Nínú ìmọ̀ ẹ̀rọ ojú ilẹ̀ òde òní, Physical Vapor Deposition (PVD) ti di ìmọ̀ ẹ̀rọ ìbòrí ìgbálẹ̀ pàtàkì nítorí iṣẹ́ fíìmù tó dára àti àwọn ànímọ́ tó bá àyíká mu. Àpilẹ̀kọ yìí pèsè àgbéyẹ̀wò jíjinlẹ̀ nípa àwọn ìlànà, ìpínsísọ̀rí, àti àwọn ohun tí a lè lò fún ìmọ̀ ẹ̀rọ PVD, ó sì fún àwọn ògbóǹkangí ní ìmọ̀ ẹ̀rọ.
No.1 Awọn Ilana Ipilẹ ti Imọ-ẹrọ PVD
PVD jẹ́ ìlànà kan tí a ń ṣe lábẹ́ àwọn ipò afẹ́fẹ́ (nígbà gbogbo ≤10⁻³ Pa), níbi tí a ti ń fi ohun èlò ìbòrí kan sínú omi ara, lẹ́yìn náà a máa ń kó o jọ sínú ojú ilẹ̀ láti ṣe fíìmù tín-ínrín. Ọ̀nà yìí ni a fi ń ṣe àfihàn rẹ̀:
Iwọn otutu ti o kere ju ti a fi pamọ (ni gbogbogbo <500°C)
Ti o ga julọ ninu fiimu ati akopọ ti a le ṣakoso
Kò sí omi ìdọ̀tí tí ó lè tú jáde (kò sí omi ìdọ̀tí tí ó lè tú jáde)
Iṣakoso deede ipele nanometer
Ìpínsísọ̀rí Nọ́mbà 2 tiAwọn ohun elo PVDtÀwọn iṣẹ́
1. Àwọ̀ Ìtújáde Afẹ́fẹ́
Ìtújáde èéfín jẹ́ gbígbóná ohun èlò ìbòrí títí tí yóò fi dé ìwọ̀n ìfúnpá èéfín rẹ̀ tí ó kún tí yóò sì gbẹ. Àwọn irú tí ó wọ́pọ̀ ni:
Ìtújáde ooru tó ń dínkù
Ó ń lo àwọn irin tí kò ní agbára bíi tungsten tàbí molybdenum gẹ́gẹ́ bí àwọn ohun èlò ìgbóná. Ó dára fún àwọn ohun èlò tí kò ní agbára ìyọ́ bíi aluminiomu (Al) àti fàdákà (Ag).
Ìtújáde Ẹ̀rọ Elékítírónù (EB-PVD)
Ó ń lo ìbọn elekitironi (10–30 kV) láti fi bọ́m̀bù lu ohun tí a fẹ́ lò, èyí tí ó ń mú kí iwọ̀n otútù tó wà ní àdúgbò rẹ̀ ju 3000°C lọ. Ó dára fún àwọn oxides tó ń yọ́ jáde.
Ìwọ̀n Ìlà Mọ́kúlúùlù (MBE)
Ọ̀nà tí ó péye gan-an tí a ṣe lábẹ́ ìgbálẹ̀ gíga (≤10⁻⁸ Pa), èyí tí ó fún ni láyè láti ṣàkóso ìpele atomiki fún ìdàgbàsókè fíìmù epitaxial.
2. Ìfipamọ́ Sputtering
Sísọ omi jẹ́ àwọn èròjà alágbára gíga tí wọ́n ń bọ́ omi sí ohun èlò kan, tí wọ́n sì ń yọ àwọn átọ̀mù tí ó ń wọ́ sí orí ohun èlò náà jáde. Àwọn irú sísọ omi pàtàkì ni:
DC Sputtering (Láti ọwọ́ tààrà)
Ọ̀nà ìfọ́nká ìpìlẹ̀; ibi-àfojúsùn gbọ́dọ̀ jẹ́ ọ̀nà ìdarí iná mànàmáná.
Ìfọ̀rọ̀wérọ̀ RF (Ìgbàkúgbà Rédíò)
Nṣiṣẹ ni 13.56 MHz, gbigba sputtering ti awọn ohun elo idabobo.
Magnetron Sputtering
Iru Iwontunwonsi: Agbara aaye oofa ti Gauss 100–300 kọja oju ibi ti a fojusi
Iru Ailabawọn: Ilọsiwaju itankale pilasima fun ifipamọ to dara julọ
Kathode Twin Frequency Mid-Frequency: Yanjú ìṣòro “ìpalára àfojúsùn” nínú ìfọ́mọ́ra oníṣẹ́-abẹ
Agbara giga ti o ni agbara giga (HIPIMS): Awọn oṣuwọn ionization ju 90% lọ, ṣiṣe awọn fiimu ti o ni iwuwo pupọ, ti kii ṣe ọwọn
No.3 Awọn Ohun elo Aṣoju ti Imọ-ẹrọ PVD
Àwọn Ohun Èlò Ìbòrí
Àwọn ìbòrí líle bíi TiN, TiAlN (líle >3000 HV)
Lilo pupọ fun awọn irinṣẹ gige ati imudara dada m
Àwọn Àwọ̀ Ohun Ọ̀ṣọ́
Àwọn ìparí bíi wúrà nípa lílo ZrN, TiZrN
A lo si awọn fireemu foonu alagbeka, awọn ohun elo baluwe, ati awọn ọja alabara
Àwọn Fíìmù Tínrín Iṣẹ́-ṣíṣe
Àwọn fíìmù amúgbálẹ́gbẹ̀ẹ́ tí ó ní ìdènà ìwé <10 Ω/□
Àwọn ìbòrí tí ó lòdì sí àwọ̀ ojú pẹ̀lú ìtànṣán ìmọ́lẹ̀ tí ó hàn gbangba >99%
Àpò Semiconductor
Ìṣẹ̀dá irin ìpele wafer (àwọn ìsopọ̀ Al, Cu)
Ìfipamọ́ ìpele ìdènà nípa lílo TaN, TiN fún ìdènà ìtànkálẹ̀
-A gbé àpilẹ̀kọ yìí jáde láti ọwọ́ àwọn olùgbékalẹ̀ rẹ̀ẹrọ fifọ ideri igbale Zhenhua Vacuum.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Kẹfà-18-2025