම්භ ආධාරක තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණය පටලය සහ උපස්ථරය අතර ශක්තිමත් ඇලවීම මගින් සංලක්ෂිත වේ, පටල ස්ථරය ඉතා ශක්තිමත් වේ. අත්හදා බැලීම්වලින් පෙන්වා දී ඇත්තේ: අයන කදම්භ ආධාරක ඇලවීම තාප වාෂ්ප තැන්පත් වීමේ ඇලවීමට වඩා සිය ගණනක් දක්වා කිහිප ගුණයකින් වැඩි වී ඇති බව ...තවත් කියවන්න
