Latissime loquendo, CVD in duas species fere dividi potest: una est depositio vaporis unius producti in substrato strati epitaxialis monocrystallini, quae stricte CVD appellatur; altera est depositio pellicularum tenuium in substrato, inter quas pelliculae multiproductae et amorphae. Secundum...
Ex hoc mox elucidabimus: (1) instrumenta pelliculae tenuis, transmittantia, spectra reflectantiae et colorem relationis correspondentis inter se, id est, spectrum coloris; contra, haec relatio "non est unica", manifestata ut multi-spectrum coloris. Ergo, pellicula...
Spectra transmissionis et reflectantiae et colores pellicularum opticarum tenuium duae sunt proprietates instrumentorum pellicularum tenuium quae simul existunt. 1. Spectra transmissionis et reflectantiae est relatio inter reflectantiam et transmittantiam instrumentorum pellicularum opticarum tenuium cum longitudine undae. Est c...
Machina AF Tenuis Pelliculae Evaporationis Opticae PVD ad obductionem vacui applicandam destinata est ad obductionem tenuem pellicularum machinis mobilibus applicandam utens processu Depositionis Vaporis Physicae (PVD). Processus implicat creationem ambitus vacui intra cameram obductionis ubi materiae solidae evaporantur et deinde deponuntur...
Machina ad specula fabricanda, quae aluminii argento obducuntur in vacuo, industriam fabricationis speculorum per technologiam provectam et artem praecisionis revolutionavit. Haec machina modernissima destinata est ad tenuem stratum aluminii argento superficiei vitri applicandum, ita ut specula summae qualitatis...
Metallizator opticus vacuus est technologia modernissima quae industriam superficierum tegendarum revolutionavit. Haec machina provecta processum, qui "metallizatio optica vacuus" appellatur, adhibet ad tenuem metalli stratum variis substratis applicandum, superficiem valde reflectentem et durabilem creans...
Pleraque elementa chemica vaporizari possunt per combinationem cum gregibus chemicis, exempli gratia Si cum H reagit ad SiH4 formandum, et Al cum CH3 coniungitur ad Al(CH3) formandum. In processu CVD thermali, gases supradicti certam energiae thermalis quantitatem absorbent dum per substratum calefactum transeunt et re...
Depositio Vaporis Chemici (DVC). Ut nomen indicat, est ars quae reactantibus praecursoribus gasosis utitur ad pelliculas solidas generandas per reactiones chemicas atomicas et intermoleculares. Dissimilis DVC, processus DVC plerumque perficitur in ambitu pressionis altioris (vacui inferioris), cum...
3. Influentia temperaturae substrati Temperatura substrati est una ex condicionibus magni momenti ad incrementum membranae. Supplementum energiae additum atomis vel moleculis membranae praebet, et imprimis structuram membranae, coefficientem agglutinationis, coefficientem expansionis et aggregationem afficit...
Fabricatio instrumentorum pelliculae tenuis opticae in camera vacuo perficitur, et incrementum pelliculae processus microscopicus est. Attamen, hodie, processus macroscopici qui directe regi possunt sunt quidam factores macroscopici qui relationem indirectam cum qualitate habent...
Processus calefactionis materiarum solidarum in alto vacuo ad sublimandum vel evaporandum et deponendum in substrato specifico ad pelliculam tenuem obtinendam, "vacuum evaporation coating" (quod "evaporation coating" appellatur) appellatur. Historia praeparationis pellicularum tenuium per evaporationem vacuum...
Indii stanneum oxidum (ITO appellatum) est materia semiconductoria generis n, latae zonae hiatus, valde dopata, cum alta transmittantia lucis visibilis et humilis resistentiae characteristicis, et ideo late adhibetur in cellulis solaribus, ostentationibus planis, fenestris electrochromicis, inorganicis et organicis...
Machinae rotatoriae in laboratorio ad depositionem pellicularum tenuium et modificationem superficiei destinatae sunt. Haec machina provectior ad accurate et aequaliter applicandas pelliculas tenues variarum materiarum ad substrata destinatur. Processus applicationem solutionis liquidae vel ...
Duo modi praecipui depositionis fasciculo ionico adiuvatae sunt: unus hybridus dynamicus, alter hybridus staticus. Prior ad pelliculam in processu accretionis semper comitandam est energia quadam et currente fasciculi bombardamenti ionici et pelliculae; posterior autem praedeponitur in superficie...
① Technologia depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesione valida inter pelliculam et substratum insignitur, stratum pelliculae valde validum esse. Experimenta demonstraverunt: adhaesionem depositionis adiuvatae fasciculo ionico adhaesionem depositionis vaporis thermalis pluries ad centena auctam...