Welkom by Guangdong Zhenhua Tegnologie Co., Ltd.
Bedryfsnuus
-
Nano Keramiek Vakuumbedekkingsmasjien
Nano-keramiek vakuumbedekkingsmasjien is 'n moderne tegnologie wat 'n vakuumafsettingsproses gebruik om dun lae keramiekmateriale op verskeie substrate te bedek. Hierdie gevorderde bedekkingsmetode bied baie voordele, insluitend verhoogde hardheid, verbeterde termiese stabiliteit en superieure weerstand...Lees meer -
Verskeie algemene teikenmateriale
1. Chroomteiken Chroom as 'n sputterfilmmateriaal is nie net maklik om met die substraat te kombineer met hoë adhesie nie, maar ook chroom en oksied om CrO3-film te genereer, die meganiese eienskappe, suurweerstand, termiese stabiliteit is beter. Boonop is chroom in die onvolledige oksidasie...Lees meer -
Ioonstraal-ondersteunde afsettingstegnologie
1. Ioonbundel-ondersteunde afsettingstegnologie word gekenmerk deur sterk adhesie tussen die membraan en die substraat, die membraanlaag is baie sterk. Eksperimente toon dat: ioonbundel-ondersteunde afsetting van adhesie as die adhesie van termiese dampafsetting verskeie kere tot honderd toegeneem het...Lees meer -
Reaktiewe Sputterbedekkingseienskappe en Toepassings
In die verstuiwingsbedekkingsproses kan verbindings as teikens gebruik word vir die voorbereiding van chemies gesintetiseerde films. Die samestelling van die film wat gegenereer word na verstuiwing van die teikenmateriaal wyk egter dikwels baie af van die oorspronklike samestelling van die teikenmateriaal, en daarom...Lees meer -
Metaalfilmweerstand Temperatuurkoëffisiënt Eienskappe
Metaalfilmweerstandstemperatuurkoëffisiënt wissel met filmdikte, dun films is negatief, dik films is positief, en dikker films is soortgelyk maar nie identies aan grootmaatmateriale nie. Oor die algemeen verander die weerstandstemperatuurkoëffisiënt van negatief na positief...Lees meer -
Ioonbedekkingseienskappe en Toepassing Hoofstuk 2
③ Hoë kwaliteit van die deklaag Aangesien ioonbombardement die digtheid van die membraan kan verbeter, die organisatoriese struktuur van die membraan kan verbeter, wat die eenvormigheid van die membraanlaag goed maak, digte plate-organisasie, minder gaatjies en borrels, wat die kwaliteit van die membraan verbeter ...Lees meer -
Ioonbedekkingseienskappe en Toepassing - Hoofstuk 1
In vergelyking met verdampingsplatering en verstuiwingsplatering, is die belangrikste kenmerk van ioonplatering dat die energieke ione die substraat en die filmlaag bombardeer terwyl afsetting plaasvind. Die bombardement van gelaaide ione produseer 'n reeks effekte, hoofsaaklik soos volg. ① Membraan / basis...Lees meer -
Spesiale Magnetiese Beheerbedekkingstoerusting vir Kleurfilm
Die spesiale magnetron-bedekkingstoerusting vir kleurfilm gebruik die krag van 'n magnetiese veld om die afsetting van bedekkingsmateriaal op die filmsubstraat akkuraat te beheer. Hierdie innoverende tegnologie maak ongeëwenaarde eenvormigheid en konsekwentheid tydens die bedekkingsproses moontlik, wat lei tot hoë kwaliteit...Lees meer -
Horlosie-sputterbedekkingsmasjien
Die horlosie-sputterbedekkingsmasjien gebruik die fisiese dampafsettingsproses (PVD) om 'n dun lagie bedekkingsmateriaal op horlosie-onderdele aan te wend. Die metode bied uitstekende adhesie, eenvormige bedekking en 'n verskeidenheid bedekkingsopsies, insluitend metaal-, keramiek- en diamantagtige koolstof. Gevolglik...Lees meer -
Oksidasiebestande filmbedekkingsmasjien
Die oksidasiebestande filmbedekkingsmasjien is 'n baanbrekende tegnologie wat 'n beskermende laag bied om oksidasie te voorkom en die duursaamheid en langlewendheid van metaalkomponente te verbeter. Hierdie masjien wend 'n dun filmbedekking aan op die oppervlak van materiale, wat 'n versperring teen korrosie skep ...Lees meer -
Geïntegreerde lampbeskermende filmtoerusting
Die insluiting van gevorderde tegnologie in moderne beligtingsarmature verbeter hul werkverrigting en doeltreffendheid aansienlik. Dit maak hulle egter ook meer vatbaar vir skade as gevolg van verskeie eksterne faktore. Om hierdie waardevolle bates te beskerm en hul lewensduur te maksimeer, is...Lees meer -
Teikenkeuse en Klassifikasie
Met die toenemende ontwikkeling van sputterbedekking, veral magnetron-sputterbedekkingstegnologie, kan tans vir enige materiaal voorberei word deur ioonbombardement-teikenfilm, omdat die teiken gesputter word in die proses om dit op 'n soort substraat te bedek, die kwaliteit van die meet...Lees meer -
Vlekvrye staal plasmabedekkingsmasjien
In onlangse nuus het die vraag na vlekvrye staalprodukte toegeneem as gevolg van die uitstekende korrosiebestandheid en moderne estetiese aantrekkingskrag daarvan. Gevolglik soek vervaardigers voortdurend na nuwe en verbeterde metodes vir die bedekking van vlekvrye staal om aan die groeiende markvraag te voldoen. Dit is waar...Lees meer -
Kraan Goud Vakuumbedekkingsmasjien
Die bekendstelling van die toonaangewende goudvakuumbedekkingsmasjien is 'n belangrike ontwikkeling op die gebied van oppervlakbedekkingstegnologie. Tradisioneel is die aanwending van goudbedekkings 'n komplekse en duur proses wat gespesialiseerde toerusting en bekwame tegnici vereis. Hierdie nuwe masjien belowe egter...Lees meer -
Faktore wat filmvorming beïnvloed Hoofstuk 2
(4) Teikenmateriaal. Teikenmateriaal is die sleutel tot verstuiwingsbedekking, in die algemeen, solank die teikenmateriaal aan die vereistes voldoen, en streng beheer van die prosesparameters kan vereis word om die filmlaag te kry. Onsuiwerhede in die teikenmateriaal en oppervlakoksiede en ander onsuiwer stowwe...Lees meer
