Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Technologia depositionis vaporis chemici plasmatis aucti arcu filorum calidorum
Technologia depositionis vaporis chemici plasmatis aucti arcu filorum calidorum utitur sclopeto arcus filorum calidorum ad plasmam arcus emittendum, abbreviato ut technologia PECVD arcus filorum calidorum. Haec technologia similis est technologiae obductionis ionum sclopeti arcus filorum calidorum, sed differentia est quod pellicula solida per arcum filorum obtenta...Plura lege -
Introductio ad Technicas Conventionales ad Deponendas Tegumenta Dura
1. Technologia CVD thermica Obductio dura plerumque est obductio metallo-ceramica (TiN, etc.), quae per reactionem metalli in obductione et gasificationem reactivam formantur. Primo, technologia CVD thermica adhibita est ad energiam activationis reactionis combinationis per energiam thermalem ad ... praebendam.Plura lege -
Quid est obductio resistentiae evaporationis fontis?
Obductio fontis evaporationis resistentiae est methodus fundamentalis obductionis evaporationis vacui. "Evaporatio" significat methodum praeparationis pelliculae tenuis in qua materia obductionis in camera vacui calefacta et evaporatur, ita ut atomi vel moleculae materiae vaporentur et effugiantur ex...Plura lege -
Introductio ad Technologiam Depositionis Ionicae Arcus Cathodici
Technologia obductionis ionum arcus cathodici technologiam exonerationis arcus campi frigidi adhibet. Prima applicatio technologiae exonerationis arcus campi frigidi in campo obductionis a Societate Multi Arc in Civitatibus Foederatis Americae facta est. Nomen Anglicum huius processus est arc ionplating (AIP). Obductio ionum arcus cathodici...Plura lege -
Applicatio Pelliculae Tenuis Opticae in Industria Vitrorum Obductorum
Multae sunt species substratorum pro vitris et lentibus, ut CR39, PC (polycarbonatum), 1.53 Trivex156, plastica indicis refractionis medii, vitrum, etc. Pro lentibus correctivis, transmittantia lentium tam resinae quam vitrearum tantum circiter 91% est, et pars lucis a duobus reflectitur...Plura lege -
Proprietates machinae ad obducendum in vacuo
1. Pellicula obductionis vacuo tenuissima est (plerumque 0.01-0.1 µm) | 2. Obductio vacuo multis materiis plasticis adhiberi potest, ut ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, etc. 3. Temperatura formationis pelliculae humilis est. In industria ferri et chalybis, temperatura obductionis galvanizationis calidae plerumque inter 400 ℃ et... est.Plura lege -
Introductio ad technologiam tenuium pellicularum solarium photovoltaicorum
Post inventionem effectus photovoltaici in Europa anno 1863, Civitates Foederatae Americae primam cellam photovoltaicam cum (Se) anno 1883 fabricaverunt. Initio, cellulae photovoltaicae imprimis in aëroplanis, rebus militaribus aliisque utebantur. Per viginti annos proximos, magna imminutio pretii photovoltaicae...Plura lege -
Fluxus Processus Machinae Sputtering Coating
1. Substratum purgans per bombardamentum 1.1) Machina ad pulverizandum utitur emissione luminescenti ad substratum purgandum. Hoc est, gas argon in cameram immittitur, tensio emissionis est circa 1000V. Postquam fons potentiae accensus est, emissione luminescenti generatur, et substratum purgatur per...Plura lege -
Usus pelliculae opticae in telephoniis mobilibus
Usus tenuium pellicularum opticarum in instrumentis electronicis usui destinatis, ut telephoniis mobilibus, a lentibus camerarum traditis ad alias directiones, ut puta lentibus camerarum, protectoribus lentium, filtris infrarubris sectoriis (IR-CUT), et obductione NCVM in tegumentis accumulatorum telephonorum cellularium, translatus est. Speculae camerarum...Plura lege -
Proprietates apparatus ad CVD applicandum
Technologia obductionis CVD has habet proprietates: 1. Modus operandi apparatus CVD relative simplex et flexibilis est, et pelliculas simplices vel compositas et pelliculas mixturarum metallorum cum diversis proportionibus parare potest; 2. Obductio CVD latam applicationum varietatem habet, et ad prae...Plura lege -
Quae sunt processus machinae ad obducendum in vacuo? Quod est principium operationis?
Processus machinae obductionis vacui dividitur in: obductionem evaporationis vacui, obductionem pulveris catodici vacui, et obductionem ionum vacui. 1. Obductio evaporationis vacui: Sub condicione vacui, materia evaporat, ut metallum, mixtura metallica, etc., deinde deponitur in superficie substrati...Plura lege -
Ad quid servit machina vacuum spirandi?
1. Quid est processus obductionis vacui? Quae est functio? Processus, qui obductionis vacui appellatur, evaporationem et pulverisationem cathodicam in ambitu vacuo utitur ad particulas materiae pelliculae emittendas, quae in metallo, vitro, ceramicis, semiconductoribus et partibus plasticis deponuntur ad stratum obductionis formandum, ad ornandum...Plura lege -
Requisita environmentalia pro apparatu ad obductionem in vacuo
Cum apparatus ad obductionem vacui sub condicionibus vacui operetur, apparatus requisitis vacui pro ambitu satisfacere debet. Normae industriales pro variis generibus apparatuum ad obductionem vacui in patria mea constitutae sunt (inter quas condiciones technicae generales pro apparatu ad obductionem vacui,...Plura lege -
Proprietates et usus depositionis ionicae
Typus pelliculae Materia pelliculae Substratum Proprietates et usus pelliculae Pellicula metallica CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt chalybs, chalybs mollisMixtura titanii, chalybs alto carbonis, chalybs mollisMixtura titanii vitrum durumplasticum Nickel, Inconel chalybs, chalybs inoxidabilis silicium Contra attritionem ...Plura lege -
Obductio ionum vacui et eius classificatio
Depositio ionum vacui (breviter "ion deposition") est nova technologia tractationis superficiei quae celeriter annis 1970 evoluta est, a DM Mattox societatis Somdia in Civitatibus Foederatis Americae anno 1963 proposita. Refert ad processum utendi fonte evaporationis vel scopo pulverisationis ad evaporandum vel pulverizandum...Plura lege
