1. Principium technologiae obductionis ionum vacuorum
Technologia arcus vacui in camera vacui adhibita, lumen arcus in superficie materiae cathodicae generatur, quo atomos et iones in materia cathodica formari possunt. Sub actione campi electrici, fasciculi atomorum et ionum superficiem materiae, quasi anodum, magna celeritate percutiunt. Simul, gas reactionis in cameram vacui introducitur, et stratum obducens proprietatibus excellentibus in superficie materiae formatur.
2. Characteres obductionis ionum vacuorum
(1) Bona adhaesio strati obducentis, stratum pelliculae non facile decidit.
(2) Bonum involucrum tegumentum et melior superficies tegens.
(3) Bona qualitas strati tegumenti.
(4) Alta depositionis celeritas et celeris pelliculae formatio.
(5) Ampla varietas materiarum substrati et materiarum pellicularum ad obducendum idonearum
Magnae scalae multi-arcus magnetron anti-digitorum integratae obductionis apparatus
Machina ad materiam cathodicam applicandam, quae contra vestigia digitorum magnetronis sputtering adhibet, combinationem technologiae cathodicae mediae frequentiae, ionum multi-arcus, et AF adhibet, quae late in industria ferramentaria, ferramenta mensalia, lamina titanii chalybis inoxidabilis, lavacro chalybis inoxidabilis, et processu magnarum laminarum chalybis inoxidabilis adhibetur. Adhaesionem bonam, repetibilitatem, densitatem, et uniformitatem strati pelliculae, magnum rendimentum, et magnum reditum producti habet.
Tempus publicationis: VII Kalendas Decembres, anno MMXXII