Елементи на процесот и механизми на дејствување што влијаат на квалитетот на уредите со тенок филм (Дел 2)

3. Влијание на температурата на подлогата

Температурата на подлогата е еден од важните услови за раст на мембраната. Таа обезбедува дополнителен енергетски додаток на атомите или молекулите на мембраната и главно влијае на структурата на мембраната, коефициентот на аглутинација, коефициентот на експанзија и густината на агрегација. Макроскопската рефлексија во индексот на прекршување на филмот, расејувањето, стресот, адхезијата, тврдоста и нерастворливоста ќе бидат значително различни поради различната температура на подлогата.

(1) Ладна подлога: генерално се користи за испарување на метален филм.

(2) Предности на висока температура:

① Преостанатите молекули на гас адсорбирани на површината на подлогата се отстрануваат за да се зголеми силата на врзување помеѓу подлогата и наталожените молекули;

(2) Промовирање на трансформацијата на физичката адсорпција во хемисорпција на филмскиот слој, подобрување на интеракцијата меѓу молекулите, затегнување на филмот, зголемување на адхезијата и подобрување на механичката цврстина;

③ Намалете ја разликата помеѓу температурата на молекуларната рекристализација на пареата и температурата на подлогата, подобрете ја густината на филмскиот слој, зголемете ја тврдоста на филмскиот слој за да го елиминирате внатрешниот стрес.

(3) Недостаток на превисока температура: структурата на филмскиот слој се менува или филмскиот материјал се распаѓа.

4. Ефекти од јонско бомбардирање

Бомбардирање по обложување: подобрување на густината на агрегација на филмот, подобрување на хемиската реакција, зголемување на индексот на прекршување на оксидниот филм, механичка цврстина и отпорност и адхезија. Прагот на оштетување од светлина се зголемува.
5. Влијанието на материјалот на подлогата

(1) Различниот коефициент на ширење на материјалот на подлогата ќе доведе до различен термички стрес на филмот;

(2) Различниот хемиски афинитет ќе влијае на адхезијата и цврстината на филмот;

(3) Грубоста и дефектите на подлогата се главните извори на расејување на тенок филм.
6. Влијание на чистењето на подлогата

Остатокот од нечистотија и детергент на површината на подлогата ќе доведе до: (1) слаба адхезија на филмот на подлогата; ② Се зголемува апсорпцијата на расејување, слаба е анти-ласерската способност; ③ Слаба пропустливост на светлина.

Хемискиот состав (чистота и видови на нечистотии), физичката состојба (прав или блок) и претходната обработка (вакуумско синтерување или ковање) на филмскиот материјал ќе влијаат на структурата и перформансите на филмот.

8. Влијание на методот на испарување

Почетната кинетичка енергија обезбедена со различни методи на испарување за испарување на молекули и атоми е многу различна, што резултира со голема разлика во структурата на филмот, што се манифестира како разлика во индексот на прекршување, расејувањето и адхезијата.

9. Влијание на аголот на инциденца на пареа

Аголот на инциденца на пареа се однесува на аголот помеѓу насоката на молекуларното зрачење на пареата и површинската нормала на обложената подлога, што влијае на карактеристиките на раст и густината на агрегација на филмот, и има големо влијание врз индексот на прекршување и карактеристиките на расејување на филмот. За да се добијат висококвалитетни филмови, потребно е да се контролира аголот на човечка емисија на молекулите на пареата од филмскиот материјал, кој генерално треба да биде ограничен на 30°.

10. Ефекти од третманот со печење

Термичката обработка на филмот во атмосферата е погодна за ослободување на стрес и термичка миграција на молекулите на амбиенталниот гас и молекулите на филмот, и може да ја направи структурата на филмот рекомбинација, па затоа има големо влијание врз индексот на прекршување, стресот и тврдоста на филмот.