ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸೌರ ಕೋಶಗಳಿಗೆ ITO (ಇಂಡಿಯಮ್ ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್) ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ

ಇಂಡಿಯಮ್ ಟಿನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (ITO) ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಪಾರದರ್ಶಕ ವಾಹಕ ಆಕ್ಸೈಡ್ (TCO) ಆಗಿದ್ದು ಅದು ಹೆಚ್ಚಿನ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಪಾರದರ್ಶಕತೆ ಎರಡನ್ನೂ ಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಸಿಲಿಕಾನ್ (c-Si) ಸೌರ ಕೋಶಗಳಲ್ಲಿ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಇದು ಪಾರದರ್ಶಕ ವಿದ್ಯುದ್ವಾರ ಅಥವಾ ಸಂಪರ್ಕ ಪದರವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಮೂಲಕ ಶಕ್ತಿ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರ ವಹಿಸುತ್ತದೆ.

ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸೌರ ಕೋಶಗಳಲ್ಲಿ, ITO ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಮುಂಭಾಗದ ಸಂಪರ್ಕ ಪದರವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ವಾಹಕಗಳನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಲು ಮತ್ತು ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಬೆಳಕನ್ನು ಸಕ್ರಿಯ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರಕ್ಕೆ ಹಾದುಹೋಗಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಈ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಗಮನಾರ್ಹ ಗಮನವನ್ನು ಗಳಿಸಿದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹೆಟೆರೊಜಂಕ್ಷನ್ (HJT) ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಕ್-ಕಾಂಟ್ಯಾಕ್ಟ್ ಸೌರ ಕೋಶಗಳಂತಹ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಕ್ಷತೆಯ ಕೋಶ ಪ್ರಕಾರಗಳಿಗೆ.

ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸೌರ ಕೋಶಗಳಿಗೆ ITO ಲೇಪನದ ಪ್ರಯೋಜನಗಳು
ಹೆಚ್ಚಿನ ಪಾರದರ್ಶಕತೆ:

ITO ಗೋಚರ ಬೆಳಕಿನ ವರ್ಣಪಟಲದಲ್ಲಿ (ಸುಮಾರು 85-90%) ಹೆಚ್ಚಿನ ಪಾರದರ್ಶಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು ಆಧಾರವಾಗಿರುವ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರದಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಬೆಳಕನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವುದನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ, ಶಕ್ತಿ ಪರಿವರ್ತನೆ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.
ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತಿರೋಧಕತೆ:

ITO ಉತ್ತಮ ವಿದ್ಯುತ್ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ಸಿಲಿಕಾನ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ದಕ್ಷ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸಂಗ್ರಹವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ. ಇದರ ಕಡಿಮೆ ಪ್ರತಿರೋಧಕತೆಯು ಮುಂಭಾಗದ ಸಂಪರ್ಕ ಪದರದಿಂದಾಗಿ ಕನಿಷ್ಠ ವಿದ್ಯುತ್ ನಷ್ಟವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

ರಾಸಾಯನಿಕ ಮತ್ತು ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ:

ITO ಲೇಪನಗಳು ತುಕ್ಕು ಹಿಡಿಯುವಂತಹ ಪರಿಸರ ನಾಶಕ್ಕೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು UV ಮಾನ್ಯತೆಯ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಕಠಿಣ ಹೊರಾಂಗಣ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ತಡೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕಾದ ಸೌರ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಇದು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ.
ಮೇಲ್ಮೈ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯತೆ:

ITO ಸಿಲಿಕಾನ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ನಿಷ್ಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಮೇಲ್ಮೈ ಮರುಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸೌರ ಕೋಶದ ಒಟ್ಟಾರೆ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.