Laipni lūdzam uzņēmumā Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Ziņas
-
CVD tehnoloģijas veidi
Vispārīgi runājot, CVD var aptuveni iedalīt divos veidos: viens ir viena produkta epitaksiālā slāņa tvaiku nogulsnēšana uz substrāta, kas šauri ir CVD; otrs ir plānu kārtiņu, tostarp daudzproduktu un amorfo plēvju, nogulsnēšana uz substrāta. Saskaņā ar ...Lasīt vairāk -
Optisko plāno plēvju caurlaidības un atstarošanas spektri un krāsa 2. nodaļa
No tā mēs precizēsim: (1) plānplēves ierīču caurlaidības, atstarošanas spektru un atbilstošās krāsas attiecības, tas ir, krāsas spektru; gluži pretēji, šīs attiecības "nav unikālas", kas izpaužas kā krāsu daudzspektrs. Tāpēc plēves...Lasīt vairāk -
Optisko plāno plēvju caurlaidības un atstarošanas spektri un krāsa 1. nodaļa
Optisko plāno plēvju caurlaidības un atstarošanas spektri un krāsas ir divas plāno plēvju ierīču īpašības, kas pastāv vienlaikus. 1. Caurlaidības un atstarošanas spektrs ir optisko plāno plēvju ierīču atstarošanas un caurlaidības attiecība atkarībā no viļņa garuma. Tas ir c...Lasīt vairāk -
AF plānas plēves iztvaikošanas optiskā PVD vakuuma pārklāšanas mašīna
AF plānās plēves iztvaikošanas optiskā PVD vakuuma pārklāšanas iekārta ir paredzēta plānu plēves pārklājumu uzklāšanai uz mobilajām ierīcēm, izmantojot fizikālās tvaiku pārklāšanas (PVD) procesu. Process ietver vakuuma vides izveidošanu pārklāšanas kamerā, kur cietās vielas tiek iztvaicētas un pēc tam nogulsnētas...Lasīt vairāk -
Alumīnija sudraba vakuuma pārklājuma spoguļu ražošanas mašīna
Alumīnija sudraba vakuuma pārklājuma spoguļu ražošanas mašīna ir revolucionizējusi spoguļu ražošanas nozari, pateicoties tās progresīvajām tehnoloģijām un precīzajai inženierijai. Šī modernā mašīna ir paredzēta, lai uz stikla virsmas uzklātu plānu alumīnija sudraba slāni, radot augstas kvalitātes...Lasīt vairāk -
Optiskā vakuuma pārklāšanas mašīna
Optiskā vakuuma metalizatora tehnoloģija ir radījusi revolūciju virsmu pārklājumu nozarē. Šī modernā iekārta izmanto procesu, ko sauc par optisko vakuuma metalizāciju, lai uzklātu plānu metāla kārtu uz dažādiem substrātiem, radot ļoti atstarojošu un izturīgu virsmu...Lasīt vairāk -
Plazmas pastiprināta ķīmiskā tvaiku pārklāšana 2. nodaļa
Lielāko daļu ķīmisko elementu var iztvaicēt, apvienojot tos ar ķīmiskām grupām, piemēram, Si reaģē ar H, veidojot SiH4, un Al savienojas ar CH3, veidojot Al(CH3). Termiskajā CVD procesā iepriekš minētās gāzes, izejot cauri uzkarsētajam substrātam, absorbē noteiktu daudzumu siltumenerģijas un veido...Lasīt vairāk -
Plazmas pastiprināta ķīmiskā tvaiku pārklāšana 1. nodaļa
Ķīmiskā tvaiku pārklāšana (CVD). Kā norāda nosaukums, tā ir metode, kurā izmanto gāzveida prekursoru reaģentus, lai ar atomu un starpmolekulāru ķīmisko reakciju palīdzību radītu cietas plēves. Atšķirībā no PVD, CVD process galvenokārt tiek veikts augstāka spiediena (zemāka vakuuma) vidē, ar...Lasīt vairāk -
Procesa elementi un darbības mehānismi, kas ietekmē plāno plēvju ierīču kvalitāti (2. daļa)
3. Substrāta temperatūras ietekme Substrāta temperatūra ir viens no svarīgākajiem membrānas augšanas nosacījumiem. Tā nodrošina papildu enerģijas pieplūdumu membrānas atomiem vai molekulām un galvenokārt ietekmē membrānas struktūru, aglutinācijas koeficientu, izplešanās koeficientu un agregātu...Lasīt vairāk -
Plānās plēves ierīču kvalitāti ietekmējošie procesa faktori un mehānismi (1. daļa)
Optisko plāno plēvju ierīču ražošana tiek veikta vakuuma kamerā, un plēves slāņa augšana ir mikroskopisks process. Tomēr pašlaik makroskopiskie procesi, kurus var tieši kontrolēt, ir daži makroskopiski faktori, kuriem ir netieša saistība ar kvalitāti...Lasīt vairāk -
Iztvaikošanas tehnoloģijas attīstības vēstures ievads
Cietu materiālu karsēšanas process augsta vakuuma vidē, lai tos sublimētu vai iztvaicētu un nogulsnētu uz noteikta substrāta, lai iegūtu plānu plēvi, ir pazīstams kā vakuuma iztvaicēšanas pārklāšana (turpmāk tekstā - iztvaicēšanas pārklāšana). Plānu plēvju sagatavošanas vēsture ar vakuuma iztvaicēšanu...Lasīt vairāk -
ITO pārklājuma ievads
Indija alvas oksīds (indija alvas oksīds, saukts par ITO) ir platjoslas spraugas, stipri leģēts n-tipa pusvadītāju materiāls ar augstu redzamās gaismas caurlaidību un zemu pretestību, tāpēc to plaši izmanto saules baterijās, plakanā paneļa displejos, elektrohromajos logos, neorganiskajos un organiskajos materiālos...Lasīt vairāk -
Laboratorijas vakuuma centrifūgas pārklāšanas mašīna
Laboratorijas vakuuma centrifūgas pārklāšanas iekārtas ir svarīgi instrumenti plāno kārtiņu uzklāšanas un virsmas modifikācijas jomā. Šī modernā iekārta ir paredzēta, lai precīzi un vienmērīgi uzklātu dažādu materiālu plānas kārtiņas uz substrātiem. Process ietver šķidra šķīduma vai suspensijas uzklāšanu...Lasīt vairāk -
Jonu kūļa asistēta uzklāšanas režīms un tā enerģijas izvēle
Ir divi galvenie jonu kūļa veicinātas nogulsnēšanas veidi: viens ir dinamiskais hibrīds un otrs ir statiskais hibrīds. Pirmais attiecas uz to, ka plēves augšanas procesu vienmēr pavada noteikta jonu bombardēšanas enerģija un kūļa strāva, kā arī plēve; otrais tiek iepriekš nogulsnēts uz virsmas...Lasīt vairāk -
Jonu staru nogulsnēšanas tehnoloģija
① Jonu staru ar palīdzību uzklāšanas tehnoloģijai raksturīga spēcīga saķere starp plēvi un substrātu, plēves slānis ir ļoti izturīgs. Eksperimenti ir parādījuši, ka: jonu staru ar palīdzību uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uzklāta uz plēves ...Lasīt vairāk
