① فیلم ضد انعکاس. به عنوان مثال، دوربینها، پروژکتورهای اسلاید، پروژکتورها، پروژکتورهای فیلم، تلسکوپها، عینکهای دید و فیلمهای تک لایه MgF2 پوشش داده شده روی لنزها و منشورهای ابزارهای نوری مختلف، و فیلمهای ضد انعکاس پهن باند دو لایه یا چند لایه متشکل از SiOFrO2، Al2O3، ...
① کنترلپذیری خوب و تکرارپذیری ضخامت فیلم اینکه آیا ضخامت فیلم را میتوان در یک مقدار از پیش تعیینشده کنترل کرد، کنترلپذیری ضخامت فیلم نامیده میشود. ضخامت فیلم مورد نیاز را میتوان بارها تکرار کرد که به آن تکرارپذیری ضخامت فیلم میگویند. زیرا تخلیه...
فناوری رسوب بخار شیمیایی (CVD) یک فناوری تشکیل لایه است که از گرمایش، بهبود پلاسما، کمک به نور و سایر روشها برای ایجاد مواد گازی استفاده میکند تا از طریق واکنش شیمیایی تحت فشار عادی یا کم، لایههای جامدی روی سطح زیرلایه ایجاد کنند. به طور کلی، واکنش در...
۱. نرخ تبخیر بر خواص پوشش تبخیر شده تأثیر میگذارد. نرخ تبخیر تأثیر زیادی بر فیلم رسوب شده دارد. از آنجا که ساختار پوشش تشکیل شده با نرخ رسوب پایین، سست است و به راحتی رسوب ذرات بزرگ ایجاد میکند، انتخاب نرخ تبخیر بالاتر بسیار ایمنتر است...
تجهیزات پوششدهی در خلاء از قطعات دقیق زیادی تشکیل شده است که از طریق فرآیندهای زیادی مانند جوشکاری، سنگزنی، تراشکاری، صفحهکاری، سوراخکاری، فرزکاری و غیره ساخته میشوند. به دلیل این کارها، سطح قطعات تجهیزات به ناچار با برخی آلایندهها مانند گریس آلوده میشود...
فرآیند پوششدهی در خلاء الزامات سختگیرانهای برای محیط کاربرد دارد. برای فرآیند خلاء مرسوم، الزامات اصلی آن برای بهداشت خلاء عبارتند از: هیچ منبع آلودگی انباشته شدهای روی قطعات یا سطح تجهیزات در خلاء وجود نداشته باشد، سطح محفظه خلاء ...
دستگاه پوشش یونی از نظریهای که توسط دی. ام. متوکس در دهه ۱۹۶۰ ارائه شد، سرچشمه گرفت و آزمایشهای مربوطه در آن زمان آغاز شد؛ تا سال ۱۹۷۱، چمبرز و دیگران فناوری آبکاری یونی پرتو الکترونی را منتشر کردند؛ فناوری آبکاری تبخیر واکنشی (ARE) در بو...
توسعه سریع دستگاههای پوششدهی وکیوم در عصر حاضر، انواع این دستگاهها را غنیتر کرده است. در ادامه، طبقهبندی پوششدهی و صنایعی که دستگاه پوششدهی در آنها کاربرد دارد را فهرست میکنیم. اول از همه، دستگاههای پوششدهی ما را میتوان به تجهیزات پوششدهی تزئینی، تجهیزات پوششدهی الکتریکی و... تقسیم کرد.
اصل کندوپاش مگنترون: الکترونها در فرآیند شتاب گرفتن به سمت زیرلایه تحت عمل میدان الکتریکی با اتمهای آرگون برخورد میکنند و تعداد زیادی از یونهای آرگون و الکترونها را یونیزه میکنند و الکترونها به سمت زیرلایه پرواز میکنند. یون آرگون شتاب میگیرد تا ماده هدف را بمباران کند...
1. دستگاه تمیز کردن پلاسما با خلاء میتواند از تولید گازهای مضر برای بدن انسان در حین تمیز کردن مرطوب جلوگیری کند و از شستن وسایل جلوگیری کند. 2. جسم تمیز شده پس از تمیز کردن پلاسما خشک میشود و بدون عملیات خشک کردن بیشتر، میتواند به فرآیند بعدی ارسال شود که میتواند به پردازش...
پوشش PVD یکی از فناوریهای اصلی برای تهیه مواد لایه نازک است. لایه لایه به سطح محصول بافت فلزی و رنگ غنی میبخشد، مقاومت در برابر سایش و خوردگی را بهبود میبخشد و عمر مفید را افزایش میدهد. کندوپاش و تبخیر در خلاء دو روش اصلی هستند...
در حال حاضر، این صنعت در حال توسعه پوششهای نوری برای کاربردهایی مانند دوربینهای دیجیتال، اسکنرهای بارکد، حسگرهای فیبر نوری و شبکههای ارتباطی و سیستمهای امنیتی بیومتریک است. با رشد بازار به نفع پوششهای نوری پلاستیکی کمهزینه و با کارایی بالا...
شیشههای پوشش داده شده به شیشههای پوشش داده شده تبخیری، پوشش داده شده با مگنترون اسپاترینگ و پوشش داده شده با بخار درون خطی تقسیم میشوند. از آنجایی که روش تهیه فیلم متفاوت است، روش برداشتن فیلم نیز متفاوت است. پیشنهاد 1، استفاده از اسید هیدروکلریک و پودر روی برای پرداخت و سابیدن...
۱، هنگامی که اجزای خلاء، مانند شیرها، تلهها، گردگیرها و پمپهای خلاء، به یکدیگر متصل میشوند، باید سعی کنند خط لوله پمپاژ کوتاه باشد، راهنمای جریان خط لوله بزرگ باشد و قطر مجرا عموماً از قطر پورت پمپ کوچکتر نباشد، ...
1، اصل فناوری پوشش یونی در خلاء با استفاده از فناوری تخلیه قوس در خلاء در یک محفظه خلاء، نور قوس روی سطح ماده کاتدی ایجاد میشود و باعث تشکیل اتمها و یونها روی ماده کاتدی میشود. تحت تأثیر میدان الکتریکی، پرتوهای اتم و یون، ماده کاتدی را بمباران میکنند...