1. De Prinzip vun der Vakuum-Ionenbeschichtungstechnologie
Mat Hëllef vun der Vakuum-Boguntladungstechnologie an enger Vakuumkammer gëtt Bougeliicht op der Uewerfläch vum Kathodmaterial generéiert, wouduerch Atomer an Ionen um Kathodmaterial geformt ginn. Ënnert der Wierkung vum elektresche Feld bombardéieren d'Atom- an d'Ionenstralen d'Uewerfläch vum Werkstéck als Anod mat héijer Geschwindegkeet. Gläichzäiteg gëtt e Reaktiounsgas an d'Vakuumkammer agefouert, an eng Beschichtungsschicht mat exzellenten Eegeschafte gëtt op der Uewerfläch vum Werkstéck geformt.
2. Charakteristike vun der Vakuumionenbeschichtung
(1) Gudde Haftung vun der Beschichtungsschicht, d'Filmeschicht fällt net einfach of.
(2) Gudde Wrap-around-Beschichtung a verbessert Uewerflächenofdeckung.
(3) Gudde Qualitéit vun der Beschichtungsschicht.
(4) Héich Oflagerungsquote a séier Filmbildung.
(5) Grouss Auswiel u passenden Substratmaterialien a Filmmaterialien fir d'Beschichtung
Groussskaleg Multi-Arc Magnetron Anti-Fangerofdrock integréiert Beschichtungsausrüstung
D'Maschinn fir d'Beschichtung vu Magnetron-Sputtering géint Fangerofdréck benotzt eng Kombinatioun vu Magnetron-Sputtering mat mëttlerer Frequenz, Multi-Arc-Ionen- an AF-Technologie, déi wäit verbreet an der Hardwareindustrie, Geschirrhardware, Titan-Edelstahlplacken, Edelstahlspullen a grousser Edelstahlplackeveraarbechtung benotzt gëtt. Si huet eng gutt Haftung, Widderhuelbarkeet, Dicht an Uniformitéit vun der Filmschicht, eng héich Leeschtung an en héije Produktausbezuch.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 07. November 2022