Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
eenzelt_banner

Charakteristike vun der elektrescher Leetfäegkeet vu Metalldënnschichten

Artikelquell: Zhenhua Vakuum
Liesen: 10
Verëffentlecht: 23-08-11

Déi elektronesch Eegeschafte vun Dënnschichten ënnerscheede sech däitlech vun deene vu Bulkmaterialien, an e puer physikalesch Effekter, déi op Dënnschichten ze gesi sinn, sinn schwéier op Bulkmaterialien ze fannen.

 RCX1100

Bei Massemetaller hëlt de Widderstand duerch en Temperaturofgang of. Bei héijen Temperaturen hëlt de Widderstand nëmmen eemol mat der Temperatur of, während bei niddregen Temperaturen de Widderstand fënneffach mat der Temperatur ofhëlt. Bei dënnen Schichten ass et awer komplett anescht. Op der enger Säit ass de Widderstand vun dënnen Schichten méi héich wéi dee vu Massemetaller, an op der anerer Säit hëlt de Widderstand vun dënnen Schichten méi séier of wéi dee vu Massemetaller nodeems d'Temperatur erofgaang ass. Dëst läit dorun, datt am Fall vun dënnen Schichten de Bäitrag vun der Uewerflächenstreuung zum Widderstand méi grouss ass.

 

Eng aner Manifestatioun vun enger anormaler Dënnschichtleitfäegkeet ass den Afloss vum Magnéitfeld op den Dënnschichtwidderstand. De Widderstand vun engem Dënnschicht ënner der Aktioun vun engem externen Magnéitfeld ass méi grouss wéi dee vun engem blockähnleche Material. De Grond dofir ass, datt wann de Film sech laanscht d'Spiralbunn no vir beweegt, soulaang de Radius vu senger Spirallinn méi grouss ass wéi d'Déckt vum Film, Elektronen sech op der Uewerfläch während dem Bewegungsprozess streien, wat zu engem zousätzleche Widderstand féiert, wat dozou féiert, datt de Widderstand vum Film méi grouss ass wéi dee vum blockähnleche Material. Gläichzäiteg ass en och méi grouss wéi de Widderstand vum Film ouni d'Aktioun vun engem Magnéitfeld. Dës Ofhängegkeet vum Filmwidderstand vum Magnéitfeld gëtt Magnetoresistenzeffekt genannt, deen normalerweis benotzt gëtt fir d'Magnéitfeldstäerkt ze moossen. Zum Beispill a-Si, CulnSe2, a CaSe Dënnschichtsolarzellen, souwéi Al203 CeO, CuS, CoO2, CO3O4, CuO, MgF2, SiO, TiO2, ZnS, ZrO, etc.


Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 11. August 2023