Jarayon elementlari va nozik plyonkali qurilmalar sifatiga ta'sir qiluvchi mexanizmlar (2-qism)

3. Substrat haroratining ta'siri

Substrat harorati membrana o'sishi uchun muhim shartlardan biridir. U membrana atomlari yoki molekulalarini qo'shimcha energiya bilan ta'minlaydi va asosan membrananing tuzilishiga, aglutinatsiya koeffitsientiga, kengayish koeffitsientiga va agregatsiya zichligiga ta'sir qiladi. Filmning sinishi indeksidagi makroskopik aks etish, tarqalish, kuchlanish, yopishish, qattiqlik va erimaslik har xil substrat harorati tufayli juda farq qiladi.

(1) Sovuq substrat: odatda metall plyonkaning bug'lanishi uchun ishlatiladi.

(2) Yuqori haroratning afzalliklari:

① Substrat yuzasida adsorbsiyalangan qoldiq gaz molekulalari substrat va biriktirilgan molekulalar orasidagi bog'lanish kuchini oshirish uchun chiqariladi;

(2) Jismoniy adsorbsiyani kino qatlamining kimyosorbsiyasiga aylantirishni rag'batlantirish, molekulalar orasidagi o'zaro ta'sirni kuchaytirish, plyonkani qattiq qilish, yopishqoqlikni oshirish va mexanik kuchni yaxshilash;

③ Bug 'molekulyar qayta kristallanish harorati va substrat harorati o'rtasidagi farqni kamaytiring, plyonka qatlamining zichligini yaxshilang, ichki stressni bartaraf etish uchun plyonka qatlamining qattiqligini oshiring.

(3) Juda yuqori haroratning kamchiliklari: plyonka qatlamining tuzilishi o'zgaradi yoki kino materiali parchalanadi.

4. Ion bombardimonining ta’siri

Qoplagandan keyin bombardimon qilish: plyonkaning yig'ilish zichligini yaxshilash, kimyoviy reaktsiyani kuchaytirish, oksid plyonkasining sinishi indeksini, mexanik kuch va qarshilik va yopishqoqlikni oshirish. Nurning shikastlanish chegarasi ortadi.
5. Substrat materialining ta'siri

(1) Substrat materialining turli xil kengayish koeffitsienti plyonkaning turli termal stressiga olib keladi;

(2) Turli xil kimyoviy yaqinlik filmning yopishqoqligi va mustahkamligiga ta'sir qiladi;

(3) Substratning pürüzlülüğü va nuqsonlari nozik kino tarqalishining asosiy manbalari hisoblanadi.
6. Substratni tozalashning ta'siri

Substrat yuzasida axloqsizlik va yuvish vositalarining qoldiqlari quyidagilarga olib keladi: (1) plyonkaning substratga yomon yopishishi; ② Tarqalishning yutilishi kuchayadi, anti-lazer qobiliyati yomon; ③ Yorug'lik o'tkazuvchanligi yomon.

Kino materialining kimyoviy tarkibi (tozalik va nopoklik turlari), fizik holati (chang yoki blok) va dastlabki ishlov berish (vakuumli sinterlash yoki zarb qilish) filmning tuzilishi va ishlashiga ta'sir qiladi.

8. Bug'lanish usulining ta'siri

Molekulalar va atomlarni bug'lash uchun turli xil bug'lanish usullari bilan ta'minlangan boshlang'ich kinetik energiya juda farq qiladi, buning natijasida plyonka strukturasida katta farq paydo bo'ladi, bu esa sinishi indeksi, tarqalish va yopishishdagi farq sifatida namoyon bo'ladi.

9. Bug'ning tushishi ta'siri Burchak

Bug 'insidenti burchagi bug' molekulyar nurlanish yo'nalishi va qoplangan substratning normal yuzasi orasidagi burchakka ishora qiladi, bu plyonkaning o'sish xususiyatlariga va agregatsiya zichligiga ta'sir qiladi va filmning sinishi indeksi va tarqalish xususiyatlariga katta ta'sir ko'rsatadi. Yuqori sifatli plyonkalarni olish uchun plyonka materialining bug 'molekulalarining inson emissiya burchagini nazorat qilish kerak, bu odatda 30 ° bilan cheklanishi kerak.

10. Pishirish bilan ishlov berishning ta'siri

Atmosferadagi plyonkani issiqlik bilan ishlov berish stressni chiqarishga va atrof-muhit gaz molekulalari va kino molekulalarining termal migratsiyasiga yordam beradi va kino rekombinatsiyasining tuzilishini yaratishi mumkin, shuning uchun u filmning sinishi indeksiga, stressiga va qattiqligiga katta ta'sir ko'rsatadi.