Am Groussen a Ganzen kann CVD grob an zwou Zorten agedeelt ginn: eng ass d'Oflagerung vun enger eenzeger Kristall-epitaxialer Schicht duerch eenzelt Produkt um Substrat, wat eng enk CVD ass; déi aner ass d'Oflagerung vun dënne Schichten um Substrat, dorënner Multiprodukt- a amorph Schichten. Laut ...
Doraus wäerte mir folgendes klären: (1) Dënnschicht-Apparater, Transmittanz, Reflexiounsspektren an d'Faarf vun der entspriechender Bezéiung tëscht, also engem Spektrum vun enger Faarf; am Géigendeel, dës Bezéiung ass "net eenzegaarteg", manifestéiert sech als e Faarfmultispektrum. Dofir ass de Film...
Transmissiouns- a Reflexiounsspektre a Faarwen vun opteschen Dënnschichten sinn zwou Charakteristike vun Dënnschichten, déi gläichzäiteg existéieren. 1. Transmissiouns- a Reflexiounsspektre sinn d'Bezéiung tëscht Reflexioun an Transmittanz vun opteschen Dënnschichten mat der Wellelängt. Et ass c...
D'AF Dënnfilmverdampfungs-Optik-PVD-Vakuumbeschichtungsmaschinn ass entwéckelt fir Dënnfilmbeschichtungen op mobilen Apparater mat Hëllef vum Physical Vapor Deposition (PVD) Prozess opzedroen. De Prozess besteet doran, eng Vakuumëmfeld an enger Beschichtungskammer ze kreéieren, wou fest Materialien verdampft an dann ofgesat ginn...
D'Spigelbeschichtungsmaschinn fir Aluminium-Sëlwer-Vakuum huet d'Spigelbeschichtungsindustrie mat hirer fortgeschratt Technologie a Präzisiounsingenieurwesen revolutionéiert. Dës modern Maschinn ass entwéckelt fir eng dënn Beschichtung vun Aluminium-Sëlwer op d'Uewerfläch vum Glas opzedroen, wouduerch héichqualitativ...
Den optesche Vakuummetallisateur ass eng modern Technologie, déi d'Uewerflächenbeschichtungsindustrie revolutionéiert huet. Dës fortgeschratt Maschinn benotzt e Prozess genannt optesch Vakuummetallisatioun fir eng dënn Metallschicht op eng Vielfalt vu Substrater opzedroen, wouduerch eng héichreflektiv an haltbar Uewerfläch entsteet...
Déi meescht chemesch Elementer kënne verdampft ginn, andeems se mat chemesche Gruppe kombinéiert ginn, z.B. Si reagéiert mat H fir SiH4 ze bilden, an Al verbënnt sech mat CH3 fir Al(CH3) ze bilden. Am thermesche CVD-Prozess absorbéieren déi uewe genannte Gase eng gewëssen Quantitéit un thermescher Energie, wa se duerch dat erhëtzt Substrat passéieren, a bilden nei ...
Chemesch Dampfoflagerung (CVD). Wéi den Numm et scho seet, ass et eng Technik, déi gasfërmeg Virleeferreaktanten benotzt fir fest Filmer duerch atomar an intermolekular chemesch Reaktiounen ze generéieren. Am Géigesaz zu PVD gëtt de CVD-Prozess meeschtens an enger Ëmfeld mat méi héijem Drock (méi nidderegem Vakuum) duerchgefouert, mat...
3. Afloss vun der Substrattemperatur D'Substrattemperatur ass eng vun de wichtege Konditioune fir de Membranwuesstum. Si liwwert zousätzlech Energie fir d'Membranatome oder -moleküle a beaflosst haaptsächlech d'Membranstruktur, den Agglutinatiounskoeffizient, den Expansiounskoeffizient an d'Aggregatioun...
D'Hierstellung vun opteschen Dënnfilm-Apparater gëtt an enger Vakuumkammer duerchgefouert, an d'Wuesstum vun der Filmschicht ass e mikroskopesche Prozess. Wéi och ëmmer, am Moment sinn déi makroskopesch Prozesser, déi direkt kontrolléiert kënne ginn, e puer makroskopesch Faktoren, déi en indirekten Zesummenhang mat der Qualitéit hunn...
De Prozess fir fest Materialien an engem Héichvakuumëmfeld ze erhëtzen, fir se ze subliméieren oder ze verdampfen an se op engem spezifesche Substrat ofzesetzen, fir eng dënn Schicht ze kréien, ass bekannt als Vakuumverdampfungsbeschichtung (och als Verdampfungsbeschichtung bezeechent). D'Geschicht vun der Virbereedung vun dënne Schichten duerch Vakuumverdampfung...
Indium-Zinn-Oxid (Indium-Zinn-Oxid, och bekannt als ITO) ass e staark dotiéiert n-Typ Hallefleedermaterial mat breeder Bandlück, mat héijer siichtbarer Liichttransmissioun a gerénger Widderstandscharakteristik, a gëtt dofir wäit verbreet a Solarzellen, Flachbildschirmer, elektrochromesche Fënsteren, anorganeschen an organesche Materialien benotzt...
Laboratoire Vakuum-Spinbeschichtungsmaschinne si wichteg Instrumenter am Beräich vun der Dënnschichtoflagerung an der Uewerflächenmodifikatioun. Dës fortgeschratt Ausrüstung ass entwéckelt fir dënnschichten aus verschiddene Materialien präzis an gläichméisseg op Substrater opzedroen. De Prozess ëmfaasst d'Applikatioun vun enger flësseger Léisung oder Suspension...
Et ginn zwou Haaptmethoden vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung, eng ass dynamesch Hybrid; déi aner ass statesch Hybrid. Déi éischt bezitt sech op de Film, deen am Wuesstumsprozess ëmmer vun enger bestëmmter Energie a Stralstroum vum Ionenbombardement a Film begleet gëtt; déi zweet gëtt op der Uewerfläch vum ...
① D'Technologie vun der Ionenstrahl-assistéierter Oflagerung zeechent sech duerch eng staark Haftung tëscht dem Film an dem Substrat, wouduerch d'Filmieschicht ganz staark ass. Experimenter hunn gewisen, datt: d'Haftung duerch d'Ionenstrahl-assistéiert Oflagerung e puermol méi héich ass wéi d'Haftung duerch d'thermesch Gasoflagerung, bis zu honnert Mol ...