1. Վակուումային իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիայի սկզբունքը
Վակուումային խցիկում վակուումային աղեղային պարպման տեխնոլոգիայի կիրառմամբ, կաթոդային նյութի մակերեսին առաջանում է աղեղային լույս, որը կաթոդային նյութի վրա առաջացնում է ատոմներ և իոններ: Էլեկտրական դաշտի ազդեցության տակ ատոմային և իոնային փնջերը մեծ արագությամբ ռմբակոծում են նախապատրաստվածքի մակերեսը՝ որպես անոդ: Միաժամանակ, վակուումային խցիկ է ներմուծվում ռեակցիայի գազ, և նախապատրաստվածքի մակերեսին ձևավորվում է գերազանց հատկություններով ծածկույթային շերտ:
2. Վակուումային իոնային ծածկույթի բնութագրերը
(1) Ծածկույթի շերտի լավ կպչունություն, թաղանթի շերտը հեշտ չէ ընկնել։
(2) Լավ փաթեթավորում ծածկույթի շուրջ և բարելավված մակերեսային ծածկույթ:
(3) Ծածկույթի շերտի լավ որակ։
(4) Բարձր նստվածքի արագություն և արագ թաղանթի ձևավորում։
(5) Ծածկույթի համար հարմար հիմքային նյութերի և թաղանթային նյութերի լայն տեսականի
Մեծածավալ բազմաաղեղային մագնետրոնային մատնահետքերի դեմ ինտեգրված ծածկույթային սարքավորում
Մատնահետքերի դեմ մագնետրոնային փոշիացման ծածկույթի մեքենան կիրառում է միջին հաճախականության մագնետրոնային փոշիացման, բազմաաղեղային իոնային և AF տեխնոլոգիայի համադրություն, որը լայնորեն կիրառվում է շինանյութերի արդյունաբերության, սեղանի պարագաների, տիտանի չժանգոտվող պողպատե թիթեղների, չժանգոտվող պողպատե լվացարանների և խոշոր չժանգոտվող պողպատե թիթեղների մշակման մեջ: Այն ունի լավ կպչունություն, կրկնելիություն, թաղանթի շերտի խտություն և միատարրություն, բարձր արտադրողականություն և բարձր արտադրանքի բերքատվություն:
Հրապարակման ժամանակը. Նոյեմբերի 07-2022