Apa itu teknologi pelapisan ion vakum?

1、Prinsip teknologi pelapisan ion vakum
Dengan menggunakan teknologi pelepasan busur vakum dalam ruang vakum, cahaya busur dihasilkan pada permukaan material katode, yang menyebabkan atom dan ion terbentuk pada material katode. Di bawah aksi medan listrik, berkas atom dan ion membombardir permukaan benda kerja sebagai anoda dengan kecepatan tinggi. Pada saat yang sama, gas reaksi dimasukkan ke dalam ruang vakum, dan lapisan pelapis dengan sifat yang sangat baik terbentuk pada permukaan benda kerja.

2、Karakteristik pelapisan ion vakum
(1) Daya rekat lapisan pelapis yang baik, lapisan film tidak mudah terkelupas.
(2)Pelapisan yang melingkar dengan baik dan cakupan permukaan yang lebih baik.
(3) Kualitas lapisan pelapis baik.
(4) Tingkat deposisi tinggi dan pembentukan film cepat.
(5)Berbagai macam bahan substrat dan bahan film yang cocok untuk pelapisan

Peralatan pelapis anti sidik jari terintegrasi magnetron multi-busur skala besar

Mesin pelapis sputtering magnetron anti sidik jari mengadopsi kombinasi sputtering magnetron frekuensi sedang, ion multi-busur dan teknologi AF, yang banyak digunakan dalam industri perangkat keras, perangkat keras peralatan makan, pelat baja tahan karat titanium, bak cuci baja tahan karat dan pemrosesan pelat baja tahan karat besar. Memiliki daya rekat, pengulangan, kepadatan dan keseragaman lapisan film yang baik, output tinggi dan hasil produk tinggi.