Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
vexillo_paginae

Nuntii

  • Quomodo eligendum est praebitor instrumentorum ad obducendum vacuum

    Quomodo eligendum est praebitor instrumentorum ad obducendum vacuum

    In praesenti, numerus fabricatorum domesticorum instrumentorum ad vacuum applicandum crescit, centum sunt domesticae et multae externae nationes, quomodo igitur idoneum praebitorem inter tot marcas eligas? Quomodo tibi aptum fabricatorem instrumentorum ad vacuum applicandum eligas? Hoc pendet a...
    Plura lege
  • Differentia inter obductionem vacue et obductionem humidam

    Differentia inter obductionem vacue et obductionem humidam

    Obductio sub vacuo prae obductione humida manifesta commoda habet. 1. Ampla selectio materiarum pellicularum et substrati, crassitudo pelliculae regi potest ad pelliculas functionales variis functionibus praeparandas. 2. Pellicula sub vacuo praeparatur, ambiente mundo et pellicula...
    Plura lege
  • Munus et optimizatio effectuum obductionum instrumentorum secantium

    Munus et optimizatio effectuum obductionum instrumentorum secantium

    Tegumenta instrumentorum secantium proprietates frictionis et attritionis instrumentorum secantium augent, quam ob rem in operationibus secandis necessaria sunt. Per multos annos, provisores technologiae tractationis superficierum solutiones tegumentorum personalizatas excogitaverunt ad resistentiam attritionis instrumentorum secantium, efficaciam machinationis...
    Plura lege
  • Technologia tegendi rotarum dentatarum

    Technologia tegendi rotarum dentatarum

    Technologia depositionis PVD iam multis annis ut nova technologia modificationis superficiei in usu est, praesertim technologia obductionis ionum vacuorum, quae magnum progressum annis proximis consecuta est et nunc late in tractatione instrumentorum, formarum, anulorum pistonum, rotarum dentatarum et aliorum partium adhibetur. ...
    Plura lege
  • Status applicationis hodiernae obductionis semiconductorum vacuorum

    Status applicationis hodiernae obductionis semiconductorum vacuorum

    Ut omnes scimus, definitio semiconductoris est eam habere conductivitatem inter conductores siccos et insulatores, resistivitatem inter metallum et insulatorem, quae plerumque temperatura ambiente est intra limites 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm. Recentibus annis, obductio semiconductoris vacui in praecipuis semi...
    Plura lege
  • Modi operandi communes systematis vacui machinae evaporationis ad obducendum

    Modi operandi communes systematis vacui machinae evaporationis ad obducendum

    Machina ad vaporationem infundendam sub vacuo requisita severa habet ad operationem variorum systematum vacui, processum initii et cessationis, tutelam a pollutione cum vitium oritur, etc., et proceduris operandi obtemperare debet. 1. Antliae mechanicae, quae tantum usque ad 15Pa~20Pa vel altum... pumpare possunt.
    Plura lege
  • Proprietates technicae apparatus ad pulverizationem cathodicam magnetronis vacui applicandam

    Proprietates technicae apparatus ad pulverizationem cathodicam magnetronis vacui applicandam

    Pulverizatio magnetronica vacui aptissima est ad obductiones depositionis reactivae. Re vera, hoc processus potest deponere pelliculas tenues cuiuslibet materiae oxidi, carburi, et nitridi. Praeterea, processus etiam aptissimus est ad depositionem structurarum pellicularum multistratarum, inter quas opticae...
    Plura lege
  • Methodi incipiendi et suggestiones pro antliis valvularum cursoriarum in locis frigidis

    Methodi incipiendi et suggestiones pro antliis valvularum cursoriarum in locis frigidis

    Hieme, multi usores dixerunt antliam difficilem esse ad incipiendum et alia problemata habere. Sequuntur modi et suggestiones ad antliam incipiendam. Praeparatio ante incipiendum. 1) Strinctionem cinguli inspice. Laxius esse potest ante incipiendum, clavos post incipiendum adapta, et eos lente stringe...
    Plura lege
  • Communis defectus partium substitutarum antliae vacui

    Communis defectus partium substitutarum antliae vacui

    I. Accessiones antliae vacui ut sequitur. 1. Filtrum nebulae olei (alias: separator nebulae olei, filtrum exhaustum, elementum filtrationis exhaustum) Separator nebulae olei antliae vacui sub actione vis impulsivae, in uno latere mixturae olei et gasi per separatorem nebulae olei antliae vacui chartam filtrationis collocatur...
    Plura lege
  • Quod est principium technicum apparatus cathodi cavi duri obductionis?

    Quod est principium technicum apparatus cathodi cavi duri obductionis?

    Obductio ionica significat reactantes vel materias evaporatas in substrato deponi per bombardamentum ionico ionum gasicorum vel materiarum evaporatarum, dum materiae evaporatae dissociantur vel gas emittuntur in camera vacui. Principium technicum apparatus obductionis durae cathodi cavi...
    Plura lege
  • Munus variarum antliarum vacui in systemate vacui

    Munus variarum antliarum vacui in systemate vacui

    Praeter facultatem vacuum in cameram immittendi, alias differentias in effectu variarum antliarum vacui habet. Quapropter, magni momenti est eligere opus quod antlia in systemate vacui suscipit, et munus quod antlia in variis campis laboris sustinet, summatim describitur...
    Plura lege
  • Introductio ad Technologiam DLC

    Introductio ad Technologiam DLC

    Technologia DLC "DLC est abbreviatio vocabuli 'DIAMOND-LIKE CARBON', substantia ex elementis carbonis composita, natura similis adamante, et structuram atomorum graphiti habens. Carbonium Adamantinum (DLC) est pellicula amorpha quae attentionem tri... attraxit.
    Plura lege
  • Quomodo tibi aptam notam obducens eligas

    Quomodo tibi aptam notam obducens eligas

    Cum continua diversificationis mercatus postulatione crescat, multis societatibus necesse est varias machinas et apparatum secundum processus productorum suorum emere. Pro industria obductionis vacui, si machina a praeobductione ad postobductionem perfici potest, nulla interventio manualis in...
    Plura lege
  • Quae sunt causae quae veneficium scoporum in magnetron sputtering afficiunt?

    Quae sunt causae quae veneficium scoporum in magnetron sputtering afficiunt?

    1, Formatio compositorum metallicorum in superficie scopi Ubi compositum formatur in processu formationis compositi ex superficie metallica scopi per processum pulverisationis reactivae? Cum reactio chemica inter particulas gasis reactivas et atomos superficiei scopi atomos compositi producit...
    Plura lege
  • Usus antliarum mechanicarum in machinis ad obductionem in vacuo

    Usus antliarum mechanicarum in machinis ad obductionem in vacuo

    Antlia mechanica, etiam antlia prae-gradi appellata, est una ex antliis vacui humilis latissime adhibitis, quae oleo utitur ad effectum obturationis conservandum et methodis mechanicis innititur ad volumen cavitatis suctionis in antlia continuo mutandum, ita ut volumen gasis in continente pumpato...
    Plura lege