Velkommen til Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nyheder
-
Typer af CVD-teknologi
Groft sagt kan CVD groft opdeles i to typer: den ene er dampaflejring af et enkeltkrystal-epitaksialt lag på substratet, hvilket snævert er CVD; den anden er aflejring af tynde film på substratet, herunder multiprodukt- og amorfe film. Ifølge ...Læs mere -
Transmissions- og reflektansspektre og farve af optiske tyndfilm Kapitel 2
Ud fra dette er vi ved at afklare: (1) tyndfilmskomponenter, transmittans, reflektansspektre og farven i det tilsvarende forhold mellem, det vil sige, et spektrum af en farve; tværtimod er dette forhold "ikke unikt", manifesteret som et farvemultispektrum. Derfor er filmens...Læs mere -
Transmissions- og reflektansspektre og farve af optiske tyndfilm Kapitel 1
Transmissions- og reflektansspektre og farver i optiske tyndfilm er to karakteristika for tyndfilmsenheder, der eksisterer på samme tid. 1. Transmissions- og reflektansspektret er forholdet mellem reflektans og transmittans i optiske tyndfilmsenheder med bølgelængden. Det er c...Læs mere -
AF tyndfilmfordampningsoptisk PVD-vakuumbelægningsmaskine
AF tyndfilmsfordampningsoptisk PVD-vakuumbelægningsmaskine er designet til at påføre tyndfilmbelægninger på mobile enheder ved hjælp af PVD-processen (fysisk dampaflejring). Processen involverer at skabe et vakuummiljø i et belægningskammer, hvor faste materialer fordampes og derefter aflejres...Læs mere -
Maskine til fremstilling af spejle i aluminium og sølv
Maskinen til vakuumbelægning af spejle med aluminium-sølv har revolutioneret spejlindustrien med sin avancerede teknologi og præcisionsteknik. Denne topmoderne maskine er designet til at påføre et tyndt lag aluminium-sølv på glasoverfladen og skaber spejle af høj kvalitet...Læs mere -
Optisk vakuumbelægningsmaskine
Den optiske vakuummetallisator er en banebrydende teknologi, der har revolutioneret overfladebelægningsindustrien. Denne avancerede maskine bruger en proces kaldet optisk vakuummetallisering til at påføre et tyndt lag metal på en række forskellige underlag, hvilket skaber en meget reflekterende og holdbar overflade...Læs mere -
Plasmaforstærket kemisk dampaflejring Kapitel 2
De fleste kemiske grundstoffer kan fordampes ved at kombinere dem med kemiske grupper, f.eks. reagerer Si med H for at danne SiH4, og Al kombineres med CH3 for at danne Al(CH3). I den termiske CVD-proces absorberer ovenstående gasser en vis mængde termisk energi, når de passerer gennem det opvarmede substrat og danner re...Læs mere -
Plasmaforstærket kemisk dampaflejring Kapitel 1
Kemisk dampaflejring (CVD). Som navnet antyder, er det en teknik, der bruger gasformige precursorreaktanter til at generere faste film ved hjælp af atomare og intermolekylære kemiske reaktioner. I modsætning til PVD udføres CVD-processen for det meste i et miljø med højere tryk (lavere vakuum), hvor...Læs mere -
Proceselementer og handlingsmekanismer, der påvirker kvaliteten af tyndfilmskomponenter (del 2)
3. Indflydelse af substrattemperatur Substrattemperatur er en af de vigtige betingelser for membranvækst. Den giver yderligere energi til membranatomerne eller -molekylerne og påvirker primært membranstrukturen, agglutinationskoefficienten, ekspansionskoefficienten og aggregeringen...Læs mere -
Procesfaktorer og mekanismer, der påvirker kvaliteten af tyndfilmskomponenter (del 1)
Fremstillingen af optiske tyndfilmsanordninger udføres i et vakuumkammer, og væksten af filmlaget er en mikroskopisk proces. Imidlertid er de makroskopiske processer, der i øjeblikket kan kontrolleres direkte, nogle makroskopiske faktorer, der har en indirekte sammenhæng med kvaliteten...Læs mere -
Introduktion til udviklingen af fordampningsteknologiens historie
Processen med at opvarme faste materialer i et højvakuummiljø for at sublimere eller fordampe og aflejre dem på et specifikt substrat for at opnå en tynd film er kendt som vakuumfordampningsbelægning (benævnt fordampningsbelægning). Historien om fremstillingen af tyndfilm ved vakuumfordampning...Læs mere -
Introduktion til ITO-belægning
Indiumtinoxid (Indiumtinoxid, kaldet ITO) er et bredt båndgab, stærkt doteret n-type halvledermateriale med høj synligt lystransmission og lav resistivitet, og derfor meget anvendt i solceller, fladskærme, elektrokrome vinduer, uorganiske og organiske...Læs mere -
Lab vakuum spin belægningsmaskine
Laboratorievakuum-spincoatere er vigtige værktøjer inden for tyndfilmsaflejring og overflademodifikation. Dette avancerede udstyr er designet til præcist og jævnt at påføre tyndfilm af en række forskellige materialer på substrater. Processen involverer påføring af en flydende opløsning eller suspension...Læs mere -
Ionstråleassisteret aflejringstilstand og dens energivalg
Der er to hovedmetoder til ionstråleassisteret aflejring, den ene er dynamisk hybrid; den anden er statisk hybrid. Førstnævnte refererer til, at filmen i vækstprocessen altid ledsages af en bestemt energi og strålestrøm af ionbombardement og film; sidstnævnte er foruddeponeret på overfladen af ...Læs mere -
Ionstråleaflejringsteknologi
① Ionstråleassisteret aflejringsteknologi er kendetegnet ved stærk vedhæftning mellem filmen og substratet, hvor filmlaget er meget stærkt. Eksperimenter har vist, at: ionstråleassisteret aflejring har en flere gange større vedhæftning end termisk dampaflejring, op til hundredvis ...Læs mere
