კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
ინდუსტრიის სიახლეები
-
ნანო კერამიკული ვაკუუმური საფარის მანქანა
ნანოკერამიკული ვაკუუმური საფარის აპარატი წარმოადგენს ულტრათანამედროვე ტექნოლოგიას, რომელიც იყენებს ვაკუუმური დეპონირების პროცესს კერამიკული მასალების თხელი ფენების სხვადასხვა სუბსტრატზე დასაფენად. საფარის ეს მოწინავე მეთოდი მრავალ უპირატესობას გვთავაზობს, მათ შორის გაზრდილ სიმტკიცეს, გაუმჯობესებულ თერმულ სტაბილურობას და უმაღლეს...დაწვრილებით -
რამდენიმე გავრცელებული სამიზნე მასალა
1. ქრომის სამიზნე ქრომი, როგორც გაფრქვევის აპკის მასალა, არა მხოლოდ ადვილად ერწყმის სუბსტრატს მაღალი ადჰეზიით, არამედ ქრომისა და ოქსიდის მეშვეობით წარმოიქმნება CrO3 აპკი, მისი მექანიკური თვისებები, მჟავასადმი მდგრადობა და თერმული სტაბილურობა უკეთესია. გარდა ამისა, ქრომი არასრულ დაჟანგვაში...დაწვრილებით -
იონური სხივის დახმარებით დალექვის ტექნოლოგია
1. იონური სხივური დეპონირების ტექნოლოგია ხასიათდება მემბრანასა და სუბსტრატს შორის ძლიერი ადჰეზიით, მემბრანის ფენა ძალიან მტკიცეა. ექსპერიმენტები აჩვენებს, რომ: იონური სხივური დეპონირების ადჰეზია რამდენჯერმე გაიზარდა ასჯერ, ვიდრე თერმული ორთქლის დეპონირების ადჰეზია...დაწვრილებით -
რეაქტიული გაფრქვევის საფარის მახასიათებლები და გამოყენება
გაფრქვევით საფარის პროცესში, ნაერთების გამოყენება შესაძლებელია ქიმიურად სინთეზირებული ფირების მოსამზადებლად სამიზნეებად. თუმცა, სამიზნე მასალის გაფრქვევის შემდეგ წარმოქმნილი ფირის შემადგენლობა ხშირად მნიშვნელოვნად განსხვავდება სამიზნე მასალის თავდაპირველი შემადგენლობისგან და შესაბამისად...დაწვრილებით -
ლითონის ფირის რეზისტორის ტემპერატურის კოეფიციენტის მახასიათებლები
ლითონის ფირის წინააღმდეგობის ტემპერატურის კოეფიციენტი ფირის სისქესთან ერთად იცვლება, თხელი ფირები უარყოფითია, სქელი ფირები დადებითია, ხოლო სქელი ფირები მსგავსია, მაგრამ არა იდენტური მოცულობითი მასალებისა. ზოგადად, წინააღმდეგობის ტემპერატურის კოეფიციენტი უარყოფითიდან p...-მდე იცვლება.დაწვრილებით -
იონური საფარის მახასიათებლები და გამოყენება თავი 2
③ საფარის მაღალი ხარისხი იონური დაბომბვით შესაძლებელია მემბრანის სიმკვრივის გაუმჯობესება, მემბრანის ორგანიზაციული სტრუქტურის გაუმჯობესება, რაც მემბრანის ფენის ერთგვაროვნებას კარგს ხდის, მკვრივი მოოქროვილი ორგანიზაციას, ნაკლებ ნახვრეტებსა და ბუშტუკებს, რითაც მემბრანის ხარისხის გაუმჯობესება...დაწვრილებით -
იონური საფარის მახასიათებლები და გამოყენება - თავი 1
აორთქლებით და გაფრქვევით დამუშავებასთან შედარებით, იონური დამუშავების ყველაზე მნიშვნელოვანი მახასიათებელი ის არის, რომ ენერგიული იონები ბომბავენ სუბსტრატს და აპკის ფენას დალექვის დროს. დამუხტული იონების დაბომბვა იწვევს ეფექტების სერიას, ძირითადად შემდეგნაირად. ① მემბრანა / ფუძე...დაწვრილებით -
ფერადი ფირის სპეციალური მაგნიტური კონტროლის საფარის მოწყობილობა
ფერადი ფირის სპეციალური მაგნეტრონული საფარის მოწყობილობა იყენებს მაგნიტური ველის ძალას ფირის სუბსტრატზე საფარის მასალების დალექვის ზუსტად გასაკონტროლებლად. ეს ინოვაციური ტექნოლოგია უზრუნველყოფს უპრეცედენტო ერთგვაროვნებას და თანმიმდევრულობას საფარის პროცესის დროს, რაც იწვევს მაღალი ხარისხის...დაწვრილებით -
Watch Sputtering საფარი მანქანა
საათის გაფრქვევით დაფარვის აპარატი იყენებს ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) პროცესს საათის ნაწილებზე საფარის მასალის თხელი ფენის დასატანად. მეთოდი უზრუნველყოფს შესანიშნავ ადჰეზიას, ერთგვაროვან დაფარვას და საფარის მრავალფეროვან ვარიანტებს, მათ შორის მეტალის, კერამიკის და ალმასის მსგავს ნახშირბადს. შედეგად,...დაწვრილებით -
დაჟანგვისადმი მდგრადი ფირის საფარის მანქანა
დაჟანგვისადმი მდგრადი ფირის საფარის მანქანა წარმოადგენს უახლეს ტექნოლოგიას, რომელიც უზრუნველყოფს დამცავ ფენას დაჟანგვის თავიდან ასაცილებლად და ლითონის კომპონენტების გამძლეობისა და სიცოცხლის ხანგრძლივობის გასაუმჯობესებლად. ეს მანქანა მასალების ზედაპირზე აკრავს თხელი ფირის საფარს, რაც ქმნის ბარიერს კოროზიის წინააღმდეგ...დაწვრილებით -
ინტეგრირებული ნათურის დამცავი ფირის აღჭურვილობა
თანამედროვე განათების მოწყობილობებში მოწინავე ტექნოლოგიების ინტეგრირება მნიშვნელოვნად აუმჯობესებს მათ მუშაობას და ეფექტურობას. თუმცა, ეს ასევე მათ უფრო მგრძნობიარეს ხდის სხვადასხვა გარე ფაქტორებით გამოწვეული დაზიანების მიმართ. ამიტომ, ამ ძვირფასი აქტივების დასაცავად და მათი მომსახურების ვადის მაქსიმიზაციის მიზნით,...დაწვრილებით -
სამიზნის შერჩევა და კლასიფიკაცია
გაფრქვევით საფარის, განსაკუთრებით მაგნეტრონული გაფრქვევით საფარის ტექნოლოგიის მზარდ განვითარებასთან ერთად, ამჟამად, ნებისმიერი მასალისთვის შესაძლებელია იონური დაბომბვის სამიზნე ფირის მომზადება, რადგან სამიზნე იფრქვევა რაიმე სახის სუბსტრატზე დაფარვის პროცესში, გაზომვის ხარისხი...დაწვრილებით -
უჟანგავი ფოლადის პლაზმური საფარის მანქანა
ბოლო დროს უჟანგავი ფოლადის პროდუქტებზე მოთხოვნა იზრდება მისი მაღალი კოროზიისადმი მდგრადობისა და თანამედროვე ესთეტიკური მიმზიდველობის გამო. შედეგად, მწარმოებლები მუდმივად ეძებენ უჟანგავი ფოლადის საფარის ახალ და გაუმჯობესებულ მეთოდებს, რათა დააკმაყოფილონ მზარდი ბაზრის მოთხოვნები. სწორედ ეს...დაწვრილებით -
ონკანის ოქროს ვაკუუმური საფარის მანქანა
წამყვანი ოქროს ვაკუუმური საფარის აპარატის გამოშვება ზედაპირის საფარის ტექნოლოგიის სფეროში მნიშვნელოვანი მიღწევაა. ტრადიციულად, ოქროს საფარის გამოყენება რთული და ძვირადღირებული პროცესია, რომელიც სპეციალიზებულ აღჭურვილობას და კვალიფიციურ ტექნიკოსებს მოითხოვს. თუმცა, ეს ახალი მანქანა გვპირდება...დაწვრილებით -
ფენის ფორმირებაზე მოქმედი ფაქტორები თავი 2
(4) სამიზნე მასალა. სამიზნე მასალა, ზოგადად, გაფრქვევით საფარის გასაღებია, სანამ სამიზნე მასალა აკმაყოფილებს მოთხოვნებს და ფირის ფენის მისაღებად შეიძლება საჭირო გახდეს პროცესის პარამეტრების მკაცრი კონტროლი. სამიზნე მასალაში არსებული მინარევები და ზედაპირული ოქსიდები და სხვა უწმინდური ნივთიერებები...დაწვრილებით
