Что такое технология вакуумного ионного покрытия?

1. Принцип технологии вакуумного ионного покрытия
Используя технологию вакуумного дугового разряда в вакуумной камере, на поверхности материала катода генерируется дуговой свет, который приводит к образованию атомов и ионов на материале катода. Под действием электрического поля атомные и ионные пучки бомбардируют поверхность заготовки как анода с высокой скоростью. В то же время в вакуумную камеру вводится реакционный газ, и на поверхности заготовки образуется слой покрытия с превосходными свойствами.

2. Характеристики вакуумного ионного покрытия
(1) Хорошая адгезия слоя покрытия, слой пленки нелегко отслаивается.
(2) Хорошее обволакивающее покрытие и улучшенное покрытие поверхности.
(3) Хорошее качество слоя покрытия.
(4) Высокая скорость осаждения и быстрое формирование пленки.
(5) Широкий выбор подходящих материалов подложки и пленочных материалов для покрытия

Крупномасштабное многодуговое магнетронное интегрированное оборудование для нанесения покрытий, исключающих появление отпечатков пальцев

Машина для нанесения покрытия с защитой от отпечатков пальцев с магнетронным распылением использует комбинацию среднечастотного магнетронного распыления, многодуговой ионизации и технологии AF, которая широко используется в промышленности по производству оборудования, столовых приборов, титановых пластин из нержавеющей стали, моек из нержавеющей стали и обработки больших пластин из нержавеющей стали. Она имеет хорошую адгезию, повторяемость, плотность и однородность слоя пленки, высокую производительность и высокий выход готовой продукции.